观察装置制造方法及图纸

技术编号:16307560 阅读:87 留言:0更新日期:2017-09-27 01:33
本发明专利技术提供的观察装置,能够以10微米以下的分辨率并且超过45度的较大倾斜角来观察例如24.6×24.6mm左右的物体面。观察装置(10)具备感光面(20)和使来自物体面S的光在感光面(20)成像的成像光学系统(30)。成像光学系统(30)包括凹面主镜(32)、副镜(34)以及引出平面镜(36)。来自物体面(S)的光的光束按照凹面主镜(32)、凸面副镜(34)、凹面主镜(32)的顺序反射后,经由引出平面镜(36)而在感光面(20)成像。观察装置(10)具备:第一倾转单元,其能够使从物体面(S)朝向凹面主镜(32)的光的光轴(L1)与物体面(S)的垂线(N1)所成的角度(α)变化;第二倾转单元,其能够使从引出平面镜(36)朝向感光面(20)的光的光轴(L2)与感光面(20)的垂线(N2)所成的角度(β)变化。

Observation device

The observation device provided by the invention can observe an object surface, such as 24.6 * 24.6mm, at a resolution of less than 10 microns and a larger inclination angle of more than 45 degrees. An observing device (10) has an optical imaging system (30) having a photosensitive surface (20) and light from an object surface S that is imaged on a photosensitive surface (20). The imaging optical system (30) includes a concave primary mirror (32), a secondary mirror (34), and a leading out planar mirror (36). The beam of light from the object surface (S) is reflected in the order of the concave primary mirror (32), the convex sub mirror (34) and the concave primary mirror (32) and then imaged on the photosensitive surface (20) through the extraction planar mirror (36). The observation device (10) includes a first tilting unit, which can make from the object surface (S) toward the concave mirror (32) axis light (L1) and the object surface (S) vertical line (N1) by the angle (alpha) change; second tilting unit, which can make the out of plane mirror (36) toward the photosensitive surface (20) of the optical axis (L2) and photosensitive surface (20) of the vertical line (N2) by the angle (beta) changes.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】观察装置
本专利技术涉及观察装置。
技术介绍
例如为了检查印制电路板的缺陷,而要求不仅观察印制电路板表面的二维形状,还要观察印制电路板表面的三维形状。即,要求一边观察印制电路板的表面的二维形状(XY面形状)、一边观察其表面的凹凸形状的高度(=Z轴方向高度)。通过从正上方观察印制电路板的表面,能够测定该基板表面的二维形状。但是为了获得Z轴方向的高度信息,需要从倾斜方向观察基板表面的凹凸形状。例如,若从倾斜方向观察基板表面,则所观察的图像的近前侧的宽度变宽,而里侧的宽度变窄。在此,若使焦点与所观察的图像的中央对齐,则在近前侧和里侧焦点不一致,因此在中央以外的部分无法获得鲜明的图像。在近前侧和里侧焦点不一致是由于在通常的光学系统中,像面和物体面相对于光轴垂直配置而引起的。为了在包括近前侧和里侧的整个面使焦点一致,需要使像面相对于光轴倾斜,并且像面和物体面需要满足沙伊姆弗勒条件(Scheimpflugcondition)。另外,为了以相同的宽度观察近前侧和里侧,需要使用物体侧和像侧均为远心的光学系统。本专利技术人已经提出过能够从倾斜方向测量物体面的测量装置的专利技术(参见专利文献1)。该测量本文档来自技高网...
观察装置

【技术保护点】
一种观察装置,具备:对来自物体面的光进行感光的感光面、和使来自所述物体面的光在所述感光面成像的成像光学系统,所述观察装置的特征在于,所述成像光学系统由等倍反射型成像光学系统构成,该等倍反射型成像光学系统包括:凹面主镜、凸面副镜以及引出平面镜,能够使来自所述物体面的光的光束按照所述凹面主镜、所述凸面副镜、所述凹面主镜的顺序反射后,经由所述引出平面镜而在所述感光面成像,所述观察装置具备:第一倾转单元,其能够使从所述物体面朝向所述凹面主镜的光的光轴与所述物体面的垂线所成的角度α变化;和第二倾转单元,其能够使从所述引出平面镜朝向所述感光面的光的光轴与所述感光面的垂线所成的角度β变化。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.02.05 JP 2015-021165;2015.06.17 JP 2015-121631.一种观察装置,具备:对来自物体面的光进行感光的感光面、和使来自所述物体面的光在所述感光面成像的成像光学系统,所述观察装置的特征在于,所述成像光学系统由等倍反射型成像光学系统构成,该等倍反射型成像光学系统包括:凹面主镜、凸面副镜以及引出平面镜,能够使来自所述物体面的光的光束按照所述凹面主镜、所述凸面副镜、所述凹面主镜的顺序反射后,经由所述引出平面镜而在所述感光面成像,所述观察装置具备:第一倾转单元,其能够使从所述物体面朝向所述凹...

【专利技术属性】
技术研发人员:上原诚
申请(专利权)人:株式会社目白六七
类型:发明
国别省市:日本,JP

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