卫生口罩制造技术

本发明专利技术涉及一种卫生口罩(1)，其中，面部包覆部分(4)由层叠有基材层(11)和纳米纤维层(17)的层叠片材(10)构成，基材层层叠于纳米纤维层(17)的单面或两面，并且具有规则地形成的贯通孔，层叠片材(10)的平行光透过率(JIS K7105)为10％以上，纳米纤维层(17)含有纤维直径为350nm以下的纳米纤维，且基重为0.50g/m

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】卫生口罩
本专利技术涉及一种具有透光性及细菌阻隔性的卫生口罩。
技术介绍
卫生口罩用于预防感冒等传染病或防止传染病扩散、应对花粉症等，但在佩戴其时，通常难以看到佩戴者的表情或相貌。对此，提出有佩戴时能够透视到佩戴者的脸部的口罩。例如，在专利文献1中提出有由具有能够透视到脸部的透明性并且具有透气性的布状物构成了口罩主体的口罩，在专利文献2中提出有由以合成长丝构成的且实施过防水处理加工的透明纺织物构成了口罩主体的口罩。然而，现有的口罩难以维持或提高对细菌或花粉的阻隔性，即难以维持或提高不让包含细菌或病毒等的飞沫、花粉等透过的性质，并且难以提高透明性。例如，在专利文献1的口罩中，作为构成口罩主体的布状物，使用合成树脂纤维的编织物或粘结透明长丝而形成的无纺布，但利用这样的布状物提高透明性时，难以获得较高的阻隔性。另一方面，根据专利文献2所记载的口罩，记载了具有能够透视脸部的透明性，而且可以充分拦截自呼吸器产生的飞沫。然而，在专利文献2中，利用家庭用喷雾器对垂直悬挂的样品喷附雾状水滴，调查到达设置在后方的硬纸板的水滴量的比例来对飞沫的拦截的程度进行评价，由所使用的喷雾器产生的水滴的粒径也不明确。因此，即便其评价结果良好，例如在将医疗用口罩的性能评价中所用的BFE(BacterialFiltrationEfficiency＝细菌过滤效率)作为指针而对阻隔性能进行评价的情况下，也可以说阻隔性并不高。另外，在专利文献3中记载了对防花粉用口罩使用纳米纤维。然而，在该防花粉用口罩中，除了平均纤维直径为1nm～1000nm的纳米纤维无纺布层以外，也必须具备平均纤维直径为1μm～100μm的微纤维无纺布或织布层，而且，在专利文献3中，关于能够透视该口罩、或使作为整体的平行光透过率为10％以上未作任何记载。另外，如果重叠多片纺织物或树脂制筛网等具有规则的网状结构的片材物体，则有时因光的干涉而产生莫尔(Moiré)现象，存在该现象有损商品价值的情况。因此，为了防止莫尔现象，在专利文献4中提出了在聚酯膜的一个面层叠仅由底纱构成的纺织物，并且在另一个面层叠相对于底纱呈格子状织入具有底纱的2～5倍的细度的粗支纱的纺织物而成的层叠体。在该层叠体中，通过使粗支纱呈格子状排列，从而消除了因底纱彼此重叠而产生的莫尔现象。与专利文献4同样地，在专利文献5中也提出了在总透光率为50％以下的聚酯膜的两面层叠有纺织物的层叠体作为防止莫尔现象的层叠体。在该层叠体中，通过限制总透过光，减弱膜与纺织物的层叠体中产生的光的干涉现象，防止莫尔现象的产生。与专利文献4及5不同，在专利文献6中记载有具有1层以上的纳米纤维层和直角编织的合成单纱精密布料的布料材料复合结构。纳米纤维层被2片合成单纱精密布料夹持。该布料材料复合结构用作过滤的机构或介质。在该文献中，没有提及因使用2片合成单纱精密布料而产生的莫尔现象。然而，在专利文献4所记载的层叠体中，由于膜介于2片纺织物之间，因此，无法将该层叠体用作微粒的过滤材料。关于专利文献5所记载的层叠体也同样。而且，该文献所记载的层叠体的膜的总透光率较低，因此，可以说该层叠体的透明性不高。专利文献6所记载的布料材料复合结构具有作为过滤材料的功能，但有产生莫尔现象的担忧。另外，可以说透明性并不充分高。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开平10-146396号公报专利文献2：日本特开2013-066643号公报专利文献3：日本特开2010-274102号公报专利文献4：日本特开昭58-45943号公报专利文献5：日本特开昭58-51147号公报专利文献6：日本特开2012-525243号公报
技术实现思路
本专利技术的课题在于提供一种可以克服上述的现有技术所具有的缺点的卫生口罩。另外，本专利技术的课题在于改良过滤材料，更详细地说，在于提供一种具有较高的透明性并且有效地防止莫尔现象的产生，并且微粒的过滤性能优异的过滤材料。本专利技术涉及面部包覆部分由层叠有基材层和纳米纤维层的层叠片材构成而成的卫生口罩。所述基材层层叠于所述纳米纤维层的单面或两面，并且具有规则地形成的贯通孔。所述层叠片材的平行光透过率为10％以上。所述纳米纤维层含有纤维直径为350nm以下的纳米纤维，且基重为0.50g/m2以下(以下，在称为第1专利技术的情况下是指该专利技术)。本专利技术涉及包含层叠片材而构成的透光性微粒过滤材料，所述层叠片材具备：具有规则地形成的多个贯通孔的第1基材层、具有规则地形成的多个贯通孔的第2基材层、及配置于两基材层之间的纳米纤维的过滤层。所述层叠片材的总透光率为55％以上。因形成于第1基材层的所述贯通孔与形成于第2基材层的所述贯通孔的相互干涉而产生的莫尔周期W的值为5000μm以下(以下，在称为第2专利技术的情况下是指该专利技术)。另外，本专利技术涉及具备上述透光性微粒过滤材料的上述卫生口罩。另外，第1专利技术的卫生口罩优选上述面部包覆部分由第2专利技术的透光性微粒过滤材料构成。附图说明图1是本专利技术的卫生口罩的一个实施方式的前视图。图2是表示图1所示的卫生口罩的佩戴状态的立体图。图3是表示本专利技术的卫生口罩中所用的层叠片材的一例的示意截面图。图4是表示本专利技术的卫生口罩中所用的层叠片材的另一例的示意截面图。图5(a)～图5(c)是表示用作基材层的构成材料的筛网片材的一例的图，图5(a)为放大平面图，图5(b)为图5(a)的A-A线截面图，图5(c)为图5(a)的B-B线截面图。图6是表示用作基材层的构成材料的开孔片材的一例的放大平面图。图7(a)及图7(b)是表示本实施方式的卫生口罩的其它实施方式的图，图7(a)是自非皮肤接触面侧观察展开立体形状的卫生口罩后的状态(与将缺口部的相对的缘部彼此接合之前的状态相同)的展开图，图7(b)是表示将卫生口罩折叠后的状态的图。图8(a)～图8(c)是表示图7所示的卫生口罩的口罩主体的图，图8(a)是自皮肤接触面侧观察口罩主体的前视图，图8(b)是表示层叠状态的图，图8(c)是E部的局部放大图。图9是表示本专利技术的卫生口罩中所用的口罩主体的另一例的层叠结构的图。图10是表示本专利技术的过滤材料的一个实施方式的分解立体图。图11(a)是过滤材料中的第1基材层的俯视时的主要部分放大图，图11(b)是过滤材料中的第2基材层的俯视时的主要部分放大图。图12(a)至图12(g)是表示过滤材料中的第1及第2基材层的一个配置方式的示意图。图13(a)至图13(g)是表示过滤材料中的第1及第2基材层的其它配置方式的示意图。图14(a)至图14(g)是表示过滤材料中的第1及第2基材层的另外其它配置方式的示意图。图15是表示使用过滤材料的卫生口罩的前视图。图16是表示图15所示的卫生口罩的配戴状态的立体图。具体实施方式以下，对本专利技术基于其优选的实施方式一边参照附图一边进行说明。如图1及图2所示，作为本专利技术的一个实施方式的卫生口罩1具备口罩主体2及设置于口罩主体2的左右两侧的挂耳部3。口罩主体2具有横宽的矩形的形状。关于本实施方式的卫生口罩1，如图2所示，口罩主体2的除横向的两端部分以外的中央部分成为包覆佩戴者面部的面部包覆部分4，该面部包覆部分4由层叠有基材层11和纳米纤维层17的层叠片材10A构成。在口罩主体2的横向的两端部分，安装侧部片材5以自其两面夹住层叠片材10本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种卫生口罩，其中，面部包覆部分由层叠有基材层和纳米纤维层的层叠片材构成，所述基材层层叠于所述纳米纤维层的单面或两面，并且具有规则地形成的贯通孔，所述层叠片材的根据JIS K7105的平行光透过率为10％以上，所述纳米纤维层含有纤维直径为350nm以下的纳米纤维，且基重为0.50g/m

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.09.30 JP 2014-201873;2015.08.19 JP 2015-161821.一种卫生口罩，其中，面部包覆部分由层叠有基材层和纳米纤维层的层叠片材构成，所述基材层层叠于所述纳米纤维层的单面或两面，并且具有规则地形成的贯通孔，所述层叠片材的根据JISK7105的平行光透过率为10％以上，所述纳米纤维层含有纤维直径为350nm以下的纳米纤维，且基重为0.50g/m2以下。2.如权利要求1所述的卫生口罩，其中，所述纳米纤维层的纳米纤维的取向度为0.05以上且1.00以下。3.如权利要求1或2所述的卫生口罩，其中，所述层叠片材的所述基材层的根据JISK7105的总平行光透过率为30％以上。4.如权利要求1～3中任一项所述的卫生口罩，其中，所述基材层由合成树脂制的筛网片材、合成树脂制的开孔片材、或合成树脂制的编织物或纺织物构成。5.如权利要求1～4中任一项所述的卫生口罩，其中，所述贯通孔每一个的面积为0.02～25mm2。6.如权利要求1～5中任一项所述的卫生口罩，其中，所述卫生口罩的总质量为0.7g以上且小于2.0g。7.如权利要求1～6中任一项所述的卫生口罩，其中，在所述层叠片材的皮肤接触面侧的至少周缘部，以自所述基材层的周缘端的内侧向外延伸的状态设置无纺布片材。8.如权利要求7所述的卫生口罩，其中，所述无纺布片材形成为在配置于所述层叠片材的所述周缘部的内侧的部分具有开口的框形状。9.如权利要求1～8中任一项所述的卫生口罩，其中，所述面部包覆部分是包含层叠片材而构成的透光性微粒过...

【专利技术属性】
技术研发人员：东城武彦，垣内秀介，金田学，千叶祥悟，吉井圭二，志村洋平，
申请(专利权)人：花王株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP