红外线屏蔽层叠体及使用它的红外线屏蔽材料制造技术

该红外线屏蔽层叠体具有：含ITO粒子层；及外涂层，包覆所述含ITO粒子层的上表面，在所述含ITO粒子层内，核壳粒子以彼此接触的状态存在，所述核壳粒子具有作为核的ITO粒子和作为壳而包覆所述核的绝缘物质。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】红外线屏蔽层叠体及使用它的红外线屏蔽材料
本专利技术涉及一种含ITO粒子层得到保护且近红外光的反射率较高的红外线屏蔽层叠体及使用它的红外线屏蔽材料。另外，本申请说明书中，所谓ITO是指铟锡氧化物(IndiumTinOxide)。本申请主张基于2014年12月22日于日本申请的专利申请2014-258618号的优先权，并将其内容援用于此。
技术介绍
至今为止，作为红外线屏蔽层叠体主要有下列三种。作为第一种，公开有如下红外线屏蔽层叠体(例如，参考专利文献1)：其依次具有透明电介质层、红外线反射层及透明电介质层，透明电介质层主要包括氧化锌，红外线反射层主要包括银。在玻璃表面上形成有由这种层叠体构成的热射线反射膜(红外线屏蔽层叠体)的玻璃层叠体因其膜面的放射率较低而被称为Low-E玻璃(LowEmissivityGlass，低辐射玻璃)。作为第二种，公开有如下红外线屏蔽层叠体(例如，参考专利文献2)：其在玻璃基板的表面上依次具有包括ITO等的基底薄膜、主要包括Ag的金属薄膜及包括SnO2等的保护薄膜，这些薄膜通过溅射法而形成。具有玻璃基板及形成在玻璃基板的表面上的上述红外线屏蔽层叠体的热射线本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种红外线屏蔽层叠体，其具有：含ITO粒子层；及外涂层，包覆所述含ITO粒子层的上表面，在所述含ITO粒子层内，核壳粒子以彼此接触的状态存在，所述核壳粒子具有作为核的ITO粒子和作为壳而包覆所述核的绝缘物质。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.12.22 JP 2014-2586181.一种红外线屏蔽层叠体，其具有：含ITO粒子层；及外涂层，包覆所述含ITO粒子层的上表面，在所述含ITO粒子层内，核壳粒子以彼此接触的状态存在，所述核壳粒子具有作为核的ITO粒子和作为壳而包覆所述核的绝缘物质。2.根据权利要求1所述的红外线屏蔽层叠体，其中，所述核壳粒子彼此接触的状态下的所述ITO粒子之间的距离的平均值为0.5～10nm。3.根据权利要求1或2所述的红外线屏蔽层叠体，其还具备：基底涂层，包覆所述含ITO粒子层的下表面，所述含ITO粒子层被所述外涂层与所述基底涂层夹持。4.根据权利要求1或3所述的红外线屏蔽层叠体，其中，所述外涂层为包含二氧化硅、丙烯酸类树脂、环氧类树脂...

【专利技术属性】
技术研发人员：米泽岳洋，山崎和彦，
申请(专利权)人：三菱综合材料株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP