一种釉面堆花一次烧抛光墙地砖制造技术

本发明专利技术公开了堆釉一次烧抛光墙地砖的制造方法，它是由经过于燥的干压坯体施化妆上后用通透的网版印刷出所设计的山水、花卉、人物等图案，施一层透明或半透明釉入窑烧成后软抛，所得产品具备了抛晶砖和抛光砖的所有优点，而且大幅度地降低了成本，解决了抛晶砖成本高不耐磨，二度、三度烧中间层发育不良，抛光砖装饰手法单调不防滑的难题。

Glazed brick, once burnt and polished wall tile

The invention discloses a method for manufacturing a stacked glaze burning polishing tiles, it is formed by dry in the dry pressing blank after applying the makeup for screen printing through the designed landscape, flowers and figures and other patterns, applying a layer of transparent or translucent glaze into the kiln after throwing the soft. The product has all the advantages of polished crystal tiles and polished, and greatly reduce the cost, solve the high cost of crystal throwing bricks do not wear, two degrees, three degrees of burn, middle layer dysplasia, the problem of polishing brick decoration monotone non skid.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种在釉面砖上堆花装饰后一次烧成，特别是涉及烧成后对釉面进行抛光的陶瓷墙地砖。
技术介绍
已知有些一次烧的釉面砖(包括一次半及一次素烧、二次釉烧)在施好底釉(化妆土)后再施面釉，然后丝网印刷所需图案，形成釉上彩的装饰效果；也有的在施好底釉之后用丝网印刷出所需图案然后施上透明面釉形成釉下彩的装饰效果；还有将成品砖进行印花然后堆上干粒入窑烧成后进行抛光(即所谓的二度烧或三度烧)，所得产品即为市场上所说的抛釉砖或抛晶砖。还有将瓷质素坯进行抛光所得产品即为抛光砖。以上这三种方法所得墙地砖各有其特点一次烧的墙地砖装饰手法单调，图案缺乏立体感，同时釉面没有抛光砖的质感；而抛晶砖系二度甚至三度烧成，尽管装饰手法多样，图案生动丰富，可是二度、三度烧产品干粒成本高，每烧一次都会降低成品率，特别是抛晶砖系低温烧成，所得釉面硬度偏低，中间层发育不良，作为地面铺贴不耐磨，抗后期龟裂性能不佳，所以限制了它的使用范围。而抛光砖仅有的装饰手法是渗花、大颗粒、微粉二次布料，要实现图案花卉的仿真效果，实施起来还非常困难，所以抛光砖目前还没有人物花卉仿真的装饰(用水刀等切割后拼花是另一类产品)。
技术实现思路
本专利技术的任务是提供一种结构简单、成本低的釉面堆花一次烧抛光墙地砖。具体实施例方式现已发现，干粉压制的墙地砖经干燥施化妆土后，用通透的丝网(80～100目)在其上面用印刷釉印刷出所需的图案，如花卉、人物、山水等。若进一步增加其层次感可以在其上面施一层透明或半透明的釉，入窑在1180℃～1230℃，35～60分钟烧成，将所得墙地砖经过软抛光后即可得产品。下面根据具体实施方式对本专利技术的工艺过程中的主要工序作进一步详细的说明一、化妆土由于要在化妆土上面获得较好的装饰效果，所以化妆土的调配必须遵循以下原则1、使用铁钛杂质含量低的原料Fe2O3+TiO2＜0.30％，保证白度大于82％。2、使烧成后的化妆土层中的晶相具有较高的折射率，以提高化妆土层的遮盖能力。3、提高其始融点，尽可能地减少游离石英的含量而提高Al2O3的含量，严格控制其热膨胀系数。4、提高化妆土自身的烧结程度，促进中间层的良好发育，并获得良好的乳浊度。5、化妆土尽可能地少引进含气体及烧结收缩大的原材料。6、增加其釉浆的比重，加大其流动性及其保水性，从而使得与坯体有较好的附着力和为下一道印刷获得较好的印刷效果创造条件。根据以上条件给出以下配方，但具体实施时需结合烧成温度、坯体的膨胀系数及其面釉的情况作出适当的调整。A、生坯无锆化妆土煅烧高岭土20％～30％水洗高岭土20％～30％长石 20％～28％石英 25％～28％B、含部分高白熔块的化妆土煅烧高岭土18％～20％水洗高岭土15％～18％长石 30％～35％石英 4％～8％锆白熔块 15％～20％烧滑石3％～5％白云石3％～5％ 二、印刷釉一般地面釉加上所需颜色的色料经过粉磨过325目调整出适合印刷的性能釉料就可以实施丝网印刷了。特别应注意的是釉面的膨胀系数一定要小于化妆土及坯体的膨胀系数，否则会发生釉裂的可能。三、透明釉或半透明釉由于本产品定位在中高档产品，加上系在辊道窑快速烧成，故所用透明或半透明釉以熔块釉为佳，其釉料的比重宜控制在1.75～1.80克/毫升，粘度以适宜喷釉或淋釉为宜。该产品整个制造过程在现有的墙地砖生产线上均可实施，不仅解决了抛晶砖成本高、工艺复杂、中间发育不良的问题，同时也解决了抛光砖装饰手法单一、防滑难的难题，是一种集釉面抛晶、抛光砖优势于一体的低成本产品。四、软抛光将烧结出来的产品有软抛线上抛光，其抛光材料选用氧化铈和α-氧化铝较为适宜。经过上述工序后所得产品即为一次烧堆花抛光墙地砖。权利要求1.由干燥后干压陶瓷施化妆土后的坯体，用通透的丝网印刷所得人物、花卉、山水图案再施一层透明釉或半透明釉入窑一次烧成，将所得半成品软抛可得的产品。2.根据权利要求1所述产品，其特征是用通透的丝网印刷人物、花卉、山水图案。3.根据权利要求1、2所述产品，其特征是在图案上施透明或半透明釉。4.根据权利要求1所述产品，其特征是一次烧成。5.根据权利要求1所述产品，是将烧成后的半成品软抛光。全文摘要本专利技术公开了堆釉一次烧抛光墙地砖的制造方法，它是由经过于燥的干压坯体施化妆土后用通透的网版印刷出所设计的山水、花卉、人物等图案，施一层透明或半透明釉入窑烧成后软抛，所得产品具备了抛晶砖和抛光砖的所有优点，而且大幅度地降低了成本，解决了抛晶砖成本高不耐磨，二度、三度烧中间层发育不良，抛光砖装饰手法单调不防滑的难题。文档编号C04B33/34GK101037323SQ200710026590公开日2007年9月19日 申请日期2007年1月29日 优先权日2007年1月29日专利技术者何友和, 胡伟豪 申请人:佛山市三水罗马利奥陶瓷有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
由干燥后干压陶瓷施化妆土后的坯体，用通透的丝网印刷所得人物、花卉、山水图案再施一层透明釉或半透明釉入窑一次烧成，将所得半成品软抛可得的产品。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：何友和，胡伟豪，
申请(专利权)人：佛山市三水罗马利奥陶瓷有限公司，
类型：发明
国别省市：44[]