一种等离子体水消毒装置制造方法及图纸

一种等离子体水消毒装置，包括进水区、消毒区和储水区，消毒区内安装有等离子体发生装置，储水区设置有水位监测传感器和阀门，水从进水区进入装置，然后进入消毒区进行消毒，消毒后的水再流入储水区，当储水区的水位到达水位监测传感器时，等离子体发生装置停止工作，同时装置发出报警声，消毒后的水经阀门排出供使用；本发明专利技术提供一种低能耗、成本低、无二次污染等离子体消毒装置，通过等离子体中的活性物质和强电场的双重作用，杀灭水中的微生物，实现水消毒的目的。

Plasma water sterilizing device

A plasma water disinfection device comprises a water inlet area, disinfection area and storage area, the sterilizing area is arranged in the plasma generating device, water storage area is provided with a water level monitoring sensor and the valve, water from the water inlet area into the device, and then enter the area of disinfection disinfection, after disinfection of the water then flows into the reservoir, the water level when the reservoir. Reach the water level monitoring sensor, the plasma generating device to stop working, and the alarm device, water discharge valve after disinfection for use; the invention provides a low energy consumption, low cost and no pollution two plasma disinfection device, through the dual role of active substances in the plasma and the strong electric field, kill the water the realization of the purpose of microorganism, water disinfection.

【技术实现步骤摘要】
一种等离子体水消毒装置
本专利技术涉及饮用水消毒
，具体涉及一种等离子体水消毒装置。
技术介绍
饮用水污染主要源于在取水、制水、输配水、贮水等过程中，由于生活污水、工业废水、生活废弃物(垃圾)或工业固体废弃物(废渣)的乱排放、忽视水源卫生防护、水净化和消毒不彻底、输配水和贮水环节的卫生管理差等各种原因，造成污染物进入水中，使水质理化特性和生物种群的特性、组成发生改变，造成水质恶化，危害人体健康。饮用水污染是指有一定的饮用水用户、饮用者个人，发现饮用水水质感官性状异常，饮用后身体出现不适反应和症状表现的事件，包括饮用水生物性污染(传染病和藻类污染)、饮用水化学性污染和饮用水物理性(热、放射性)污染。水污染主要是有机物和氨氮污染，常规净水工艺系统难以将这些污染物有效除去，降低了饮用水水质，对人体健康构成潜在威胁。当前，一般常用的消毒方式是液氯、二氧化氯、紫外线和臭氧消毒等。在上述几种常用污水消毒技术中，液氯和二氧化氯消毒杀菌效率高，但易产生有毒的消毒副产物，腐蚀性强，受pH影响大，现场制取设备复杂，设备管理复杂等；紫外线技术虽操作简单，无有害残余物质，运行维修管理费用低，但是存在电本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种等离子体水消毒装置，包括储水容器(8)、位于储水容器(8)顶部一侧的进水口(1)、设在储水容器(8)顶部内侧的消毒区(3)，在消毒区(3)内安装有等离子体发生装置(10)，在储水容器(8)顶部另一侧安装有水位监测传感器(7)并在储水容器(8)底部一侧设有出水阀门(9)；在储水容器(8)内位于等离子体发生装置(10)下方设有地电极(5)，并在地电极(5)上设置有截水装置(6)，在等离子体发生装置(10)内设置有阵列电极(4)。

【技术特征摘要】
1.一种等离子体水消毒装置，包括储水容器(8)、位于储水容器(8)顶部一侧的进水口(1)、设在储水容器(8)顶部内侧的消毒区(3)，在消毒区(3)内安装有等离子体发生装置(10)，在储水容器(8)顶部另一侧安装有水位监测传感器(7)并在储水容器(8)底部一侧设有出水阀门(9)；在储水容器(8)内位于等离子体发生装置(10)下方设有地电极(5)，并在地电极(5)上设置有截水装置(6)，在等离子体发生装置(10)内设置有阵列电极(4)。2.根据权利要求1所述的一种等离子体水消毒装置，其特征在于，进水口(1)设为矩形体结构，尺寸为：长20cm、...

【专利技术属性】
技术研发人员：苏晓飞，罗东昆，刘石伟，吴征威，王建新，张军，傅劲裕，
申请(专利权)人：云南航天工业有限公司，
类型：发明
国别省市：云南,53