一种沟畦以及膜下滴灌暗沟栽培方法技术

本发明专利技术公开了一种沟畦以及膜下滴灌暗沟栽培方法。本发明专利技术沟畦为垄、沟相间的畦，垄上铺有滴灌带，垄上覆盖地膜，且两垄之间的垄沟在地膜下形成一条暗沟，垄上定植作物。本发明专利技术方法包括以下步骤：在种植作物时，将平整好的定植地做成垄、沟相间的畦；在高垄上铺上滴灌带，将两垄和一条垄沟用地膜盖上，使地膜下面形成一条暗沟；将作物定植在被地膜盖上的两个高垄上，形成两高垄定植间隔一条膜下暗沟。本发明专利技术具有节水、节肥、节农药、节地、保土、保肥、增温、调温等优点，有效提高作物的品质、产量。

Drip irrigation ditch cultivation method and membrane under furrow

The invention discloses a cultivation method of drip irrigation ditch, ditch irrigation under film. The present invention is the furrow ridge and ditch and furrow, ridge with drip irrigation, ridge mulching and furrow ridge between the two, the formation of a ditch in the film, the ridge planting crops. The method comprises the following steps: in planting crops, the smooth planting a ridge, ditch and furrow; in high ridge covered with drip irrigation belt, two ridges and one ridge with plastic film cover, the film formed under a ditch; the crop planted in two high ridge plastic film on the cover, forming a high ridge planting interval under film subdrain. The invention has the advantages of water saving, fertilizer saving, pesticide saving, land saving, soil conservation, fertilizer saving, temperature increasing, temperature regulating, etc., and effectively improves the quality and yield of crops.

【技术实现步骤摘要】
一种沟畦以及膜下滴灌暗沟栽培方法
本专利技术属于农作物种植
，尤其涉及一种沟畦以及膜下滴灌暗沟栽培方法。
技术介绍
现有瓜果、花卉、蔬菜的栽培过程中，采用的是传统的沟畦灌方法。传统沟畦灌方法中，一次灌水量大，地表长时间保持湿润，不但棚温、地温降低太快，回升较慢，且蒸发量加大，室内湿度太高，易导致作物易发生病虫害；此外，在传统沟畦灌较大灌水量作用下，使设施土壤受到较多的冲刷、压实和侵蚀，若不及时中耕松土，会导致严重板结，通气性下降，导致作物生长慢、产量低，土壤结构遭到一定程度破坏的问题；最后，传统沟畦还存在着费水、费时的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种沟畦以及膜下滴灌暗沟栽培方法，旨在上述
技术介绍
中现有沟畦灌导致的各种问题。本专利技术是这样实现的，一种沟畦，该沟畦为垄、沟相间的畦，垄上铺有滴灌带，垄上覆盖地膜，且两垄之间的垄沟在地膜下形成一条暗沟，垄上定植作物。优选地，所述垄的高度为20cm，所述垄的底部宽度为35cm。本专利技术进一步提供了一种膜下滴灌暗沟栽培方法，该方法包括以下步骤：(1)在种植作物时，将平整好的定植地做成垄、沟相间的畦；(2)在高垄上铺上滴灌带，将两垄和一条垄沟用地膜盖上，使地膜下面形成一条暗沟；(3)将作物定植在被地膜盖上的两个高垄上，形成两高垄定植间隔一条膜下暗沟。优选地，所述垄的高度为20cm，所述垄的底部宽度为35cm。优选地，所述作物包括瓜果、花卉、蔬菜。相比于现有技术的缺点和不足，本专利技术具有以下有益效果：(1)节水、节肥、节农药、节地：本专利技术平均可节水20％，节约肥料20％；可省农药10％以上，杀虫效果好，不易伤及害虫天敌；此外还能减轻化肥、农药对土壤、环境的污染。(2)保土、保肥、增温、调温：本专利技术可有效避免土肥流失；本专利技术能确保地温回升快，苗期具有明显的增温作用；本专利技术能有效地调节膜下地表温度，为瓜类、茄果类蔬菜中后期生长创造良好的地温环境。(3)提高品质、增加产量25～35％：本专利技术所需农药、化肥施用量减少，土壤污染减小；土壤水分运动主要借助于毛细管作用，不破坏团粒结构，土壤的透气性、保温性良好，有利于土壤养分的活化；因此，创造了有利于蔬菜生长发育的水、肥、气、热环境，生长快，抗病能力强，污染小，同时改善了对病害的控制，病原体通过水流传播的机会很小，结果必然是产量高、品质好。(4)防治盐碱，适应盐碱能力强：本专利技术不产生深层渗漏，能有效避免地下水位上升，遏制土壤次生盐渍化的发生。附图说明图1是本专利技术沟畦横向截面结构示意图；图2是本专利技术沟畦的立体结构示意图。具体实施方式为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。如图1～2所示，图1是本专利技术沟畦横向截面结构示意图；图2是本专利技术沟畦的立体结构示意图。本专利技术公开了一种沟畦，该沟畦为垄1、沟2相间的畦，垄1上铺有滴灌带3，垄1上覆盖地膜4，且两垄1之间的垄沟2在地膜4下形成一条暗沟，垄上定植作物5。更具体的，根据实际需要，所述垄1的高度为20cm，所述垄1的底部宽度为35cm。滴灌带3为设有滴水孔的滴管。本专利技术进一步提供了一种膜下滴灌暗沟栽培方法，该方法包括以下步骤：(1)在种植作物时，将平整好的定植地做成垄1、沟2相间的畦；(2)在高垄上铺上滴灌带3，将两垄和一条垄沟用地膜4盖上，使地膜4下面形成一条暗沟；(3)将作物5定植在被地膜4盖上的两个高垄上，形成两高垄定植间隔一条膜下暗沟。更具体的，根据实际需要，所述垄1的高度为20cm，所述垄1的底部宽度为35cm。更具体的，所述作物5包括瓜果、花卉、蔬菜。在本专利技术的实际应用过程中，平均可节水20％，节约肥料20％；可省农药10％以上，杀虫效果好，不易伤及害虫天敌；此外还能减轻化肥、农药对土壤、环境的污染。本专利技术可有效避免土肥流失；本专利技术能确保地温回升快，苗期具有明显的增温作用；本专利技术能有效地调节膜下地表温度，为瓜类、茄果类蔬菜中后期生长创造良好的地温环境。本专利技术所需农药、化肥施用量减少，土壤污染减小；土壤水分运动主要借助于毛细管作用，不破坏团粒结构，土壤的透气性、保温性良好，有利于土壤养分的活化；因此，创造了有利于蔬菜生长发育的水、肥、气、热环境，生长快，抗病能力强，污染小，同时改善了对病害的控制，病原体通过水流传播的机会很小，结果必然是产量高、品质好，作物产量能增加25～35％。最后，本专利技术不产生深层渗漏，能有效避免地下水位上升，遏制土壤次生盐渍化的发生，防治盐碱，适应盐碱能力强。以上所述仅为本专利技术的较佳实施例而已，并不用以限制本专利技术，凡在本专利技术的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本专利技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种沟畦，其特征在于，该沟畦为垄、沟相间的畦，垄上铺有滴灌带，垄上覆盖地膜，且两垄之间的垄沟在地膜下形成一条暗沟，垄上定植作物。

【技术特征摘要】
1.一种沟畦，其特征在于，该沟畦为垄、沟相间的畦，垄上铺有滴灌带，垄上覆盖地膜，且两垄之间的垄沟在地膜下形成一条暗沟，垄上定植作物。2.如权利要求1所述的沟畦，其特征在于，所述垄的高度为20cm，所述垄的底部宽度为35cm。3.一种膜下滴灌暗沟栽培方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：(1)在种植作物时，将平整好的定植地做成垄、沟相间的畦；(...

【专利技术属性】
技术研发人员：杜晓云，张秀，晋洁琼，郭金，
申请(专利权)人：商都县科技特派员工作站，
类型：发明
国别省市：内蒙古,15