一种湿法制粒机的清洗系统技术方案

本实用新型专利技术涉及湿法制粒机技术领域，尤其是一种湿法制粒机的清洗系统，包括机架、以及安装在机架上的制粒锅和出料组件，所述制粒锅包括锅体和用于密封锅体口的锅盖，所述锅盖上均匀设有对锅体内部设备进行清洗的若干个第一在位清洗喷头；所述出料组件固定密封连接在所述锅体的侧壁上，所述出料组件包括出料口和均匀设置在出料口上方对出料口进行清洗若干个第二在位清洗喷头，通过出料口排出锅体内的清洗液后，再对出料口进行清洗，从而达到彻底清洗的效果。

Cleaning system for wet granulators

The utility model relates to the technical field of wet granulation machine, especially cleaning system for wet granulator granulation, including pot rack, and mounted on the frame and a material component, the granulating pot comprises a pot body and a pot lid seal for export, with the internal cleaning equipment of the pot body several the first in the cleaning nozzle is evenly arranged on the cover; the discharge assembly is fixed sealed and connected to the pot body on the side wall of the discharging assembly includes a discharge port and uniformly arranged over the outlet of the outlet for cleaning a plurality of second on-site cleaning nozzle, washing liquid pot in the outlet, then wash the outlet, so as to achieve complete cleaning effect.

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及湿法制粒机
，尤其是一种湿法制粒机的清洗系统。
技术介绍
湿法制粒机是用以将潮湿的粉料研制成所需的颗粒，也可将块状的干料粉碎到所需的颗粒，湿法制成的颗粒经过表面润湿，具有颗粒质量好，外形美观、耐磨性较强、压缩成型性好等优点，在医药工业中应用最为广泛。在对物料进行制粒时，由于制粒的物料不同，在制粒完成一种物料后，为了保证制粒的质量和效果，需要经过清洗后才能对后一种物料进行制粒，然而现有的湿法制粒机的清洗设备只是对制粒的锅体进行清洗，清洗后的清洗液通过出料口排出，在实际操作过程中，排出的清洗液的很多残渣会留在出料口，从而对后续制粒颗粒造成极大的影响。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是：为了解决现有湿法制粒机的清洗只是对锅体进行清洗，清洗不彻底的问题，本技术提供了一种湿法制粒机的清洗系统，通过在锅盖上的第一在位清洗喷头，且在出料组件上设置第二在位清洗喷头，先对锅体进行清洗，通过出料口排出锅体内的清洗液后，再对出料口进行清洗，从而达到彻底清洗的效果。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是：一种湿法制粒机的清洗系统，包括机架、以及安装在机架上的制粒锅和出料组件，所述制粒锅包括锅体和用于密封锅体口的锅盖，所述锅盖上均匀设有对锅体内部设备进行清洗的若干个第一在位清洗喷头；所述出料组件固定密封连接在所述锅体的侧壁上，所述出料组件包括出料口和均匀设置在出料口上方对出料口进行清洗若干个第二在位清洗喷头。具体地，所述锅盖与锅体的连接面上周向设有放置密封圈的密封腔，保证良好的密封效果。具体地，所述锅盖上还设有观察口，方便观察锅体内部制粒情况。具体地，所述第一在位清洗喷头为1个、2个或3个，保证清洗效果更好。具体地，所述第二在位清洗喷头为1个、2个或3个，保证清洗效果更好。本技术的有益效果是：本技术提供了一种湿法制粒机的清洗系统，通过设置在锅盖上的第一在位清洗喷头，对锅体内部进行喷雾清洗，并通过出料口排出，然后通过设置在出料组件第二在位清洗喷头对出料口进行清洗，从而保证清洗彻底，为后续制粒提供良好的制粒环境，保证了制粒的质量。附图说明下面结合附图和实施例对本技术进一步说明。图1是本技术的一种湿法制粒机的清洗系统的结构示意图；图中：1.机架；2.制粒锅；3.出料口；4.第二在位清洗喷头；21.锅盖；22.第一在位清洗喷头；23.观察口；24.密封腔；25.锅体。具体实施方式现在结合附图对本技术作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本技术的基本结构，因此其仅显示与本技术有关的构成。如图1所示，一种湿法制粒机的清洗系统，包括机架1、以及安装在机架1上的制粒锅2和出料组件，制粒锅2包括锅体25和用于密封锅体25口的锅盖21，锅盖21上均匀设有对锅体25内部设备进行清洗的若干个第一在位清洗喷头22；出料组件固定密封连接在锅体25的侧壁上，出料组件包括出料口3和均匀设置在出料口3上方对出料口3进行清洗若干个第二在位清洗喷头4。其中锅盖21与锅体25的连接面上周向设有放置密封圈的密封腔24，而且锅盖21上还设有观察口23。作为优选，第一在位清洗喷头22为1个、2个或3个。作为优选，第二在位清洗喷头4为1个、2个或3个。当制粒机制粒完成后需要对其他物料进行制粒时，需要对制粒机进行清洗，通过设置在锅盖21上的第一在位清洗喷头22，对锅体25内部进行喷雾清洗，并通过出料口3排出，然后通过设置在出料组件第二在位清洗喷头4对出料口3进行清洗，从而达到彻底清洗的效果。在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。此外，在本技术的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本技术的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对所述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。以上述依据本技术的理想实施例为启示，通过上述的说明内容，相关工作人员完全可以在不偏离本项技术技术思想的范围内，进行多样的变更以及修改。本项技术的技术性范围并不局限于说明书上的内容，必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种湿法制粒机的清洗系统，包括机架（1）、以及安装在机架（1）上的制粒锅（2）和出料组件，其特征在于：所述制粒锅（2）包括锅体（25）和用于密封锅体（25）口的锅盖（21），所述锅盖（21）上均匀设有对锅体（25）内部设备进行清洗的若干个第一在位清洗喷头（22）；所述出料组件固定密封连接在所述锅体（25）的侧壁上，所述出料组件包括出料口（3）和均匀设置在出料口（3）上方对出料口（3）进行清洗若干个第二在位清洗喷头（4）。

【技术特征摘要】
1.一种湿法制粒机的清洗系统，包括机架（1）、以及安装在机架（1）上的制粒锅（2）和出料组件，其特征在于：所述制粒锅（2）包括锅体（25）和用于密封锅体（25）口的锅盖（21），所述锅盖（21）上均匀设有对锅体（25）内部设备进行清洗的若干个第一在位清洗喷头（22）；所述出料组件固定密封连接在所述锅体（25）的侧壁上，所述出料组件包括出料口（3）和均匀设置在出料口（3）上方对出料口（3）进行清洗若干个第二在位清洗喷头（4）。2.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：张俊，刘伟男，
申请(专利权)人：创志机电科技发展江苏股份有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32