清洁硅光电导体制造技术

在示例性实施方式中，一种清洁硅光电导体的方法包括使所述硅光电导体与碱‑过氧化物溶液接触，利用液体漂洗所述硅光电导体，以及加热所述硅光电导体以使所述液体蒸发。

Clean silicon photoconductor

In an exemplary embodiment, a method for cleaning silicon photoconductor includes the contact silicon photoconductor and alkali peroxide solution, using liquid rinsing the silicon photoconductor, and heating the silicon photoelectric conductor so that the evaporation of liquid.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】清洁硅光电导体
技术介绍
电子照相(EP)印刷装置通过在光电导体上放置均匀的静电电荷而在印刷介质上形成图像，并且然后选择性地对与图像对应的光电导体放电。选择性放电在光电导体上形成静电潜像。然后使着色剂显影到光电导体的潜像上，最终将着色剂转移到介质上以形成介质上的图像。在干式EP(DEP)印刷装置中，将调色剂用作着色剂，它是在介质通过光电导体下方时由介质接收的。然后在它通过加热的压辊时，将调色剂固定在一个地方。在液体EP(LEP)印刷装置中，墨水被用作着色剂而非调色剂。在LEP装置中，将光电导体上显影的墨水图像偏移到图像转移元件，其中对其加热，直到溶剂蒸发且树脂质着色剂熔化。该图像层然后被转移到被支撑在旋转压印鼓上的印刷介质的表面。利用电子照相印刷装置实现高印刷质量(PQ)部分地取决于使光电导体保持清洁，以使其具有能够维持静电潜像的高表面电阻率。然而，在正常印刷过程期间，光电导表面累积污染并变得氧化。光电导表面还可以吸收湿气。污染物、氧化和湿气能够在整个表面上生成横向电导率，导致PQ很差、边缘模糊以及消除了诸如点和线等小元件。附图说明现在将参考附图，通过示例的方式描述本实施例，在附图中：图1示出了用于清洁非晶硅光电导体的系统的示例；图2示出了适合于在用于清洁非晶硅光电导体的系统中使用的印刷装置的示例；图3示出了示例性控制器的方框图，该控制器适合于在LEP印刷机内实施以控制热循环过程，以使来自硅光电导体的剩余漂洗溶液蒸发；图4和5示出了流程图，其图示了涉及在清洁站中使用碱-过氧化物溶液清洁非晶硅光电导体以及对光电导体进行热循环以在清洁之后使液体蒸发的示例性方法。贯穿所有附图，相同的附图标记指示相似但未必相同的元件。具体实施方式电子照相印刷装置中的光电导体一般包括照片成像部件，例如安装于成像鼓或成像筒上或者缠绕于成像鼓或成像筒周围的非晶硅光感受器。光感受器限定了可以形成图像的成像鼓的外表面。随着时间的推移，由于电子照相印刷装置产生越来越多的印刷品，非晶硅光电导体的表面变得被污染并发展出外氧化层。光电导表面还可以吸收湿气，以及包括灰尘和能够通过例如附着到水蒸汽而累积在光电导表面上的其它物质的污染物。该污染和氧化层减小了光电导体清晰印刷的能力，尤其是关于较小的印刷元素，例如线和点。非晶硅光电导体的被污染表面导致整个表面上的横向电导率干扰光电导体上的潜像的形成和强度。横向电导率使得墨水能够在光电导体表面上移动而不是停在一个地方。这可以导致印刷质量问题，例如印刷的线彼此冲突，因此它们呈现为树枝而非直线。已经显示了从非晶硅光电导体的表面去除污染显著改善或恢复了电子照相印刷装置的印刷质量。现有的清洁这种光电导体的表面的方法包括使用磨蚀技术，其会磨掉污染层。令人遗憾的是，这种技术通常还包含在清洁期间利用研磨材料接触光电导体的硅表面，这可能磨损和/或损耗光电导体的表面，导致光电导深度的显著减小。这种深度减小能够缩短光电导体的寿命，并由此增加了操作电子照相印刷装置的总成本。因此，本文描述的示例性方法和系统提供了以恢复高印刷质量而不损耗光电导体或以其它方式减少其寿命的方式清洁硅光电导体。清洁过程包括利用碱-过氧化物溶液接触光电导体，然后利用漂洗溶液漂洗它。在一些示例中，碱-过氧化物溶液和漂洗溶液的应用可以在从印刷装置去除光电导体之后发生于清洁站内部。在清洁站中进行清洁和漂洗之后，将光电导体表面基本擦干，并且然后使其暴露于热处理循环，以使剩余的漂洗溶液从光电导体蒸发。硅光电导体的清洁和热循环通过减小或消除横向电导率以及由污染物、氧化物层和湿气所导致的得到的印刷特征模糊不清，而显著改善了利用光电导体产生的印刷页的质量。在一个示例中，一种清洁成像鼓上的硅光电导体的方法包括使硅光电导体与碱-过氧化物溶液接触，以及利用液体漂洗硅光电导体。然后将光电导体加热以使液体从光电导体蒸发。在一些示例中，在加热光电导体之前从硅光电导体擦掉过多的液体。在另一个示例中，一种用于清洁硅光电导体的系统包括电子照相印刷装置和可以从印刷装置去除的硅光电导体。该系统还包括清洁站，该清洁站包括碱-过氧化物溶液和漂洗溶液。清洁站用以接收光电导体，并且在清洁站内要使光电导体与碱-氧化物溶液接触，并且然后利用漂洗溶液漂洗光电导体。该系统还包括光电导体加热机构，其用于加热光电导体以使剩余漂洗溶液从所述光电导体蒸发。在另一个示例中，一种非暂态机器可读存储介质存储指令，该指令在由印刷装置的处理器执行时，使印刷装置从清洁站接收硅光电导体，已经在清洁站内分别使用碱-过氧化物溶液和漂洗溶液来清洁和漂洗硅光电导体。响应于接收到硅光电导体，印刷装置要执行热循环，以便使任何剩余的漂洗溶液从硅光电导体蒸发。图1在概念上例示了用于以恢复高印刷质量而不损耗光电导体或以其它方式减少光电导体的寿命的方式清洁硅光电导体的示例性系统100。系统100包括按需印刷电子照相印刷装置102，例如液体电子照相印刷机。印刷装置102包括用于形成要印刷的图像的可移除光电导体104。在一些示例中，可移除光电导体104包括安装于成像鼓或成像筒上或者缠绕于成像鼓或成像筒周围的非晶硅光电导层(即，光感受器)，如本文在下面进一步讨论的。因此，如本文所论述的，可移除光电导体104一般被认为包括非晶硅光电导体104。然而，并非意在将光电导体104限制于此方面，并且在其它示例中，光电导体可以包含光电导层，该光电导层包括另一适当的光电导材料，例如晶体硅光电导材料。下文更详细讨论的印刷装置102还包括加热机构，例如光电导体加热器106和热循环模块108。在不同的示例中，热循环模块108可以包括被设计为执行特定功能或功能组合的硬件、编程指令或硬件与编程指令的组合。并入模块108中的硬件可以包括例如处理器和存储器，而编程指令包括存储在存储器上并可以由处理器执行以执行指定功能的代码。一个这种功能可以包括例如通过控制光电导体加热器106、可移除光电导体104和印刷装置102的其它部件来执行可移除非晶硅光电导体104的循环加热。连同印刷装置102一起，系统100包括清洁站110。清洁站110包括碱-过氧化物溶液112和漂洗溶液114。在不同示例中，碱-过氧化物溶液112的成分(即，碱112a和氧化剂112b)可以独立或一起保持在清洁站110中。于是，清洁站110可以适于使碱112a和氧化剂112b与光电导体104独立接触。在一些示例中，清洁站110可以包括独立的容器，每个都包含碱112a和氧化剂112b之一，使得光电导体104可以与碱112a和氧化剂112b独立接触。清洁站110可以适于在接触碱112a之后并且在接触氧化剂112b之前，或者在另一个示例中，在接触氧化剂112b之后且在接触碱112a之前，漂洗光电导体104。在一些示例中，清洁站110适于使碱112a和氧化剂112b同时与光电导体104接触。清洁站110可以包括在承载液体(例如，水，可以是去离子水)中包含碱112a和氧化剂112b作为单一碱-过氧化物溶液112的容器，使得光电导体104可以与碱-过氧化物溶液112接触。清洁站110可以在任何适当的容器中保持碱112a和光电导体104，该容器可以具有耐碱112a和氧化剂112b腐蚀的材料的壁。该容器例如可以具有包括从玻璃本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种清洁硅光电导体的方法，包括：使所述硅光电导体与碱‑过氧化物溶液接触；利用液体漂洗所述硅光电导体；以及加热所述硅光电导体以使所述液体蒸发。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种清洁硅光电导体的方法，包括：使所述硅光电导体与碱-过氧化物溶液接触；利用液体漂洗所述硅光电导体；以及加热所述硅光电导体以使所述液体蒸发。2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述碱-过氧化物溶液包括承载液体中的氨和过氧化氢。3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述碱-过氧化物溶液在与所述硅光电导体接触期间，处于至少70℃的温度。4.根据权利要求1所述的方法，还包括：在加热所述硅光电导体之前，从所述硅光电导体擦掉液体，其中，用于漂洗所述硅光电导体的所述液体包括水。5.根据权利要求1所述的方法，其中，使所述硅光电导体与碱-过氧化物溶液接触包括将所述硅光电导体从电子照相印刷装置转移到清洁站，并且加热所述硅光电导体包括将所述硅光电导体从所述清洁站转移回到所述电子照相印刷装置。6.根据权利要求5所述的方法，其中，加热所述硅光电导体包括在所述电子照相印刷装置中对所述硅光电导体进行热循环。7.根据权利要求1所述的方法，其中，加热所述硅光电导体包括使所述硅光电导体与被加热的印刷橡皮布接合以使所述硅光电导体达到所述印刷橡皮布的工作温度。8.根据权利要求1所述的方法，其中，加热所述硅光电导体包括对所述硅光电导体进行热循环直到达到90℃到250℃的范围内的蒸发温度。9.一种用于清洁硅光电导体的系统，包括：电子照相印刷装置；能够从所述印刷装置移除的硅光电导体；包括碱-过氧化物溶液和漂洗溶液的清洁站，所述清洁站用于接收所述光电导体，使所述光电导体与所述碱-氧化...

【专利技术属性】
技术研发人员：R·迪亚曼特，S·穆阿利姆，B·塔甘斯凯，
申请(专利权)人：惠普印迪格公司，
类型：发明
国别省市：荷兰,NL