一种降低剩余振幅调制的装置制造方法及图纸

本发明专利技术设计了降低剩余振幅调制的装置。该装置包括一个三晶串联的电光调制装置，所述三个晶体分别为第一立方晶体、中间晶体和第二立方晶体；所述中间晶体为电光调制晶体，所述的中间晶体与所述高频信号源模块相连，所述中间晶体规格为Xmm×Ymm×dmm；所述第一立方晶体和第二立方晶体串联在中间晶体的X轴方向两端，所述第一立方晶体和第二立方晶体的相对介电常数与中间晶体的相对介电常数相等，所述第一立方晶体和第二立方晶体规格为d/2mm×Ymm×dmm。

【技术实现步骤摘要】
一种降低剩余振幅调制的装置
本专利技术涉及调制技术，特别是一种电光调制装置。
技术介绍
压缩态光场是引力波探测、光学精密测量、量子信息等方面研究的重要量子资源。在压缩态光场的实验制备系统中，伺服控制系统的性能是获得高性能压缩态光场的关键技术。然而在基于电光相位调制的反馈控制系统中，电光相位调制过程不可避免的会引入剩余振幅调制，使得边带频率锁定PDH的误差信号的零基线随时间漂移，影响反馈控制系统的性能。OPO(opticalparametricoscillator)腔的频率失谐会使压缩角旋转，相位锁定点的漂移会使反压缩分量混合到压缩分量中，不利于量子噪声的减小。在PDH锁定系统中，电光相位调制器是一种被广泛应用的光调制器，由于电光晶体的电光效应，即在外加电场的作用下，电光晶体的各向折射率分布会发生变化，所以可以利用电光相位调制器对光波的相位进行调制，利用两调制边带的幅度相等、位相相反的特性，以获得鉴频信号的谱线而将光学腔长以及相对位相锁定在该谱线的中心过零点处，实现光学腔长以及相对位相的稳定。从实验中发现，激光经电光相位调制后，在产生相位调制的同时还出现了剩余振幅调制(Residual本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种降低剩余振幅调制的装置，入射光平行于Y轴，外加电场的方向平行于d轴，调制光为出射光，出射光方向平行于Y轴，该装置包括高频信号源模块，其特征在于，还包括一个三晶串联的电光调制装置，所述三晶串联的电光调制装置由三个晶体串联，所述三个晶体分别为第一立方晶体、中间晶体和第二立方晶体；所述中间晶体为电光调制晶体，所述的中间晶体与所述高频信号源模块相连，所述中间晶体规格为Xmm×Ymm×dmm；所述第一立方晶体和第二立方晶体串联在中间晶体的X轴方向两端，所述第一立方晶体和第二立方晶体的相对介电常数与中间晶体的相对介电常数相等，所述第一立方晶体和第二立方晶体规格为d/2mm×Ymm×dmm。

【技术特征摘要】
1.一种降低剩余振幅调制的装置，入射光平行于Y轴，外加电场的方向平行于d轴，调制光为出射光，出射光方向平行于Y轴，该装置包括高频信号源模块，其特征在于，还包括一个三晶串联的电光调制装置，所述三晶串联的电光调制装置由三个晶体串联，所述三个晶体分别为第一立方晶体、中间晶体和第二立方晶体；所述中间晶体为电光调制晶体，所述的中间晶体与所述高频信号源模块相连，所述中间晶体规格为Xmm×Ymm×dmm；所述第一立方晶体和第二立方晶体串联在中间晶体的X轴方向两端，...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑耀辉，孙小聪，王雅君，彭堃墀，
申请(专利权)人：山西大学，
类型：发明
国别省市：山西,14