X射线靶及具备该X射线靶的X射线产生装置制造方法及图纸

本发明专利技术的目的在于提供一种X射线靶及具备该X射线靶的X射线产生装置，可以防止照射窗的破裂。X射线靶(4)将支撑照射窗(41)的框架分成靠近照射窗(41)的第1框架(42)及其外侧的第2框架(43)，并分别使用不同的材料。利用热膨胀率为1×10

X ray target and X ray producing device having the same X ray target

The object of the present invention is to provide a X ray target and a X ray producing device having the X ray target, which can prevent the rupture of an irradiation window. The X ray target (4) divides the frame of the support radiation window (41) into a first frame (42) near the irradiation window (41) and a second frame (43) on the outside, and uses different materials respectively. The thermal expansion rate is 1 * 10

【技术实现步骤摘要】
X射线靶及具备该X射线靶的X射线产生装置
本专利技术涉及一种包括使靶材成膜于表面的照射窗的X射线靶及具备该X射线靶的X射线产生装置。
技术介绍
先前，X射线产生装置(X射线管)有图2(b)所示的反射型的类型及图2(a)所示的穿透型的类型。在反射型的类型中，对靶照射电子束(electronbeam)B，朝向与电子束B不同的方向(例如正交方向)射出来自靶的X射线(图2(a)及图2(b)中以“Xray”表示)。另一方面，在穿透型的类型中，对靶照射电子束B，通过来自靶的X射线穿透靶，而向与电子束B相同的方向射出X射线。当在能够非破坏性地观察试样的内部的微聚焦X射线检查装置中使用X射线管时，需要使作为X射线源的靶与试样尽可能地接近。在反射型的类型中，按照收容靶的真空容器与靶之间的距离程度，无法使靶与试样接近。与此相对，在穿透型的类型中，通过将使靶材成膜的照射窗安装于真空容器，可以使靶与试样相互接近至大致可接触的位置。其结果为，可以高度放大地观察试样。在穿透型的类型的靶(穿透型靶)中，对于支撑靶膜的基材，需要X射线的吸收少以及导热率好。金刚石满足这两方面的要求，因此作为基材优越，从而被提出使用(本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种X射线靶，其特征在于包括：照射窗，使靶材成膜于表面；第1框架，与所述照射窗接合，支撑所述照射窗；以及第2框架，未与所述照射窗接合，而与所述第1框架接合，支撑所述第1框架，由金属形成；并且以所述照射窗与所述第1框架的热膨胀率的差小于所述照射窗与所述第2框架的热膨胀率的差的方式而构成。

【技术特征摘要】
2016.03.14 JP 2016-0499601.一种X射线靶，其特征在于包括：照射窗，使靶材成膜于表面；第1框架，与所述照射窗接合，支撑所述照射窗；以及第2框架，未与所述照射窗接合，而与所述第1框架接合，支撑所述第1框架，由金属形成；并且以所述照射窗与所述第1框架的热膨胀率的差小于所述照射窗与所述第2框架的热膨胀率的差的方式而构成。2.根据权利要求1所述的X射线靶，其特征在于：所述第1框架设置于所述照射窗的外周，所述第2框架设置于所述第1框架的外周。...

【专利技术属性】
技术研发人员：前田裕树，
申请(专利权)人：株式会社岛津制作所，
类型：发明
国别省市：日本,JP