一种耐腐蚀高增透的日夜两视光学玻璃薄膜制造技术

本发明专利技术属于光学薄膜领域，具体涉及一种耐腐蚀高增透的日夜两视光学玻璃薄膜。其依次包括基底层、相互交替的氧化硅层和氧化锆层、氟化镁层；其中基底层为玻璃，与基底层相邻的是氧化硅层，氟化镁为所述光学薄膜的最外层。本发明专利技术光学薄膜能抗海水或盐雾腐蚀、耐风沙磨损，而且是一种可见光与近红外区高增透的日夜两视光学薄膜。

Two night optical optical glass film with corrosion resistance and high transparency

The invention belongs to the field of optical film, in particular to a two - day optical optical glass film with high corrosion resistance and high transparency. It comprises a substrate layer, alternating silicon oxide layer and zirconium oxide, magnesium fluoride layer layer; wherein the substrates for glass, and adjacent to the basal layer is a silicon oxide layer, the outer layer of the magnesium fluoride optical thin film. The optical film of the invention can resist seawater or salt fog corrosion and wind and sand abrasion, and is a two day optical film with high brightness in visible light and near infrared region.

【技术实现步骤摘要】
一种耐腐蚀高增透的日夜两视光学玻璃薄膜
本专利技术属于光学薄膜领域，具体涉及一种耐腐蚀高增透的日夜两视光学玻璃薄膜。
技术介绍
随着近年来光学技术的迅猛的发展，光学产品也日新月异，发生了翻天覆地的变化。人们对光学的认识与需求，不在停留与局限于光与影的转换。摄影、成像与增透只是光学系统的基本功能，更多的光电功能、防眩、高清夜视功能、车载影像、全息影像等已是当前热门的技术。目前市场上多数光学产品主要侧重于光学性能的要求，经常强调其像素、广角、焦距、可变光、高清等等。但对于其机械性能、适应各种恶劣的环境及全候稳定性方面要求相对较少。部份厂家则避重就轻，采用外围设计来弥补产品的缺陷。随着民用与军事产品的发展与升级，对光学产品的要求日益苛刻。不但要有优良的光学性能，还要有出色的物理特性。这样才能满足各种条件与环境的需求。本专利技术光学薄膜不但具有稳定、清晰、日夜两视的光学特性，而且具有防盐蚀、抗风蚀、耐擦拭的优良物理性能。其适用于大量民品车载与军事海防光学产品中。本专利技术通过对光学膜层的设计，提升相机镜头、外置高端光学镜头、军用探测与监控光学系的耐环境性能与使用寿命。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种耐腐蚀高增透的日夜两视光学薄膜，其能抗海水或盐雾腐蚀、耐风沙磨损、可见光与近红外区高增透的日夜两视特种光学薄膜。为实现本专利技术的目的，采用如下技术方案：一种耐腐蚀高增透的日夜两视光学玻璃薄膜，依次包括基底层、相互交替的氧化锆层和氧化硅层、氟化镁层。其中基底层为玻璃，与基底层相邻的是氧化硅层，氟化镁为所述光学薄膜的最外层。其中氧化锆层的厚度为10~90nm，氧化硅层的厚度为8-90nm，氟化镁层的厚度为80-110nm。其中所述的耐腐蚀高增透的日夜两视光学薄膜除了基底层之外共有9±2层，这样进一步降低了增透膜的反射率。其中所述的耐腐蚀高增透的日夜两视光学薄膜除了基底层之外共有9层，依次为氧化硅层、氧化锆层、氧化硅层、氧化锆层、氧化硅层、氧化锆层、氧化硅层、氧化锆层和氟化镁层。以氧化硅层为第一层算起，前两次出现为厚层，后两次为薄层；其中厚层厚度为60-90nm，薄层厚度为10-35nm；以氧化锆为第二层算起，前两次出现为薄层，后两次为厚层；其中薄层厚度为10-30nm，厚层厚度为40-90nm。其中所述的光学薄膜在400至800nm波段内的单面反射率<1%。所述的一种耐腐蚀高增透的日夜两视光学薄膜的制备方法，是采用含有离子源的镀膜机在真空状态下进行镀膜，起始真空度为3.0*10-3Pa，温度为200℃；离子源的加速电压为1000V，屏极电压为900V，中和电流为150A。本专利技术与现有技术比较具有以下优点：1.底膜采用全程高能离子辅助镀膜工艺，使材料分子结合更致密。其改变了膜层的“孔洞结构”为“柱状结构”，改变了和细化了分子结构，提高了膜层的致密性，从而使膜层的吸水温漂性控制在1nm以内，膜的抗擦拭性能大大提升；2.采用了氟化镁做为膜层保护层，并采用离子技术辅助镀膜，在提升膜层的抗盐蚀性的同时又加强了最外层保护膜的硬度；3.本专利技术光学薄膜以相互交替的氧化硅层和氧化锆层、氟化镁层组成的膜层，通过材料折射率以及材料本身的理化性质的作用，从而达到在400nm-850nm波段的单面反射率小于2%；在420nm-800nm波段单面反射率小于1%；在440nm-680nm波段的单面反射率小于0.8%，具有可见光与近红外宽带高透的光学性能，实现了日夜两视的功能；4.本专利技术以相互交替的氧化硅层和氧化锆层、氟化镁层组成的膜层，其膜层材料稳定，结合致密，抗盐水腐蚀耐磨损性能好。附图说明图1为实施例1所得的光学玻璃薄膜样品的结构示意图；1-氧化硅，2-氧化锆，3-氧化硅，4-氧化锆，5-氧化硅，6-氧化锆，7-氧化硅，8-氧化锆，9-氟化镁。图2为实施例1所得的光学玻璃薄膜样品的反射光谱图。具体实施方式为进一步公开而不是限制本专利技术，以下结合实例对本专利技术作进一步的详细说明。成膜设备：采用光驰OTFC-1300型镀膜机，其主要包括膜厚控制仪、离子源、真空室和蒸发系统组成。膜厚控制系统分为光控和晶控两部分，其中晶控采用了进口的INFCON控制仪，是利用石英晶体振荡频率变化来测量薄膜质量厚度的。离子源采用中国科学院北京空间研究所研制的考夫曼离子源，通过调整屏极电压和离子束流来控制离子能量，提高沉积薄膜的致密度，改善光学和机械性能。真空室靠机械泵和扩散泵系统相互配合来获得实验要求的真空度，用热电偶计对真空度进行测定。实施例1所述的耐腐蚀高增透的日夜两视光学玻璃薄膜除了基底层之外共有9层，依次为氧化硅层、氧化锆层、氧化硅层、氧化锆层、氧化硅层、氧化锆层、氧化硅层、氧化锆层和氟化镁层。其中除了基底层为玻璃，氧化硅为第一层，厚度为61.51nm；第二层为氧化锆，厚度为9.00nm；第三层为氧化硅，厚度为85.53nm；第四层为氧化锆，厚度为24.62nm；第五层为氧化硅，厚度为34.94nm；第六层为氧化锆，厚度为88.11nm；第七层为11.24nm；第八层为氧化锆，厚度为40.76nm；第九层为氟化镁，厚度为105.34nm。上述光学薄膜的制备方法为：起始真空度为3.0*10-3Pa，温度为200℃；离子源的加速电压为1000V，屏极电压为900V，中和电流为150A；氟化镁层的离子源参数为：离子源的加速电压为320V，屏极电压为320V，中和电流为150A。实施例中未提及的其它技术参照现有技术。实施例2所述的耐腐蚀高增透的日夜两视光学玻璃薄膜除了基底层之外共有11层，依次为氧化硅层、氧化锆层、氧化硅层、氧化锆层、氧化硅层、氧化锆层、氧化硅层、氧化锆层、氧化锆层、氧化硅层和氟化镁层。其中除了基底层为玻璃，氧化硅为第一层，厚度为61.51nm；第二层为氧化锆，厚度为9.00nm；第三层为氧化硅，厚度为85.53nm；第四层为氧化锆，厚度为24.62nm；第五层为氧化硅，厚度为34.94nm；第六层为氧化锆，厚度为88.11nm；第七层为氧化硅11.24nm；第八层为氧化锆，厚度为40.76nm；第九层为氧化硅，厚度43.6nm；第十层为氧化锆，厚度62.3nm；第十一层为氟化镁，厚度为105.34nm。上述光学薄膜的制备方法为：起始真空度为3.0*10-3Pa，温度为200℃；离子源的加速电压为1000V，屏极电压为900V，中和电流为150A（氟化镁的离子源参数为：离子源的加速电压为260V，屏极电压为300V，中和电流为150A）。实施例中未提及的其它技术参照现有技术。实施例3所述的耐腐蚀高增透的日夜两视光学玻璃薄膜除了基底层之外共有7层，依次为氧化硅层、氧化锆层、氧化硅层、氧化锆层、氧化硅层、氧化锆层、第七层为氟化镁层。其中除了基底层为玻璃，氧化硅为第一层，厚度为35.2nm；第二层为氧化锆，厚度为19.55nm；第三层为氧化硅，厚度为37.43nm；第四层为氧化锆，厚度为64.62nm；第五层为氧化硅，厚度为9.94nm；第六层为氧化锆，厚度为53.11nm；上述层的制备方法为：起始真空度为3.0*10-3Pa，温度为200℃；离子源的加速电压为1000V，屏极电压为900V，中和电流为150A。第七层氟化镁为97.24nm，其离子源加工本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种耐腐蚀高增透的日夜两视光学玻璃薄膜，其特征在于：依次包括基底层、相互交替的氧化硅层和氧化锆层、氟化镁层；其中基底层为玻璃，与基底层相邻的是氧化硅层，氟化镁为所述光学薄膜的最外层。

【技术特征摘要】
1.一种耐腐蚀高增透的日夜两视光学玻璃薄膜，其特征在于：依次包括基底层、相互交替的氧化硅层和氧化锆层、氟化镁层；其中基底层为玻璃，与基底层相邻的是氧化硅层，氟化镁为所述光学薄膜的最外层。2.根据权利要求1所述的一种耐腐蚀高增透的日夜两视光学玻璃薄膜，其特征在于：其中氧化锆层的厚度为10~90nm，氧化硅层的厚度为8-90nm，氟化镁层的厚度为80-110nm。3.根据权利要求1所述的一种耐腐蚀高增透的日夜两视光学玻璃薄膜，其特征在于：所述的耐腐蚀高增透的日夜两视光学薄膜除了基底层之外共有9±2层。4.根据权利要求3所述的一种耐腐蚀高增透的日夜两视光学玻璃薄膜，其特征在于：所述的耐腐蚀高增透的日夜两视光学薄膜除了基底层之外共有9层，依次为氧化硅层、氧化锆层、氧化硅层、氧化锆层、氧化硅层、氧化锆层、氧化硅层、氧化锆层和氟化镁层。5.根据权利要求4所述的一种耐腐蚀高增透的日夜两视光学玻璃薄膜，其特征在于：以氧化硅层...

【专利技术属性】
技术研发人员：田儒平，何金桥，
申请(专利权)人：福建福光光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：福建,35