一种图案制备方法及电子设备技术

本发明专利技术实施例公开了一种图案制备方法，包括：在金属壳体第一表面的目标区域上形成保护层，所述保护层具有预设图案；以便利用所述保护层对所述目标区域中被所述预设图案所覆盖的区域进行保护；对所述金属壳体的第一表面上除被所述预设图案所覆盖的区域以外的其他区域进行腐蚀处理，以使所述第一表面上除被所述预设图案所覆盖的区域以外的其他区域的第一光学特征参数不同于被所述预设图案所覆盖的区域对应的第二光学特征参数；去除所述目标区域涂覆的所述保护层，以在所述第一表面上形成具有第二光学特征参数的所述预设图案。本发明专利技术实施例还公开了一种电子设备。

Pattern preparation method and electronic equipment

The embodiment of the invention discloses a preparation method of pattern, including: forming a protective layer in the target area on the first surface of the metal shell, the protective layer has a preset pattern; in order to use the protective layer of the target region by the preset pattern in the area covered by the first surface for protection; the metal shell except by the preset pattern in the area covered by other areas of corrosion, so as to make the second optical characteristic parameters of the first optical characteristic parameters of the first surface except by the preset pattern in the area covered by the other region is different from the corresponding region by the preset pattern cover; the removal of the target area coated with the protective layer, with the optical characteristic parameters at the second formed on the first surface of the preset pattern. The embodiment of the invention also discloses an electronic device.

【技术实现步骤摘要】
一种图案制备方法及电子设备
本专利技术涉及图案制作技术，尤其涉及一种图案制备方法及电子设备。
技术介绍
目前常采用如下工艺过程在电子设备的金属机壳上做出高光效果的商标Logo，如：在金属壳体上做出Logo凹槽，利用点胶将高光效果的Logo单体固定于Logo凹槽中，利用该方法制造出的Logo图案局限性较强，且Logo图案脱落的风险较大；因此，亟需一种新型Logo图案的制备方法以解决上述问题。
技术实现思路
为解决现有存在的技术问题，本专利技术实施例提供了一种图案制备方法及电子设备，能至少解决现有技术中存在的上述问题。本专利技术实施例的技术方案是这样实现的：本专利技术实施例第一方面提供了一种图案制备方法，所述方法包括：在金属壳体第一表面的目标区域上形成保护层，所述保护层具有预设图案；以便利用所述保护层对所述目标区域中被所述预设图案所覆盖的区域进行保护；对所述金属壳体的第一表面上除被所述预设图案所覆盖的区域以外的其他区域进行腐蚀处理，以使所述第一表面上除被所述预设图案所覆盖的区域以外的其他区域的第一光学特征参数不同于被所述预设图案所覆盖的区域对应的第二光学特征参数；去除所述目标区域涂覆的所述保护层，以在所述第一表面上形成具有第二光学特征参数的所述预设图案。上述方案中，所述在壳体第一表面的目标区域上形成保护层之前，所述方法还包括：至少对所述第一表面中的所述目标区域进行高抛光处理，以增大所述预设图案的第二光学特征参数。上述方案中，所述第一光学特征参数小于所述第二光学特征参数，以便于在所述第一表面上凸显出所述预设图像。上述方案中，所述预设图案为商标Logo的图案。上述方案中，所述保护层选用的材料为油墨，所述油墨丝印有所述Logo的图案。本专利技术实施例第二方面提供了一种电子设备，所述电子设备包括：金属壳体，所述金属壳体包括形成商标Logo的图案，所述图案形成在所述金属壳体的外表面；所述图案的视觉效果与所述金属壳体上除所述图案以外的区域的视觉效果不同；所述金属壳体为一体化金属板，所述金属板不具有为所述Logo预留的孔。上述方案中，所述Logo的图案位于所述金属壳体的包括边缘的边缘部分。上述方案中，所述金属壳体的长边的边缘部分为曲面，所述Logo的图案位于所述曲面上。上述方案中，所述Logo的图案为所述金属壳体上具有抛高光处理所形成的视觉效果的图案；所述金属壳体上除所述Logo的图案以外的区域具有药水腐蚀后的视觉效果。上述方案中，油墨丝印有所述Logo的图案，丝印有所述Logo的图案的油墨覆盖在抛高光处理后的金属壳体上，以使得所述金属壳体被药水腐蚀后能够形成所述Logo的图案，并且利用丝印有所述Logo的图案的油墨保护被覆盖的抛高光处理效果。本专利技术实施例所述的图案制备方法及电子设备，在金属壳体第一表面的目标区域上形成保护层，且所述保护层具有预设图案，进而对所述金属壳体的第一表面上除被所述预设图案所覆盖的区域以外的其他区域进行腐蚀处理，以使所述第一表面上除被所述预设图案所覆盖的区域以外的其他区域的第一光学特征参数不同于被所述预设图案所覆盖的区域对应的第二光学特征参数，最后在去除所述目标区域涂覆的所述保护层之后，即可在所述第一表面上形成具有第二光学特征参数的所述预设图案。这里，本专利技术实施例无需在金属壳体上形成凹槽，即形成预设图案的区域可以具体为所述金属壳体上的任意区域，所以，本专利技术实施例应用范围较广，例如，可以在金属壳体的平面上形成Logo图案，也可以在曲面上形成Logo图案。进一步地，与现有需要先形成凹槽，在点胶黏贴Logo图案的方式相比，本专利技术实施例不仅工艺流程简单，形成的Logo图案还牢固。因此，便于大规模工业化应用。附图说明图1为本专利技术实施例一图案制备方法的实现流程示意图；图2为本专利技术实施例图案制备方法的具体实现中的流程示意图；图3为本专利技术实施例利用图案制备方法形成的金属壳体的示意图。具体实施方式为了能够更加详尽地了解本专利技术的特点与
技术实现思路
，下面结合附图对本专利技术的实现进行详细阐述，所附附图仅供参考说明之用，并非用来限定本专利技术。实施例一本实施例提供了一种图案制备方法，具体地，图1为本专利技术实施例一图案制备方法的实现流程示意图，如图1所示，所述方法包括：步骤101：在金属壳体第一表面的目标区域上形成保护层，所述保护层具有预设图案；以便利用所述保护层对所述目标区域中被所述预设图案所覆盖的区域进行保护，也就是说，利用所述保护层对需要形成预设图案的区域进行保护。本实施例中，所述预设图案可以具体为商标Logo的图案，也就是说，在金属壳体的第一表面(如外表面)上，需要设置商标Logo的图案的区域形成保护层，这样，以便于利用所述保护层对需要设置商标Logo的图案的区域进行保护。进一步地，所述保护层选用的材料可以具体为油墨，而所述油墨丝印有所述Logo的图案，这样，为在所述金属壳体的第一表面上形成所述Logo的图案，且使形成的所述Logo的图案的视觉效果不同于其他区域的视觉效果奠定了基础。这里，本实施例中，所述金属壳体的第一表面上覆盖保护层的区域并非为凹槽区域，也就是说，本实施例中，利用保护层形成Logo图案的方法无需在金属壳体上形成凹槽，即形成Logo图案的区域可以具体为所述金属壳体上的任意区域，所以，本专利技术实施例所述的方法应用范围较广，例如，可以在金属壳体的平面上形成Logo图案，也可以在曲面上形成Logo图案。这里，在实际应用中，所述金属壳体可以具体为一体化的金属板，且所述一体化的金属板上对应于Logo的图案的区域不为凹槽区域，也即不设置有孔，例如，预期形成有Logo的图案的区域，与金属板上第一平面上的其他区域处于同一平面。如此，与现有需要先形成凹槽，在点胶黏贴Logo图案的方式相比，本专利技术实施例形成的Logo的图案不仅牢靠，而且工艺流程还简单，因此，便于大规模工业化使用。而且，与现有点胶必须适用于平面的方式相比，本专利技术实施例的使用范围也更广。在一具体实施例中，为实现Logo图案的高光效果，可以在金属壳体第一表面的目标区域上形成保护层之前，至少对所述第一表面中的所述目标区域进行高抛光处理，也就是说，在金属壳体的第一表面上形成预设图案的保护层之前，至少对所述第一表面上预期形成预设图案的区域(也即保护层对应的区域)进行高抛光处理，以增大所述预设图案的第二光学特征参数，使预设图案对应的区域具有抛高光处理所形成的视觉效果。步骤102：对所述金属壳体的第一表面上除被所述预设图案所覆盖的区域以外的其他区域进行腐蚀处理，以使所述第一表面上除被所述预设图案所覆盖的区域以外的其他区域的第一光学特征参数不同于被所述预设图案所覆盖的区域对应的第二光学特征参数；本实施例中，所述第一光学特征参数小于所述第二光学特征参数，以便于在所述第一表面上凸显出所述预设图像。例如，所述预设图案具有抛高光处理所形成的视觉效果，而所述金属壳体上除被所述预设图案所覆盖的区域以外的其他区域具有药水腐蚀后的视觉效果，如此，在所述金属壳体上凸显了所述预设图案，实现了预设图像具有高光效果的目的。步骤103：去除所述目标区域涂覆的所述保护层，以在所述第一表面上形成具有第二光学特征参数的所述预设图案，如图2所示，在金属壳体上形成预设图案。以下结合图2对本专利技术实施例所述的工艺流程做进一步详细说明本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种图案制备方法，其特征在于，所述方法包括：在金属壳体第一表面的目标区域上形成保护层，所述保护层具有预设图案；以便利用所述保护层对所述目标区域中被所述预设图案所覆盖的区域进行保护；对所述金属壳体的第一表面上除被所述预设图案所覆盖的区域以外的其他区域进行腐蚀处理，以使所述第一表面上除被所述预设图案所覆盖的区域以外的其他区域的第一光学特征参数不同于被所述预设图案所覆盖的区域对应的第二光学特征参数；去除所述目标区域涂覆的所述保护层，以在所述第一表面上形成具有第二光学特征参数的所述预设图案。

【技术特征摘要】
1.一种图案制备方法，其特征在于，所述方法包括：在金属壳体第一表面的目标区域上形成保护层，所述保护层具有预设图案；以便利用所述保护层对所述目标区域中被所述预设图案所覆盖的区域进行保护；对所述金属壳体的第一表面上除被所述预设图案所覆盖的区域以外的其他区域进行腐蚀处理，以使所述第一表面上除被所述预设图案所覆盖的区域以外的其他区域的第一光学特征参数不同于被所述预设图案所覆盖的区域对应的第二光学特征参数；去除所述目标区域涂覆的所述保护层，以在所述第一表面上形成具有第二光学特征参数的所述预设图案。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在金属壳体第一表面的目标区域上形成保护层之前，所述方法还包括：至少对所述第一表面中的所述目标区域进行高抛光处理，以增大所述预设图案的第二光学特征参数。3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述第一光学特征参数小于所述第二光学特征参数，以便于在所述第一表面上凸显出所述预设图像。4.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述预设图案为商标Logo的图案。5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述保护层选用的材料为油...

【专利技术属性】
技术研发人员：吕桂林，
申请(专利权)人：联想北京有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11