Extreme ultraviolet (EUV) radiation source material (8) includes at least one metal particles (30), at least one of the metal particles embedded in heavy inert gas cluster (20), the weight of inert gas in an inert gas clusters containing clusters within the shell (10). The EUV radiation source assembly can be activated by a sequence of at least one first laser pulse and at least one second laser pulse. Each of the first laser pulses is produced by the separation of the outer orbital electrons from at least one of the metal particles (30) and the release of electrons into a heavy inert gas cluster (20). Each of the second laser pulses amplifies the plasma embedded in a heavy inert gas cluster (20), triggering a laser driven self amplification process. The amplified plasma causes the electron transition between the heavy inert gas and other constituent atoms, leading to the emission of EUV radiation. A laser pulse unit can be combined with a source pellet production unit to form an integrated EUV source system.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术实施例涉及一种极紫外(EUV)辐射源和一种用于产生EUV辐射的装置。
技术介绍
极紫外(EUV)技术是指使用极紫外(EUV)波长的光刻技术。目前EUV技术致力于产生具有大约13.5nm波长的窄带电磁辐射。可替选地,EUV辐射可以被称作软x射线,因为其落入在x射线和紫外频带之间。轨道间原子和分子发射是产生这种电磁辐射的潜在来源。理论上,源目标可以是固体、液体液滴或气体。已知的EUV源类型包括放电产生等离子体(DPP)系统、激光产生等离子体(LPP)系统和同步辐射源系统。在这些系统中,已知LPP系统用来提供高强度EUV辐射,且目前是有广泛的研究工作的主题。
技术实现思路
一种极紫外(EUV)辐射源粒料(pellet)包括嵌入在重惰性气体团簇内的至少一个金属颗粒,所述重惰性气体团簇包含在惰性气体壳团簇内。EUV辐射源组件可以通过至少一个第一激光脉冲和至少一个第二激光脉冲的顺序照射来激活。每个第一激光脉冲通过从至少一个金属颗粒分离外轨道电子并释放电子进入重惰性气体团簇来产生等离子体。每个第二激光脉冲放大嵌入在重惰性气体团簇中的等离子体,触发激光驱动的自放大过程,其中越多的等离子体能量引发越多的自由电子且反之亦然。经放大的等离子体引发重惰性气体和其它构成原子中的轨道间电子跃迁,导致EUV辐射的发射。激光脉冲单元可以与源粒料产生单元组合以形成集成的EUV源系统。根据本公开的一个方面,提供一种用于产生极紫外(EUV)辐射的装置。所述装置包括:极紫外(EUV)辐射源粒料产生器,被配置为产生EUV辐射粒料。每个EUV辐射粒料包含:至少一个金属颗粒,其是金属元素的原子 ...
【技术保护点】
一种用于产生极紫外(EUV)辐射的装置,所述装置包括:极紫外(EUV)辐射源粒料产生器,被配置为产生EUV辐射粒料,所述EUV辐射粒料包含:至少一个金属颗粒;重惰性气体团簇,被嵌入有所述至少一个金属颗粒;以及惰性气体壳团簇,被嵌入有所述重惰性气体团簇并且包含选自He、Ne和Ar的轻惰性气体的团簇;以及至少一个照射源,其中所述至少一个照射源中的每个照射源被配置成朝着所述EUV辐射粒料的路径来照射激光束。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.09.12 US 14/484,9961.一种用于产生极紫外(EUV)辐射的装置,所述装置包括:极紫外(EUV)辐射源粒料产生器,被配置为产生EUV辐射粒料,所述EUV辐射粒料包含:至少一个金属颗粒;重惰性气体团簇,被嵌入有所述至少一个金属颗粒;以及惰性气体壳团簇,被嵌入有所述重惰性气体团簇并且包含选自He、Ne和Ar的轻惰性气体的团簇;以及至少一个照射源,其中所述至少一个照射源中的每个照射源被配置成朝着所述EUV辐射粒料的路径来照射激光束。2.根据权利要求1所述的装置,其中所述至少一个照射源包括:第一激光源,被配置成在所述EUV辐射粒料的所述路径中的第一点处照射第一激光束;以及第二激光源,被配置成在所述EUV辐射粒料的所述路径中的第二点处照射第二激光束,与所述第一点距离产生所述EUV照射粒料的位置相比,所述第二点更远离于所述位置。3.根据权利要求2所述的装置,其中所述第二激光束的强度比所述第一激光束的强度大至少两倍。4.根据权利要求2所述的装置,其中所述第二激光束具有比所述第一激光束长的波长。5.根据权利要求2所述的装置,其中所述第二激光束是来自CO2激光器的激光束,且所述第一激光束具有短于800nm的波长。6.根据权利要求1所述的装置,其中所述EUV辐射源粒料产生器包括:液滴产生器单元,被配置为沿着液滴传输路径来发射所述轻惰性气体He、Ne和Ar的团簇;金属颗粒产生器,被配置成沿着金属颗粒束方向来发射所述至少一个金属颗粒,所述金属颗粒束方向在第一相交区域处与所述液滴传输路径相交;以及重惰性气体团簇束产生器,被配置成沿着重惰性气体团簇束方向来发射所述重惰性气体的团簇,所述重惰性气体团簇束方向在第二相交区域处与所述液滴传输路径相交。7.根据权利要求6所述的装置,其中与所述第二相交区域至发射所述轻惰性气体的团簇的...
【专利技术属性】
技术研发人员:V·V·德什潘德,S·V·德什潘德,D·克利斯,O·格鲁申克夫,S·克里什南,
申请(专利权)人:国际商业机器公司,
类型:发明
国别省市:美国;US
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