The invention provides a polishing composition, even if it is used for grinding with standard electrode potential for polishing object transition metal above 0.45V and 0.33V of the following, is not easy to produce etching, corrosion on the polishing object. Abrasive compositions contain abrasive particles and organic compounds for metal protection. For the protection of metal organic compounds containing functional group interaction and inhibition of functional groups, the interaction with the functional groups containing functional groups are standard electrode potentials for polishing object transition metal above 0.45V and below 0.33V interaction, the inhibition of functional groups is suppressed when abrasive polishing object close close to functional groups.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】研磨用组合物以及研磨方法
本专利技术涉及研磨用组合物以及研磨方法。
技术介绍
为了抑制研磨用组合物对金属的蚀刻、腐蚀，金属的研磨中所使用的研磨用组合物中添加了防腐蚀剂、表面活性剂(例如参见专利文献1)。但是，由于金属的种类不同，防腐蚀剂、表面活性剂有时会促进蚀刻、腐蚀。尤其是，标准电极电位为-0.45V以上且0.33V以下的过渡金属具有对水、酸、络合剂、氧化剂等化学试剂的耐性弱的性质，因此有促进蚀刻、腐蚀的倾向。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2009-81300号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题因此，本专利技术的课题在于，解决如上所述的现有技术所具有的问题，提供一种即使用于对含有标准电极电位为-0.45V以上且0.33V以下的过渡金属的研磨对象物的研磨时，也不容易对研磨对象物产生蚀刻、腐蚀的研磨用组合物以及研磨方法。用于解决问题的方案为了解决前述问题，本专利技术的一个方案的研磨用组合物的主旨在于，其是一种用于对含有标准电极电位为-0.45V以上且0.33V以下的过渡金属的研磨对象物进行研磨的研磨用组合物，所述研磨用组合物含有磨粒以及金属保护用有机化合...
【技术保护点】
一种研磨用组合物，其用于对含有标准电极电位为‑0.45V以上且0.33V以下的过渡金属的研磨对象物进行研磨，所述研磨用组合物含有磨粒以及金属保护用有机化合物，所述金属保护用有机化合物具有相互作用官能团和抑制官能团，所述相互作用官能团是与所述研磨对象物相互作用的官能团，所述抑制官能团是抑制所述磨粒接近所述研磨对象物的官能团。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.02.24 JP 2015-0339381.一种研磨用组合物，其用于对含有标准电极电位为-0.45V以上且0.33V以下的过渡金属的研磨对象物进行研磨，所述研磨用组合物含有磨粒以及金属保护用有机化合物，所述金属保护用有机化合物具有相互作用官能团和抑制官能团，所述相互作用官能团是与所述研磨对象物相互作用的官能团，所述抑制官能团是抑制所述磨粒接近所述研磨对象物的官能团。2.根据权利要求1所述的研磨用组合物，其中，所述相互作用官能团的酸解离常数pKa为1以上且6以下...
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。