The present invention relates to a method for directing a ruling tool and to scribing glass, especially thin glass along a planned scribing path, for the preparation of separation by means of scribing and breaking. The invention also relates to glass substrates, especially thin glass substrates, made by means of the method. In this regard, the method of the present invention is based on determining the actual orientation of the cutting edge of the scribing tool and orienting the cutting edge to the target orientation of the cutting edge.
【技术实现步骤摘要】
用于定向刻划针和用于刻划玻璃衬底的设备和方法
本专利技术涉及用于定向(Ausrichten,对准)刻划工具并且用于沿着计划的刻划路径刻划玻璃、尤其薄玻璃的方法和设备,其用于借助刻划和断裂进行分离的准备工作。本专利技术还涉及借助所述方法制造的玻璃衬底、尤其薄玻璃衬底。
技术介绍
薄玻璃尤其应理解为厚度在1.2mm至3μm之间的范围中的平面式玻璃,其例如可制造成玻璃带或玻璃膜并且能够卷绕。在该申请的范围中,薄玻璃尤其理解成具有厚度最大为400μm、最大为145μm、最大为100μm、最大为50μm、最大为30μm、最大为20μm;但是最小厚度保持在3μm、或10μm或15μm的平板状或带状或薄膜状的玻璃。超薄玻璃(UTG)具有小于150μm的壁厚。薄玻璃应用于多种
,例如应用在显示装置、用于光电子零件的窗口、构件的封装装置和电绝缘层或光伏领域中。对于这些应用形式需要小的薄玻璃板。但是薄玻璃尤其制成玻璃带或玻璃膜,其中,最新要求厚度<350μm。在需要将这种薄玻璃带或这种薄玻璃膜加工成较小的薄玻璃板时,例如在分离区域中或者在继续加工时的操作中存在多种问题。由此存在薄玻璃通过不期望引入的最初损坏而提前断裂和不期望的断裂的风险,这导致边缘强度降低。为了应对提前的刻断分离,建立的刻划痕必须具有预先确定的性能。由此应使刻划痕尽可能具有均匀的深度,即,必须精确并且以尽可能恒定的挤压刻划力沿着计划的刻划路径引导刻划工具。在厚度范围在1.2mm至150μm之间时,这由于在刻划时设定得相对大的挤压刻划力而成功,但是在需要刻划更薄的玻璃或超薄的玻璃并且施加到薄玻璃上的 ...
【技术保护点】
用于定向刻划工具以及用于沿着预先确定的刻划路径刻划薄或超薄玻璃衬底以用于刻划和断裂分离的方法,其中,切割力为最高1N,所述方法具有下列步骤:a.提供具有平面表面的玻璃衬底,b.提供机械式刻划工具并且使其接近所述玻璃衬底,其中,所述刻划工具尚未接触玻璃衬底,c.将刻划工具的切割边缘预先定向成在前进方向上,d.借助位置检测方法确定刻划工具的至少一个切割边缘的实际位置,e.通过借助使切割边缘在与玻璃衬底的表面垂直的平面中旋转和/或通过倾斜切割边缘以改变其倾斜度而改变切割边缘的实际取向,来定向刻划工具,以便使刻划工具的切割边缘设置成相对于前进方向所期望的目标取向。
【技术特征摘要】
2016.02.02 DE 102016101766.31.用于定向刻划工具以及用于沿着预先确定的刻划路径刻划薄或超薄玻璃衬底以用于刻划和断裂分离的方法,其中,切割力为最高1N,所述方法具有下列步骤:a.提供具有平面表面的玻璃衬底,b.提供机械式刻划工具并且使其接近所述玻璃衬底,其中,所述刻划工具尚未接触玻璃衬底,c.将刻划工具的切割边缘预先定向成在前进方向上,d.借助位置检测方法确定刻划工具的至少一个切割边缘的实际位置,e.通过借助使切割边缘在与玻璃衬底的表面垂直的平面中旋转和/或通过倾斜切割边缘以改变其倾斜度而改变切割边缘的实际取向,来定向刻划工具,以便使刻划工具的切割边缘设置成相对于前进方向所期望的目标取向。2.根据前述权利要求所述的用于定向刻划工具的方法,其特征在于,在成功地将刻划工具的切割边缘定向到目标取向中之后,刻划工具的切割边缘降低至玻璃衬底的表面上的刻划路径的区域中并且经受预先确定的切割力。3.根据前述权利要求中任一项所述的用于定向刻划工具的方法,其特征在于,所述切割边缘沿着计划的刻划路径相对于玻璃衬底的待刻划的表面运动,以产生刻痕。4.根据前述权利要求中任一项所述的用于定向刻划工具的方法,其特征在于,所述位置检测方法包括使用用于发射电磁辐射的辐射源。5.根据前述权利要求中任一项所述的用于定向刻划工具的方法,其特征在于,所述位置检测方法包括使用探测器、优选光电探测器,以用于接收在所述刻划工具处反射的电磁辐射。6.根据前述权利要求中任一项所述的用于定向刻划工具的方法,其特征在于,所述辐射源包括点式光源。7.根据前述权利要求中任一项所述的用于定向刻划工具的方法,其特征在于,所述辐射源布置在前进方向上并且适应于照射所述刻划工具的所述至少一个切割边缘,以用于检测所述切割边缘的几何结构相对于刻划路径以及相对于玻璃衬底的待刻划的表面的实际取向。8.根据前述权利要求中任一项所述的用于定向刻划工具的方法,其特征在于,所述光电探测器布置并且适应于用于检测在切割边缘处反射的电磁辐射的至少一部分。...
【专利技术属性】
技术研发人员:M·瑶茨,V·普拉珀,J·沃格特,
申请(专利权)人:肖特股份有限公司,
类型:发明
国别省市:德国,DE
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