【技术实现步骤摘要】
本技术涉及光敏印章机机械模具领域,尤其是涉及一种光敏印章机曝光通用模板。
技术介绍
光敏印章机是一种新型的印章制作设备,其基本原理是通过曝光实现光敏印垫上印章图案的制作,具有适用范围广、实用强、操作使用简单等优点。但是,光敏印章机在工作的过程中存在是否压紧的隐患,其光敏印垫的压缩尺寸对曝光效果存在较大的影响,同时,因缺乏通用的光敏印垫固定模具,光敏印垫与印章图案样稿的对正需靠人工操作实现,对正质量受操作人员操作水平的影响严重,工作效率较低。
技术实现思路
为了解决现有技术的不足,本技术提供一种光敏印章机曝光通用模板,通过将光敏印垫固定在固定模具中,并将固定模具定位连接在通用模板座上,实现光敏印垫与印章图案样稿的自动对正,其自动对正的精度高,操作简单,提高了生产效率及生产质量,同时,可利用不同的固定模具实现光敏印垫的批量生产,节约人员成本。本技术解决技术问题的技术方案为:一种光敏印章机曝光通用模板,包括通用模板座、固定模具、缓冲垫,所述通用模板座的底面设有矩形凹槽,所述矩形凹槽的底面均匀设有定位孔;所述固定模具的顶端为定位销,所述定位销与定位孔卡紧连接,固定模具的底端为矩形块,所述矩形块的底面设有固定槽;所述缓冲垫均匀覆盖在矩形凹槽外侧通用模板座的底面上。进一步的,所述固定模具底端的固定槽的形状与光敏印垫的形状相配合。进一步的,所述缓冲垫的形状为矩形薄环,其外侧矩形尺寸与光敏印章机感光玻璃的尺寸相配合。本技术提供的光敏印章机曝光通用模板的有益效果是:1、所述通用模板通过定位孔实现固定模具的定位,进而实现光敏印垫的定位,确保光敏印垫与印章图案样稿的自动对正,定位精度 ...
【技术保护点】
一种光敏印章机曝光通用模板,包括通用模板座、固定模具、缓冲垫,其特征在于,所述通用模板座的底面设有矩形凹槽,所述矩形凹槽的底面均匀设有定位孔;所述固定模具的顶端为定位销,所述定位销与定位孔卡紧连接,固定模具的底端为矩形块,所述矩形块的底面设有固定槽;所述缓冲垫均匀覆盖在矩形凹槽外侧通用模板座的底面上。
【技术特征摘要】
1.一种光敏印章机曝光通用模板,包括通用模板座、固定模具、缓冲垫,其特征在于,所述通用模板座的底面设有矩形凹槽,所述矩形凹槽的底面均匀设有定位孔;所述固定模具的顶端为定位销,所述定位销与定位孔卡紧连接,固定模具的底端为矩形块,所述矩形块的底面设有固定槽;所述缓冲垫均匀覆盖在矩形...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘丽,
申请(专利权)人:山东世纪开元电子商务有限公司,
类型:新型
国别省市:山东;37
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