一种光投影装置及其校准方法制造方法及图纸

本发明专利技术属于光投影技术领域，涉及一种光投影装置及其校准方法。所述光投影装置，包括光栅投影装置和矢量投影装置，光栅投影装置的投影面和矢量投影装置的投影面在同一个平面，所述平面为投影工作面，在投影工作面内，光栅投影装置和矢量投影装置的投影范围重合。光投影装置还包括图像传感装置。所述光投影装置的校准方法包括依次获得投影图像P、矢量扫描区V、不完全光栅投影图像PM、完整光栅投影图像PR、矢量扫描图像PV，比较完整光栅投影图像PR和矢量扫描图像PV，确定投影重叠误差，对光栅投影装置和矢量投影装置的输入图形进行预校正。本发明专利技术通过将光栅投影和矢量扫描相结合，克服了现有技术的缺陷，能保证投影长时间的重合准确性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光投影
，具体涉及一种光投影装置及其校准方法。
技术介绍
光投影装置特别是紫外光投影装置是光固化成型的关键部件，其精度、强度、分辨率、覆盖尺寸等参数直接决定了光固化成型的整体性能。目前广泛采用光栅的DMD(DigitalMicromirrorDevice，数字微镜元件)器件投影和矢量的激光振镜扫描的方式。光栅DMD投影速度不受投影形状复杂度的影响，但是其表面光滑程度受到DMD器件分辨率的局限，高分辨率的DMD器件又比较昂贵；激光振镜扫描能够提供更光滑的轮廓，但是其扫描时间随着投影图形的复杂度而上升。例如，中国专利CN201420627342公开了一种3D打印装置，包括底座，设置在底座内的曝光机构、控制机构，以及设置在底座上的打印机构。在其实施例中曝光机构采用了基于DMD技术的DLP器件。但此打印装置中DMD技术的应用依然没有突破上述的局限和缺陷。
技术实现思路
本专利技术的目的是针对现有技术的不足，提供一种将光栅投影和矢量扫描技术相结合的光投影装置及其校准方法。本专利技术解决问题的技术方案是：一种光投影装置，包括光栅投影装置和矢量投影装置，所述光栅投影装置的投影面和矢量投影装置的投影面在同一个平面，所述平面为投影工作面，在所述投影工作面内，所述光栅投影装置的投影范围和矢量投影装置的投影范围重合，重合的区域为投影工作区。进一步地，所述光投影装置还包括图像传感装置，所述图像传感装置、光栅投影装置和矢量投影装置安装在同一个安装支架上；在所述投影工作面内，所述图像传感装置的传感范围包含部分或者全部的所述投影工作区。进一步地，所述图像传感装置包含二维图像传感器，所述二维图像传感器为CMOS(ComplementaryMetalOxideSemiconductor，互补金属氧化物半导体)图像传感器或CCD(ChargeCoupledDevice，电荷耦合元件)图像传感器。进一步地，所述矢量投影装置包括相互连接的矢量扫描振镜和矢量扫描光源。优选地，所述矢量扫描光源采用激光发生器，以获得高精度(≤0.1mm)的扫描焦点；在激光发生器和矢量扫描振镜之间放置扩束镜，以增加聚焦前光斑的直径，提高聚焦质量。进一步地，所述矢量投影装置还设有平场聚焦透镜或动态聚焦透镜；当采用平场聚焦透镜时，所述平场聚焦透镜设置在矢量扫描振镜和投影工作面之间，当采用动态聚焦透镜时，所述动态聚焦透镜设置在矢量扫描光源和矢量扫描振镜之间。这是因为矢量扫描振镜的输出扫描光束经球面凸透镜聚焦后的焦面为曲面，而需要的投影工作区往往是平面，为获得平面焦面，一般采用平场聚焦透镜，又叫theta透镜，来聚焦；另外一种获得平面焦面的方法是在矢量扫描光源和矢量扫描振镜之间设置动态聚焦透镜，所述动态聚焦透镜的位置或焦距根据扫描点的位置不同而变化，以保证平面上获得良好的焦点。进一步地，所述光栅投影装置包含DLP(DigitalLightProcessing，数字光处理)器件，所述DLP器件是基于DMD原理的DLP器件。所述DLP器件投影光线，特别是紫外光线时效率比液晶投影效率高，寿命长。进一步地，所述光栅投影装置的投影范围和矢量投影装置的投影范围的重合的模式包括重叠模式和填充模式；在所述重叠模式下，矢量投影装置的扫描相对简单，矢量投影扫描线可以和光栅投影像素重叠，因为这种模式会导致重叠部分的投影能量过强，在光固化应用中仅适合于非悬空部分的投影，这样过强的光投影能量会被已固化的树脂吸收，不影响模型的成型。对于悬空部分的投影，更适合采用填充模式，矢量投影扫描线仅用来填充光栅投影像素的空隙和外围，以获得光滑的外表面，同时没有过强的光投影导致固化深度不均匀。填充模式的实现方式能够通过控制矢量扫描光源的通断，或者由填充光栅投影像素的空隙的扫描路径来实现。由于所述光投影装置的工作需要光栅投影装置和矢量投影装置能够精确配合，实现准确的矢量扫描和投影像素的重合。这需要一种有效的校准方法。一种所述光投影装置的校准方法，包括如下步骤：(1)在光栅投影装置和矢量投影装置的复合投影过程中，图像传感装置持续工作，采集至少2幅的投影图像P，标记为P1,…Pn，n≥2，n为采集的投影图像P的数量；(2)对应步骤(1)中图像传感装置采集投影图像P的不同时间时矢量投影扫描线所处的位置区域为矢量扫描区V，标记为V1,…Vn，n≥2，所述矢量扫描区V为包括了矢量投影装置的扫描误差和图像传感装置的测量误差后的扩大区域，也就是说即便在矢量扫描和图像传感装置存在未校正误差的情况下，矢量投影扫描线也不会超出矢量扫描区V；(3)将投影图像P中对应矢量扫描区V的部分清除，获得清除后的不完全光栅投影图像PM，标记为PM1,…PMn，n≥2；(4)将所有不完全光栅投影图像PM1,…PMn叠加，并进行归一化处理，获得完整光栅投影图像PR；(5)将投影图像P减掉完整光栅投影图像PR，获得实际的矢量扫描图像PV，标记为PV1,…PVn，n≥2；(6)比对完整光栅投影图像PR和矢量扫描图像PV，以确定光栅投影装置和矢量投影装置的投影重叠误差；(7)根据所述完整光栅投影图像PR、矢量扫描图像PV和投影重叠误差对光栅投影装置和矢量投影装置的输入图形进行预校正。进一步地，在所述步骤(7)中，输入图形预校正包括：(7.1)将完整光栅投影图像PR和光栅投影装置的输入图形相比较，校正枕形失真、线性几何失真，发现虚焦时调整焦距，例如像素边沿处对比度小于一定的阀值时导致的虚焦；(7.2)将矢量扫描图像PV和矢量投影装置的输入图形相比对，确定若干个校准点，通过校准点的误差确定需要校正的参数，发现虚焦时调整焦距，例如外侧扫描线边沿处对比度小于一定的阀值时导致的虚焦；(7.3)通过对比完整光栅投影图像PR和矢量扫描图像PV，确定完整光栅投影图像PR和矢量扫描图像PV的比例差异和位置偏移，并调整光栅投影装置和/或矢量投影装置。进一步地，所述步骤(4)中，获得完整光栅投影图像PR的另一种方法为：先行开启光栅投影装置或者滞后关闭光栅投影装置，使图像传感装置采集到没有矢量投影时的投影图像，即为完整光栅投影图像PR。本专利技术的有益效果为：本专利技术通过将光栅投影和矢量扫描相结合，克服了现有技术的缺陷，所述光投影装置结构紧凑，投影速度快，兼具光栅投影和矢量扫描投影的优点，适合大幅面高精度的光投影；所述方法能够在正常投影工作时实时重复进行，以保证长时间投影的重合准确性。附图说明图1是本专利技术所述光投影装置的结本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光投影装置，其特征在于，包括光栅投影装置和矢量投影装置，所述光栅投影装置的投影面和矢量投影装置的投影面在同一个平面，所述平面为投影工作面，在所述投影工作面内，所述光栅投影装置的投影范围和矢量投影装置的投影范围重合，重合的区域为投影工作区。

【技术特征摘要】
1.一种光投影装置，其特征在于，包括光栅投影装置和矢量投影装置，所述光栅投影装
置的投影面和矢量投影装置的投影面在同一个平面，所述平面为投影工作面，在所述投影工
作面内，所述光栅投影装置的投影范围和矢量投影装置的投影范围重合，重合的区域为投影
工作区。
2.根据权利要求1所述的光投影装置，其特征在于，所述光投影装置还包括图像传感装
置，所述图像传感装置、光栅投影装置和矢量投影装置安装在同一个安装支架上；在所述投
影工作面内，所述图像传感装置的传感范围包含部分或者全部的所述投影工作区。
3.根据权利要求2所述的光投影装置，其特征在于，所述图像传感装置包含二维图像传
感器，所述二维图像传感器为CMOS图像传感器或CCD图像传感器。
4.根据权利要求1所述的光投影装置，其特征在于，所述矢量投影装置包括相互连接的
矢量扫描振镜和矢量扫描光源。
5.根据权利要求4所述的光投影装置，其特征在于，所述矢量投影装置还设有平场聚焦
透镜或动态聚焦透镜；当采用平场聚焦透镜时，所述平场聚焦透镜设置在矢量扫描振镜和投
影工作面之间，当采用动态聚焦透镜时，所述动态聚焦透镜设置在矢量扫描光源和矢量扫描
振镜之间。
6.根据权利要求1所述的光投影装置，其特征在于，所述光栅投影装置包含DLP器件。
7.根据权利要求1所述的光投影装置，其特征在于，所述光栅投影装置的投影范围和矢
量投影装置的投影范围的重合的模式包括重叠模式和填充模式。
8.一种权利要求1-7任一项所述的光投影装置的校准方法，其特征在于，包括如下步骤：
(1)在光栅投影装置和矢量投影装置的复合投影过程中，图像传感装置持续工作，采
集至少2幅的投影图像P，标记为P1,…Pn，n≥2，n为采集的投影图像P的数量；
(2)对应步骤(1)中图像传感装置采集投影图像P的...

【专利技术属性】
技术研发人员：耿得力，
申请(专利权)人：耿得力，
类型：发明
国别省市：福建;35