屏蔽箱制造技术

本实用新型专利技术实施例涉及一种屏蔽箱,包括：箱体和屏蔽门；屏蔽门安装在箱体上；箱体和屏蔽门均由屏蔽层构成，屏蔽层包括第一屏蔽层、第二屏蔽层、第三屏蔽层和第四屏蔽层；其中，第一屏蔽层为铅层；第二屏蔽层为镉层，设置于第一屏蔽层的内侧；第三屏蔽层为不锈钢层，设置于第二屏蔽层的内侧；第四屏蔽层为聚乙烯层，设置于第三屏蔽层的内侧。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种辐射监测
，尤其涉及一种屏蔽箱。
技术介绍
自原子弹试验成功，核能的应用得到广泛普及，涉及军事、医疗、能源等方面。导致环境中人工放射性提高，接触电离辐射的工作人员的辐射防护和安全也越来越得到关注。因此，环境核辐射监测势在必行。环境核辐射监测是指对核设施周围环境中已存在的辐射水平、环境介质中放射性核素的含量，以及为评价公众剂量所需的环境参数、社会状况进行的监测。目前我国常见环境剂量仪表的检测下限一般在20nSv/h，环境本底下限则在100nSv/h左右。在环境核辐射监测中，环境剂量监测仪表校准优劣决定工作人员的安全。环境监测用仪表检定规程(JJG521-2006)中规定，环境级监测仪表能量响应区间为50keV～1.5MeV，测量环境γ辐射的剂量率仪，其量程下限至1×10-8Gy/h，上限至1×10-2Gy/h。因此开展环境监测仪表的校准和形势评价需要一个极低的本底水平。环境监测仪表的校准与检定由于环境本底的居高不下很难监测到探测下限，其次建筑材料中含有的氡及其子体也导致室内的本底较室外高。
技术实现思路
本技术的目的是针对现有技术的缺陷，提供一种屏蔽箱，可以实现一个较低本底的实验环境，屏蔽宇宙射线的软成分和环境中40K、238U和232Th衰变链中各元素的放射性，从而拓展探测器或剂量仪表下限标定或刻度，满足探测使用需求，保证测量精度。为实现上述目的，本技术提供了一种屏蔽箱，所述屏蔽箱包括：箱体和屏蔽门；所述屏蔽门安装在所述箱体上；所述屏蔽门的四周设有屏蔽密封结构；所述箱体包括线缆出口,所述线缆出口的第一端设置于所述箱体的外壁上，所述线缆出口的第二端设置于所述箱体的内壁上，所述第一端与所述第二端之间由通道连接，所述第一端与第二端不在同一水平位置；所述箱体和屏蔽门均由屏蔽层构成，所述屏蔽层包括第一屏蔽层、第二屏蔽层、第三屏蔽层和第四屏蔽层；其中，所述第一屏蔽层为铅层；所述第二屏蔽层为镉层，设置于所述第一屏蔽层的内侧；所述第三屏蔽层为不锈钢层，设置于所述第二屏蔽层的内侧；所述第四屏蔽层为聚乙烯层，设置于所述第三屏蔽层的内侧。优选的，所述箱体具有屏蔽门安装面，所述屏蔽门安装面的上端和底端分别设有滑轨，所述屏蔽门的上端和底端分别设有滑槽，所述滑槽上设有滑轮，所述滑轮在所述滑轨上移动，从而带动所述屏蔽门在所述箱体上滑移。进一步优选的，所述屏蔽门为双开门，所述双开门上分别设有把手。优选的，所述第一屏蔽层的厚度为30mm；所述第二屏蔽层的厚度为0.8mm；所述第三屏蔽层的厚度为0.7mm；所述第四屏蔽层的厚度为3mm。优选的，所述屏蔽箱用于屏蔽能量范围为100keV～300keV的低能散射射线和能量为73keV的铅K壳层特征X射线。本技术实施例提供的屏蔽箱，可以实现一个较低本底的实验环境，屏蔽宇宙射线的软成分和环境中40K、238U和232Th衰变链中各元素的放射性，从而拓展探测器或剂量仪表下限标定或刻度，满足探测使用需求，保证测量精度。附图说明图1为本技术实施例提供的屏蔽箱的结构示意图；图2为本技术实施例提供的箱体的结构示意图；图3为本技术实施例提供的箱体的局部结构剖面图；图4A为本技术实施例提供的50keV点源在无屏蔽和完全屏蔽条件下的X射线能量分布对比图；图4B为本技术实施例提供的100keV点源在无屏蔽和完全屏蔽条件下的X射线能量分布对比图；图4C为本技术实施例提供的200keV点源在无屏蔽和完全屏蔽条件下的X射线能量分布对比图；图4D为本技术实施例提供的500keV点源在无屏蔽和完全屏蔽条件下的X射线能量分布对比图；图4E为本技术实施例提供的1.0MeV点源在无屏蔽和完全屏蔽条件下的X射线能量分布对比图；图4F为本技术实施例提供的1.5MeV点源在无屏蔽和完全屏蔽条件下的X射线能量分布对比图；图5A为本技术实施例提供的50keV点源在无镉屏蔽和完全屏蔽条件下的X射线能量分布对比图；图5B为本技术实施例提供的100keV点源在无镉屏蔽和完全屏蔽条件下的X射线能量分布对比图；图5C为本技术实施例提供的200keV点源在无镉屏蔽和完全屏蔽条件下的X射线能量分布对比图；图5D为本技术实施例提供的500keV点源在无镉屏蔽和完全屏蔽条件下的X射线能量分布对比图；图5E为本技术实施例提供的1.0MeV点源在无镉屏蔽和完全屏蔽条件下的X射线能量分布对比图；图5F为本技术实施例提供的1.5MeV点源在无镉屏蔽和完全屏蔽条件下的X射线能量分布对比图；图6A为本技术实施例提供的50keV点源在无不锈钢屏蔽和完全屏蔽条件下的X射线能量分布对比图；图6B为本技术实施例提供的100keV点源在无不锈钢屏蔽和完全屏蔽条件下的X射线能量分布对比图；图6C为本技术实施例提供的200keV点源在无不锈钢屏蔽和完全屏蔽条件下的X射线能量分布对比图；图6D为本技术实施例提供的500keV点源在无不锈钢屏蔽和完全屏蔽条件下的X射线能量分布对比图；图6E为本技术实施例提供的1.0MeV点源在无不锈钢屏蔽和完全屏蔽条件下的X射线能量分布对比图；图6F为本技术实施例提供的1.5MeV点源在无不锈钢屏蔽和完全屏蔽条件下的X射线能量分布对比图；图7A为本技术实施例提供的50keV点源在无聚乙烯屏蔽和完全屏蔽条件下的X射线能量分布对比图；图7B为本技术实施例提供的100keV点源在无聚乙烯屏蔽和完全屏蔽条件下的X射线能量分布对比图；图7C为本技术实施例提供的200keV点源在无聚乙烯屏蔽和完全屏蔽条件下的X射线能量分布对比图；图7D为本技术实施例提供的500keV点源在无聚乙烯屏蔽和完全屏蔽条件下的X射线能量分布对比图；图7E为本技术实施例提供的1.0MeV点源在无聚乙烯屏蔽和完全屏蔽条件下的X射线能量分布对比图；图7F为本技术实施例提供的1.5MeV点源在无聚乙烯屏蔽和完全屏蔽条件下的X射线能量分布对比图。具体实施方式下面通过附图和实施例，对本技术的技术方案做进一步的详细描述。本技术实施例提供的屏蔽箱为环境监测仪表的校准与检定提供了一个较低本底的实验环境，满足探测使用需求，保证测量精度。图1为本技术实施例提供的屏蔽箱的结构示意图。如图所示，本技术实施例的屏蔽箱包括：箱体1和屏蔽门2。屏蔽门2安装在箱体1上，其中，屏蔽门2可以为双开门，为了方便屏蔽门2的开启和关闭双开门上分别设有把手3，操作人员可以通过左右滑移双开门来实现屏蔽门2的开启或关闭。具体的，箱体1的正面为屏蔽门安装面11，屏蔽门安装面11的上端和底端分别设有滑轨(图中未示出)，屏蔽门2的上端和底端分别设有滑槽(图中未示出)，滑槽上设有滑轮，滑轮在滑轨上移动，从而带动屏蔽门2在箱体1上左右滑移，实现屏蔽门2的开启或关闭。为了屏蔽宇宙射线的软成分和环境中40K、238U和232Th衰变链中各元素的放射性，箱体1和屏蔽门2均由屏蔽层构成，如图2所示，屏蔽层包括第一屏蔽层12、第二屏蔽层13、第三屏蔽层14和第四屏蔽层15。其中，第一屏蔽层12为主屏蔽层，第一屏蔽层12的材质为铅，用于屏蔽环境中的伽马射线。但铅屏蔽层本身能产生本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种屏蔽箱，其特征在于，所述屏蔽箱包括：箱体和屏蔽门；所述屏蔽门安装在所述箱体上；所述屏蔽门的四周设有屏蔽密封结构；所述箱体包括线缆出口,所述线缆出口的第一端设置于所述箱体的外壁上，所述线缆出口的第二端设置于所述箱体的内壁上，所述第一端与所述第二端之间由通道连接，所述第一端与第二端不在同一水平位置；所述箱体和屏蔽门均由屏蔽层构成，所述屏蔽层包括第一屏蔽层、第二屏蔽层、第三屏蔽层和第四屏蔽层；其中，所述第一屏蔽层为铅层；所述第二屏蔽层为镉层，设置于所述第一屏蔽层的内侧；所述第三屏蔽层为不锈钢层，设置于所述第二屏蔽层的内侧；所述第四屏蔽层为聚乙烯层，设置于所述第三屏蔽层的内侧。

【技术特征摘要】
1.一种屏蔽箱，其特征在于，所述屏蔽箱包括：箱体和屏蔽门；所述屏蔽门安装在所述箱体上；所述屏蔽门的四周设有屏蔽密封结构；所述箱体包括线缆出口,所述线缆出口的第一端设置于所述箱体的外壁上，所述线缆出口的第二端设置于所述箱体的内壁上，所述第一端与所述第二端之间由通道连接，所述第一端与第二端不在同一水平位置；所述箱体和屏蔽门均由屏蔽层构成，所述屏蔽层包括第一屏蔽层、第二屏蔽层、第三屏蔽层和第四屏蔽层；其中，所述第一屏蔽层为铅层；所述第二屏蔽层为镉层，设置于所述第一屏蔽层的内侧；所述第三屏蔽层为不锈钢层，设置于所述第二屏蔽层的内侧；所述第四屏蔽层为聚乙烯层，设置于所述第三屏蔽层的内侧。2.根据权利要求1所述的屏蔽箱...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴金杰，周振杰，廖振宇，
申请(专利权)人：中国计量科学研究院，
类型：新型
国别省市：北京;11