一种防伪结构制造技术

本实用新型专利技术涉及防伪结构，该防伪结构包括底层，底层上表面连接表层，底层面积大于表层面积，本实用新型专利技术的防伪结构，形式上只有底层和表层，与现有技术相比，成本较低。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及防伪技术，尤其涉及一种防伪结构。
技术介绍
现有技防伪术中，大多以水印、有色纤维、荧光油墨印刷、微点或微小记号的形体及随机分布等作为防伪手段。比如，现有技术1，中国专利文献CN102108653A，公开的一种片状防伪材料，所述片状防伪材料采用正四边形以外的异形结构；且所述片状防伪材料由以下层状结构组成：纸质防伪载体层，其中所述纸质防伪载体为由至少两种纤维复配制造得到的纸张；以及防伪层。还公开了所述片状防伪材料的制备方法以及含有该片状防伪材料的防伪纸。本专利技术的片状防伪材料可以获得同时具备肉眼识别、快速机读、专家分析等多层次的防伪功能的防伪纸。再比如，现有技术2，中国专利文献CN104610812A，公开的荧光硅纳米颗粒作为防伪标记的应用，由硅源制备荧光硅纳米颗粒，将得到的荧光硅纳米颗粒用做防伪墨水来制备防伪图案。由于硅纳米颗粒具有很好的荧光性质，量子产率高，储存稳定性好，具有良好的激发波长依赖性，制备的防伪图案在不同激发波长的光照下能显示不同颜色的光，能起到很好的防伪效果。再比如，现有技术3，中国专利文献CN101673341A,公开的本专利技术涉及防伪技术，尤其涉及一种微点防伪方法。该方法包括以下步骤：(1)提供一种微点；(2)提供一种胶水，将微点混合于胶水之中；(3)向承载物上点混有微点的胶水；(4)固化胶水；(5)拍照胶滴，形成原始对比图片；(6)原始对比图片存入后台数据库；(7)防伪验证拍照胶滴，形成被比图片；(8)读取后台数据库原始对比图片，与被比图片比较，作出真伪判断；其中，第(5)步所述的拍照胶滴，为放大拍照；第(7)步所述的防伪验证拍照胶滴，也是放大拍照。本专利技术提供一种不可仿制的微点防伪方法。与此相对应，中国专利文献CN102267287A公开了一种类似的一种微点防伪印记的制备方法及及实现该方法的装置。微点防伪印记的制备方法包括以下步骤：S1，提供一种微点标记物，提供一种墨水；S2，混墨，即将微点标记物与墨水混合均匀；S3，提供至少二个喷头，提供目标物；S4，喷射，通过喷头将混有微点标记物的墨水喷向标的物；S5，干燥混有微点标记物的墨水；在喷射过程中，混墨步骤连续地进行，混墨、向喷头供墨、喷射是在全封闭的液路内完成的。本专利技术提供一种加工过程中不易混入杂质、实时保持微点在墨水内分布均匀的微点防伪印记的制备方法及实现该方法的装置。再比如，现有技术4，中国专利文献CN1350274A，公开的一种含有多数微小记号或图案的防伪标记及其形成方法，以含有多数微小图案记号的防伪标记，达成鉴定物品真伪及防止伪造的应用。物件鉴定用方法是根据在物件中所形成的至少一独特标记，它含有多数微小图案或记号，并以随机组合的方式合于标记内，以作为对比、鉴定的方法，而具有防止他人伪造及可以轻易达成识别及鉴定和对比的功效。再比如，现有技术5，中国专利文献CN105489112A，本专利技术涉及防伪技术，尤其涉及一种防伪材料及其制备方法，防伪材料包括片状的单晶硅模块，单晶硅模块具有镂空区域，防伪材料还包括金属模块，金属模块镶嵌于所述镂空区域；防伪材料的制备方法，通过在玻璃基底上面镀附着层、镀牺牲层、镀单晶硅层，涂布光固胶、曝光、显影、清洗，刻蚀单晶硅层，二次涂胶、曝光、显影、清洗，镀金属模块，清洗光固胶，刻蚀牺牲层，清洗过滤；本专利技术提供一种具有多材质、立体感的防伪材料及其制备方法。然而,诸如以上列举1至4，现有技术的复合纤维、荧光硅纳米颗粒、微点或微小记号的形体及随机分布等作为防伪手段，并不是向公开文本叙述的那样可以防止他人伪造的效果，随着科学技术的进步，这些技术手段均可以廉价仿制，不能仿制的只有现有技术3所述的后台数据库，但后台数据也不安全，企业的数据库很容易遭受黑客攻击，且需要通讯安全保障，仍然不理想。上述现有技术5，虽然克服了现有技术的缺陷，但金属和单晶硅材料成本都较高，工艺成本也高，尤其是刻蚀单晶硅层，需要昂贵的ICP设备，对于普通用户，实施压力较大。因而，现有技术的防伪材料与防伪手段均有或多或少的安全隐患，无安全隐患的成本高，需要不断推陈出新，不断进步。
技术实现思路
本技术的目的还在于克服上述现有技术的不足之处而提供一种成本低的防伪结构。本技术的目的可以通过以下技术方案实现。一种防伪结构，其特征在于：包括底层，底层上表面连接表层，底层面积大于表层面积。所述的防伪结构，其特征在于：所述底层是光固胶；所述表层是加有颜料的光固胶。所述的防伪结构，其特征在于：所述底层的光固可以加浅黄色颜料；所述表层是加有其它颜料的光固胶。因为光固胶本身是透明的，加浅黄色颜料后，设置表层时可以直接用底层套位，不需要在淹模板和半成品上设置对位线，工艺简单。所述的防伪结构，其特征在于：所述表层的形状是图案或文字的形状，图案或文字构成防伪信息。所述的防伪结构，其特征在于：所述表层全部位于底层上表面区域内。所述的防伪结构，其特征在于：所述底层厚度等于所述表层厚度。所述的防伪结构，其特征在于：所述底层厚度加上所述表层厚度介于2至10微米之间。本技术的防伪结构，包括底层，底层上表面连接表层，底层面积大于表层面积；形式上只有底层和表层；与现有技术相比，成本底。附图说明图1是本技术第一个实施例的正面示意图。图2是本技术第一个实施例的剖面示意图，即图1的A-A剖面图。具体实施方式下面将结合附图对本技术作进一步详述。参考图1、图2，本技术第一个实施例是一种防伪结构，包括底层002，底层002上表面连接表层001，底层002面积大于表层001面积。所述底层002是光固胶，应当理解，所述底层002也可以是加有浅黄色颜料的光固胶；所述表层001是加有颜料的光固胶；本实施例，底层002是透明的，所述表层001的颜色深于底层002的颜色。本实施例中表层是红色的。所述表层001的形状是图案或文字的形状，本实施例中表层001的形状是红色的头狼，红色的头狼形状构成防伪信息，应当理解，表层001的形状也可以是字母或文字，与本实施例是等同的。本实施例中，所述表层001全部位于底层002上表面区域内。所述底层的厚度等于所述表层的厚度，所述底层加上所述表层的厚度介于2至20微米之间。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种防伪结构，其特征在于：包括底层，底层上表面连接表层，底层面积大于表层面积。

【技术特征摘要】
1.一种防伪结构，其特征在于：包括底层，底层上表面连接表层，底层面积大于表层面积。2.根据权利要求1所述的防伪结构，其特征在于：所述底层的厚度等于所述表层的厚度。3.根据权利要求1所述的防伪结构，其特征在于：所...

【专利技术属性】
技术研发人员：翟兴，
申请(专利权)人：翟兴，
类型：新型
国别省市：广东;44