一种搅拌装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种搅拌装置，属于反应釜制造加工技术领域，包括反应釜本体和伸入所述反应釜本体内的转轴，所述转轴上连接有搅拌轴，所述搅拌轴上固定连接有若干均匀竖直排列的搅拌单元；所述搅拌单元包括至少两片搅拌叶；所述搅拌叶包括基体和固定在基体上的叶片本体，所述叶片本体包括斜根部和平端部，所述基体包含于一平行于水平面的α平面内，所述斜根部包含于β平面内，所述平端部包含于γ平面内，所述β平面与所述α平面之间存在一个θ夹角，所述γ平面与所述α平面平行；所述基体端部伸入所述反应釜本体内表面并且在所述反应釜本体内移动。采用上述方案为了使得反应釜内的搅拌结构形状稳定，且能对内部的搅拌物搅拌均匀。

Stirring device

The utility model relates to a stirring device, which belongs to the technical field of reactor manufacturing processing, including rotating reaction kettle body and extends into the reaction kettle body, the rotating shaft is connected with a stirring shaft, the stirring shaft is fixedly connected with some uniform vertical arrangement of the mixing unit; the mixing unit includes at least two stirring blades; the stirring blade comprises a base and a blade body is fixed on the substrate, the blade body comprises an inclined end of the root of peace, the matrix is contained in a horizontal plane parallel to the alpha plane, the inclined plane in the root contains beta, the flat end contains in the Y plane in the presence of a theta angle between the plane and the alpha beta gamma plane, the plane and the alpha plane parallel to the substrate; the end extends into the inner surface of the reactor and the reaction kettle body shift Dynamic. By adopting the proposal, the stirring structure of the reaction kettle is stable in shape, and the stirring of the internal mixer can be uniformly stirred.

【技术实现步骤摘要】
一种搅拌装置
本技术反应釜制造加工
，特别是一种搅拌装置。
技术介绍
目前的反应釜搅拌结构与反应釜本体是分离的，这导致搅拌结构容易形变，而且距离反应釜内壁近的部分搅拌材料会因为搅拌动力不足而黏贴在反应釜内壁上。现有技术中公开号为CN202590790U的公开文件公开了一种反应釜搅拌装置，包括反应釜，反应釜的中心轴位置设有搅拌轴，搅拌轴上轴向等距离设有搅拌支架，在所述的脚板支架上径向由内至外依次设有内螺带、中裸带、外螺带。上述两个问题是这种现有搅拌结构最大的问题。拥有上述两个问题的现有技术还包括公开号为CN103406085B的公开文件，该公开文件公开了一种反应釜，包括釜体，所述釜体上装有设有进料口的釜盖，所述釜盖上设有搅拌装置，所述搅拌装置包括搅拌轴和套设在所述搅拌轴上的搅拌框，所述搅拌框由弧形的搅拌杆和连接在所述搅拌杆两端的竖直搅拌杆构成，在两根所述竖直搅拌杆之间设有多块斜置的搅拌桨，所述搅拌桨的板面和水平面之间夹角a为55°-65°。现有技术中，还存在着在反应釜内的搅拌器存在物料混合不充分、工作时只能是反应釜一部分的物料流动，导致整个反应釜内的搅拌不是很均匀。如在公开号为CN106215833A的公开文件一种带搅拌装置的反应釜，包括反应釜本体、搅拌装置、电机；反应釜本体内壁上具有半球形凸块，凸块沿着反应釜本体内壁均匀分布一圈；凸块所在的内壁和凸块都为空心井且相互连通；凸块表面设有气头；搅拌装置包括搅拌轴和连接在搅拌轴上的搅拌叶，搅拌叶包含4个依次连接在搅拌轴上的半圆弧形搅拌杆，搅拌杆圆弧的两端点与搅拌轴相连，两相邻搅拌杆之间呈180°角，搅拌叶好包括一根横杆，横杆位于搅拌杆下方，与搅拌轴端部相连。该公开文件的最大问题就是不能充分使得物料混匀。
技术实现思路
本技术的目的是为了使得反应釜内的搅拌结构形状稳定，且能对内部的搅拌物搅拌均匀。本技术的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：一种搅拌装置，包括反应釜本体和伸入所述反应釜本体内的转轴，所述转轴上连接有搅拌轴，所述搅拌轴上固定连接有若干均匀竖直排列的搅拌单元；所述搅拌单元包括至少两片搅拌叶；所述搅拌叶包括基体和固定在基体上的叶片本体，所述叶片本体包括斜根部和平端部，所述基体包含于一平行于水平面的α平面内，所述斜根部包含于β平面内，所述平端部包含于γ平面内，所述β平面与所述α平面之间存在一个θ夹角，所述γ平面与所述α平面平行；所述基体端部伸入所述反应釜本体内表面并且在所述反应釜本体内移动。通过基体伸入反应釜本体内来使得搅拌单元在搅拌的过程中比较稳定，还能使得内部的搅拌物搅拌均匀，再配合搅拌叶的结构形状使得搅拌的更加均匀，效率更高。作为优选，所述基体上设置有至少两片所述叶片本体，所述叶片本体之间有一个间隔，所述间隔距离在20-40mm之间；相邻所述叶片本体以所述α平面为基准呈对称状设置。作为优选，所述反应釜本体内设置内层，所述内层包括若干内层单元，所述内层单元之间形成容纳所述基体端部的内环槽道。作为优选，所述基体端部与所述内环槽道之间设置有限位结构。作为优选，所述限位结构包括设置在所述基体端部的限位片和与所述限位片配合的限位边，所述限位边设置在所述内层单元上。作为优选，所述内层单元包括调温介质夹套层和设置在所述调温介质夹套层表面的防残留光滑层。作为优选，所述内环槽道表面覆盖有所述防残留光滑层。作为优选，所述基体端部与所述内环槽道之间设置有限定结构，所述限定结构包括设置在所述搅拌叶端部的限定片和与所述限定片配合的限定边，所述防残留光滑层构成所述限定边。作为优选，所述θ夹角在30°-60°之间。作为优选，所述平端部的厚度向自由端逐渐减小。综上所述，本技术通过将搅拌叶伸入反应釜内表面来开控制搅拌叶的上下浮动，因为搅拌叶上下浮动会牵引转轴的摆动，使得转轴的寿命降低，而且会引起整个反应釜在动作的时候产生较大的振动。多片搅拌叶的设置是的搅拌更加均匀，而且如果搅拌叶以转轴为中心，中心对称设置能起到稳定转轴的效果。内层的设置增加了壁厚，在对搅拌叶限位的同时还起到了静音，恒温的效果。内层和搅拌叶配合还起到了对内表面进行残留清理的作用，使得整个反应釜内搅拌均匀，且保证零残留。而且与搅拌叶的结构配合，使得在混合搅拌的过程中流畅，而且还保证了搅拌均匀的快速性。附图说明图1是本技术的整体结构图；图2是本技术整体结构的中部剖视图；图3是本技术在中心轴处的侧视剖视图；图4是搅拌叶部分结构立体图；图5是搅拌叶侧视以及部分标注示意图；图1、图2、图3、图4和图5中，1-反应釜本体，2-转轴，3-搅拌轴，4-搅拌单元，1C-搅拌叶，2C-基体，3C-叶片本体，31C-斜根部，32C-平端部，1A-内层，11A-内层单元,12A-内环槽道,13A-调温介质夹套层,14A-防残留光滑层,1B限位结构，11B-限位片，12B-限位边。具体实施方式以下结合附图1、2、3、4和5对本技术作进一步详细说明。实施例一，一种搅拌装置，包括反应釜本体1和伸入反应釜本体1内的转轴2，反应釜本体1呈一个罐状，且上下底面为一个向外凸起的球面，下底面可以向下启闭，在上地面中部设置有一个伸入反应釜本体1内部的带有电机的转轴2，转轴2上固定连接有搅拌轴3，搅拌轴3一直延伸到下底面与筒体交接处，在搅拌轴3上螺接有三个与水平面平行的搅拌单元4，搅拌单元4端部伸入反应釜本体1内表面并且在反应釜本体1内移动，每个搅拌单元4包括六个水平螺接在搅拌轴3上的搅拌叶1C。搅拌叶1C包括基体2C和套接在基体2C上并通过螺钉固定的叶片本体3C，叶片本体3C包括斜根部31C和平端部32C，基体2C包含于一平行于水平面的α平面内，斜根部31C包含于β平面内，平端部32C包含于γ平面内，β平面与α平面之间存在一个θ夹角，θ夹角在30°。γ平面与α平面平行。斜根部31C与平端部32C之间光滑衔接。斜根部31C与平端部32C之间通过圆弧面过渡连接。平端部32C的厚度向自由端逐渐减小，就是平端部32C具有一个尖锐的端部。基体2C上有四片叶片本体3C，叶片本体3C之间有一个间隔，间隔距离在40mm之间。相邻叶片本体3C以α平面为基准呈对称状设置，就是一片叶片本体3C在转动方向上的平端部32C处在基体2C上方，那么其相邻的叶片本体3C在转动方向上的平端部32C处在基体2C下方。反应釜本体1内设置内层1A，内层1A包括三个内层单元11A，内层单元11A通过螺钉固定在反应釜本体1内表面上，内层单元11A之间形成容纳基体2C的三个内环槽道12A。基体2C与内环槽道12A之间设置有限位结构1B。限位结构1B包括设置在基体2C端部的限位片11B和与限位片11B配合的限位边12B，限位边12B设置在内层单元11A上。限位片11B与基体2C焊接而成。内层单元11A包括调温介质夹套层13A和设置在调温介质夹套层13A表面的防残留光滑层14A。与转轴焊接的搅拌单元3由内而外伸出反应釜与电机连接，然后在反应釜本体1内安装调温介质夹套层13A，在调温介质夹套层13A之间安装防残留光滑层14A，该调温介质夹套层13A留有限位边12B，然后在调温介质夹套层13A上固定覆盖有防残留光滑层14A，最后将下底面闭合进行搅拌作业。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种搅拌装置，包括反应釜本体（1）和伸入所述反应釜本体（1）内的转轴（2），其特征在于，所述转轴（2）上连接有搅拌轴（3），所述搅拌轴（3）上固定连接有若干均匀竖直排列的搅拌单元（4）；所述搅拌单元（4）包括至少两片搅拌叶（1C）；所述搅拌叶（1C）包括基体（2C）和固定在基体（2C）上的叶片本体（3C），所述叶片本体（3C）包括斜根部（31C）和平端部（32C），所述基体（2C）包含于一平行于水平面的α平面内，所述斜根部（31C）包含于β平面内，所述平端部（32C）包含于γ平面内，所述β平面与所述α平面之间存在一个θ夹角，所述γ平面与所述α平面平行；所述基体（2C）端部伸入所述反应釜本体（1）内表面并且在所述反应釜本体（1）内移动。

【技术特征摘要】
1.一种搅拌装置，包括反应釜本体（1）和伸入所述反应釜本体（1）内的转轴（2），其特征在于，所述转轴（2）上连接有搅拌轴（3），所述搅拌轴（3）上固定连接有若干均匀竖直排列的搅拌单元（4）；所述搅拌单元（4）包括至少两片搅拌叶（1C）；所述搅拌叶（1C）包括基体（2C）和固定在基体（2C）上的叶片本体（3C），所述叶片本体（3C）包括斜根部（31C）和平端部（32C），所述基体（2C）包含于一平行于水平面的α平面内，所述斜根部（31C）包含于β平面内，所述平端部（32C）包含于γ平面内，所述β平面与所述α平面之间存在一个θ夹角，所述γ平面与所述α平面平行；所述基体（2C）端部伸入所述反应釜本体（1）内表面并且在所述反应釜本体（1）内移动。2.根据权利要求1所述的一种搅拌装置，其特征在于，所述基体（2C）上设置有至少两片所述叶片本体（3C），所述叶片本体（3C）之间有一个间隔，所述间隔距离在20-40mm之间；相邻所述叶片本体（3C）以所述α平面为基准呈对称状设置。3.根据权利要求1所述的一种搅拌装置，其特征在于，所述反应釜本体（1）内设置内层（1A），所述内层（1A）包括若干内层单元（11A），所述内层单元（11A）之间形成容纳所述基体（2C）...

【专利技术属性】
技术研发人员：辜朝辉，
申请(专利权)人：浙江德尚化工科技有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江,33