The invention provides a hydrofluoric acid treatment device, adding the calcium in wastewater containing hydrofluoric acid and removing fluoride ions, in the device, need to adjust the pH value of water to be treated, but the adjustment of pH in reaction tank with calcium and fluoride ions in processing efficiency. In addition, the pH meter is directly exposed to wastewater containing hydrofluoric acid, and the pH meter is susceptible to damage. When hydrofluoric acid is added to the treatment tank of the pH adjustment unit, an alkaline agent is added so that the first treated water pH in the treatment tank is larger than that of the waste water. In addition, the third path P3 (loop path) is connected to the treatment tank so that the first treated water circulates and adjusts the pH until the pH value is generated second of the treated water at the desired range. Since the second treated pH is transferred to a reaction tank with calcium, the treatment efficiency can be reduced. In addition, the pH meter is set on the circulation path instead of being directly exposed to the waste water to protect it from hydrofluoric acid.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种从含有氢氟酸的废水中分离氟化钙的氢氟酸处理装置, 尤其是涉及一种小型氢氟酸处理装置,该装置可以在无尘室内与半导体处理 装置邻接设置。
技术介绍
目前,从生态学的观点考虑,减少工业废弃物、或对工业废弃物进行分 级并再利用为重要的主题,是企业亟待解决的课题。在该工业废弃物中,有 含有被除去物的各种各样的流体。用污水、废液、废水等各种各样的词汇来表达这些流体,下面,将在水 或药品等流体中含有作为被除去物的物质的流体称为废水并进行说明。在制造半导体装置的工艺过程中,会产生大量的废水。半导体工厂所使 用的氟基本上全部作为废水排出,难以再利用。例如,在干(等离子体)蚀刻装置或等离子体CVD装置中,在晶片加工或装置(容器内)的清洁中大多使用四氟化碳(CF4)、六氟乙烷(C2F6)、全氟环丁烷(C4Fs)等氟类气体。这些气体大多作为CF4被排出到容器外,但由于CF4 为导致地球温室效应的物质(全氟化合物(PFCs)气体),因此需要除害处理。 在该除害处理中,利用水吸收氟,作为稀氢氟酸废水(废液)而排出。另外, 在使用氟类材料(例如氬氟酸)的湿蚀刻装置中,排出作为晶片加工废药液的 高浓度氢氟酸废水(废液)或作为纯水冲洗的废水的稀氢氟酸废水(废液)。另 外,以后将氢氟酸(7 :y化水素酸)称为氢氟酸(7 、乂酸)进行说明。已知高浓度的含氟废水流到自然界,则打乱生态系统的平衡。因此,从 废水中除去氟,在工业上是非常重要的事情。例如,在水质污染防治法或地 方自治体的条例等中规定有含氟废水的排放条件的标准值。具体而言,废水 中所含的氟的浓度必须为8mg/L以下。 ...
【技术保护点】
一种氢氟酸处理装置,其设置在无尘室内,并与使用氟类材料的半导体处理装置相邻,其用于在从所述半导体处理装置排出的混入有氢氟酸的废水无需从所述无尘室内排出的状态下,对该废水进行处理,其包括: pH调整部,其具有处理槽、连接于所述处理槽的第 一路径及第二路径、设置在该处理槽上并用于循环的第三路径,通过所述第一路径向所述处理槽加入所述废水,并通过所述第二路径加入碱性药剂,从而得到pH值比所述废水更大的第一被处理水,该第一被处理水在所述第三路径中循环时,测定并调整pH值,由此得到pH值在所希望范围的第二被处理水; 第四路径,转移所述第二被处理水; 反应槽,在所述第二被处理水中添加钙成分,生成氟化钙; 分离槽,从所述第二被处理水中分离所述氟化钙。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:澄田康光,笠原辰巳,茂木一利,梅泽浩之,桑木康之,
申请(专利权)人:三洋电机株式会社,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
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