The utility model discloses a low ripple filter, which is composed of a glass substrate, high reflection film and antireflection film, high reflection film is arranged at one side of the surface of the glass substrate, the other side surface antireflection film is arranged on the glass substrate; the high reflection film and antireflection film with multilayer structure is made more than five oxidation two tantalum reflective dielectric layers and a plurality of silica dielectric layers alternately stacked reflection and. The high reflection film is composed of 44 five two oxide layers and 44 tantalum reflective dielectric reflection silica dielectric layer, first layer five oxidation two tantalum reflecting medium layer close to the surface of the glass substrate, second layers of silica reflecting medium layer. Due to the adoption of the above structure type, high reflection film of filter layers and the thickness of the reasonable design, has the characteristics of high isolation, can make the reflection isolation is greater than 20dB.
【技术实现步骤摘要】
低波纹滤光片
本技术涉及光学设备,特别是一种低波纹滤光片。
技术介绍
光纤通信的热点必然是光纤到户(FTTH)和FTTP,这是大家引颈期盼的。FTTH满足了数据、语音、CATV等综合业务对高带宽的需求。通常采用1310/1490/1550nm三波长单纤三向传输技术.这种传输技术是将1550nm窗口用于下行模拟CATV传输,将无制冷1310nm半导体激光二极管光源用于众多的终端用户的上行传输,下行的数字传改用1490nm窗口,通过类WDM的方式将此三方向传输复用到一根光纤中,即三端口高隔离度WDM的技术。但FTTH要得到普及,关键是降低接入成本。为进一步降低接入成本,采用单纤三向传输技术来实现这种综合业务的传输已经逐渐成为FTTH技术发展的一个主流,这种传输技术采用了点对多点传输方式,节省设备投资,局端设备和光纤用量大大减少,系统可靠性较高。目前,采用普通CWDM滤光片(Filter)的结构来生产三端口高隔离度WDM器件,难以实现高隔离度,因为现有的镀膜技术还不够完善,滤波片单次透射隔离度可以达到-45dB以上,但单次反射隔离一般只能做到-15dB,故需要对滤光片的 ...
【技术保护点】
一种低波纹滤光片,其特征在于:它是由玻璃基板、高反膜和增透膜构成,高反膜设在玻璃基板的一侧表面,增透膜设在玻璃基板的另一侧表面;所述高反膜和增透膜都采用多层结构,都是由多个五氧化二钽反射介质层和多个二氧化硅反射介质层交替叠放而成,所述高反膜是由44个五氧化二钽反射介质层和44个二氧化硅反射介质层构成,第1层为五氧化二钽反射介质层,紧贴在玻璃基板的表面,第2层为二氧化硅反射介质层,紧贴在第1层的表面,第3层为五氧化二钽反射介质层,紧贴在第2层的表面,以此类推,第88层为二氧化硅反射介质层;所述高反膜中,第1层的厚度为357.333um、第2层的厚度为142.3195um、第3 ...
【技术特征摘要】
1.一种低波纹滤光片,其特征在于:它是由玻璃基板、高反膜和增透膜构成,高反膜设在玻璃基板的一侧表面,增透膜设在玻璃基板的另一侧表面;所述高反膜和增透膜都采用多层结构,都是由多个五氧化二钽反射介质层和多个二氧化硅反射介质层交替叠放而成,所述高反膜是由44个五氧化二钽反射介质层和44个二氧化硅反射介质层构成,第1层为五氧化二钽反射介质层,紧贴在玻璃基板的表面,第2层为二氧化硅反射介质层,紧贴在第1层的表面,第3层为五氧化二钽反射介质层,紧贴在第2层的表面,以此类推,第88层为二氧化硅反射介质层;所述高反膜中,第1层的厚度为357.333um、第2层的厚度为142.3195um、第3层的厚度为705.6885um、第4层的厚度为193.0970um、第5层的厚度为387.9135um、第6层的厚度为183.0175um、第7层的厚度为410.0675um、第8层的厚度为200.1745um、第9层的厚度为394.9815um、第10层的厚度为199.9750um、第11层的厚度为400.2635um、第12层的厚度为220.6660um、第13层的厚度为382.2610um、第14层的厚度为228.6270um、第15层的厚度为385.2060um、第16层的厚度为245.2995um、第17层的厚度为369.4645um、第18层的厚度为251.9020um、第19层的厚度为375.9150um、第20层的厚度为257.9155um、第21层的厚度为364.1540um、第22层的厚度为258.9795um、第23层的厚度为374.1670um、第24层的厚度为259.7490um、第25层的厚度为363.4605um、第26层的厚度为258.8465um、第27层的厚度为375.269um、第28层的厚度为258.7800um、第29层的厚度为363.6505um、第30层的厚度为257.7445um、第31层的厚度为376.3520um、第32层的厚度为258.3620um、第33层的厚度为363.1565um、第34层的厚度为258.1625um、第35层的厚度为376.6845um、第36层的厚度为259.4070um、第37层的厚度为362.0925um、第38层的厚度为259.2075um、第39层的厚度为377.2450um、第40层的厚度为258.7895um、第41层的厚度为361.1615um、第42层的厚度为261.2500um、第43层的厚度为376.8935um、第44层的厚度为260.2145um、第45层的厚度为361.152um、第46层的厚...
【专利技术属性】
技术研发人员:何伟亮,
申请(专利权)人:奥普镀膜技术广州有限公司,
类型:新型
国别省市:广东,44
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