一种用于化学发光仪器的负压式清洗系统技术方案

技术编号:14490440 阅读:497 留言:0更新日期:2017-01-29 13:10
本实用新型专利技术公开了一种用于化学发光仪器的负压式清洗系统,所述清洗液桶的上端通过管路连接膜片泵的一端,所述膜片泵的另一端通过管路连接有清洗池,所述清洗池的上端设有样品针,所述气液两用开关阀通过管路连接负压瓶,所述负压瓶通过管路连接单向阀的一端,所述单向阀的另一端通过管路连接有蠕动泵的一端,所述蠕动泵的另一端也通过管路连接废液桶;该用于化学发光仪器的缓冲式清洗池系统,利用积累气体负压产生的瞬间冲击力把清洗针尖的气液混合物瞬间吸走,能够在非常短的时间内非常高效清洁针尖,并且不会挂液,清洗时间短,而且0.5s‑1s即可完成清洗,且清洗效果好,针尖不挂液,可以满足大型高通量仪器的设计要求。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于化学设备
,具体涉及一种用于化学发光仪器的负压式清洗系统
技术介绍
在化学发光仪器中,衡量仪器性能有一个很重要的指标就是携带污染率。因为市面上大部分的化学发光仪器检测的不同的血清样品都是由样品针吸取添加的。因此加样针的清洗就显得至关重要。加样针在清洗的时候有多种结构的清洗池。市面上大多数仪器采用的涌泉式或者瀑布式,都有一定的缺陷,比如涌泉式清洗可以避免挂液,但是清洗效果差。瀑布式清洗效果好,但是挂液现象无法避免。同时改良型的清洗池,虽然也可以同时满足上述要求,但是为了清洗干净,清洗时间比较长,一般都要2s-3s的时间。对于低通量小型仪器是可以满足要求的,比如每小时测试数量为120样本以下的仪器,是可以满足要求的,但是对于高通量比如200通量,甚至更高的通量仪器,这种清洗方式过于缓慢,较长的清洗时间会严重拖累整机的运行速度,因为需要一种快速,高效的清洗方式。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种用于化学发光仪器的负压式清洗系统,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种用于化学发光仪器的负压式清洗系统,包括清洗液桶、膜片泵、管路、样品针、清洗池、气液两用开关阀、微型负压泵、负压传感器、负压瓶、单向阀、蠕动泵和废液桶,所述清洗液桶的上端通过管路连接膜片泵的一端,所述膜片泵的另一端通过管路连接有清洗池,所述清洗池的上端设有样品针,所述气液两用开关阀通过管路连接负压瓶,所述负压瓶通过管路连接单向阀的一端,所述单向阀的另一端通过管路连接有蠕动泵的一端,所述蠕动泵的另一端也通过管路连接废液桶。优选的,所述负压瓶的瓶体上端安装有微型负压泵和负压传感器。本技术的技术效果和优点:该用于化学发光仪器的缓冲式清洗池系统,利用积累气体负压产生的瞬间冲击力把清洗针尖的气液混合物瞬间吸走,能够在非常短的时间内非常高效清洁针尖,并且不会挂液,清洗时间短,而且0.5s-1s即可完成清洗,且清洗效果好,针尖不挂液,可以满足大型高通量仪器的设计要求。附图说明图1为本技术的结构示意图;图中:1、清洗液桶;2、膜片泵;3、管路;4、样品针;5、清洗池;6、气液两用开关阀;7、微型负压泵;8、负压传感器;9、负压瓶;10、单向阀;11、蠕动泵和12、废液桶。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。本技术提供了如图1所示的一种用于化学发光仪器的负压式清洗系统,包括清洗液桶1、膜片泵2、管路3、样品针4、清洗池5、气液两用开关阀6、微型负压泵7、负压传感器8、负压瓶9、单向阀10、蠕动泵11和废液桶12,所述清洗液桶1的上端通过管路3连接膜片泵2的一端,所述膜片泵2的另一端通过管路3连接有清洗池5,所述清洗池5的上端设有样品针4,所述气液两用开关阀6通过管路3连接负压瓶9,所述负压瓶9的瓶体上端安装有微型负压泵7和负压传感器8,所述负压瓶9通过管路3连接单向阀10的一端,所述单向阀10的另一端通过管路3连接有蠕动泵11的一端,所述蠕动泵11的另一端也通过管路3连接废液桶12。工作原理:使清洗系统由液路部分和气路部分两部分组成,液路部分的清洗池5为四面出水的侧壁式清洗池5,上方圆孔较小,让清洗针伸入,下面一个排水孔,连接气路,气路连接一个水气两用开关阀后面用管路连接一个负压瓶9,瓶内有压力传感器8和单向阀接废液桶,另一路气路连接微型负压泵7,工作时由微型负压泵7向瓶内抽真空,达到一定真空度时停止工作,针清洗时由水气两用开关阀打开,这时会有强烈的气流把清洗针尖的水和气体一起吸入负压瓶内,9,达到一定量时再由负压,9内的抽废液管路把液体移动到废液桶12,完成整个清洗过程。最后应说明的是:以上所述仅为本技术的优选实施例而已,并不用于限制本技术,尽管参照前述实施例对本技术进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本技术的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...
一种用于化学发光仪器的负压式清洗系统

【技术保护点】
一种用于化学发光仪器的负压式清洗系统,包括清洗液桶(1)、膜片泵(2)、管路(3)、样品针(4)、清洗池(5)、气液两用开关阀(6)、微型负压泵(7)、负压传感器(8)、负压瓶(9)、单向阀(10)、蠕动泵(11)和废液桶(12),其特征在于:所述清洗液桶(1)的上端通过管路(3)连接膜片泵(2)的一端,所述膜片泵(2)的另一端通过管路(3)连接有清洗池(5),所述清洗池(5)的上端设有样品针(4),所述气液两用开关阀(6)通过管路(3)连接负压瓶(9),所述负压瓶(9)通过管路(3)连接单向阀(10)的一端,所述单向阀(10)的另一端通过管路(3)连接有蠕动泵(11)的一端,所述蠕动泵(11)的另一端也通过管路(3)连接废液桶(12)。

【技术特征摘要】
1.一种用于化学发光仪器的负压式清洗系统,包括清洗液桶(1)、膜片泵(2)、管路(3)、样品针(4)、清洗池(5)、气液两用开关阀(6)、微型负压泵(7)、负压传感器(8)、负压瓶(9)、单向阀(10)、蠕动泵(11)和废液桶(12),其特征在于:所述清洗液桶(1)的上端通过管路(3)连接膜片泵(2)的一端,所述膜片泵(2)的另一端通过管路(3)连接有清洗池(5),所述清洗池(5)的上端设有样...

【专利技术属性】
技术研发人员:孙小敏刘振国
申请(专利权)人:泰州泽成生物技术有限公司
类型:新型
国别省市:江苏;32

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