【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种半导体化学品容器清洗及干燥一体化装置。
技术介绍
随着半导体制程精度的提升，对化学品纯度的要求也越来越高，容器内的微量杂质可能导致目标产品发生污染。用超纯水清洗容器是最常见的容器清洗方法，但清洗后残留水份必须彻底去除，否则也会影响目标产品纯度。为保证产品质量和提高清洗效率，需要开发容器清洗-干燥一体化装置。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种具有自动清洗干燥，具有洁净度可控，生产效率高的特点的半导体化学品容器清洗及干燥一体化装置。本技术的技术方案是，一种半导体化学品容器清洗及干燥一体化装置，包括控制装置以及依次顺序连接的容器输入缓冲区、超声波预清洗装置、纯水清洗装置、在线干燥装置、冷却装置、封盖装置、容器输出缓冲区以及输送装置，所述封盖装置还对应组合设置有洗盖和理盖装置，所述容器输入缓冲区、超声波预清洗装置、纯水清洗装置、在线干燥装置、冷却装置、洗盖和理盖装置、封盖装置以及容器输出缓冲区分别与输送装置对应设置。在本技术一个较佳实施例中，所述控制装置分别与容器输入缓冲区、超声波预清洗装置、纯水清洗装置、在线干燥装置、冷却装置、洗盖和理盖装置、封盖装置、容器输出缓冲区以及输送装置一一对应设置。在本技术一个较佳实施例中，所述纯水清洗装置、在线干燥装置、冷却装置、洗盖和理盖装置以及封盖装置设置于洁净室内。本技术所述为一种半导体化学品容器清洗及干燥一体化装置，本技术具有自动清洗干燥，具有洁净度可控，生产效率高的特点。附图说明图1为本技术半导体化学品容器清洗及干燥一体化装置一较佳实施例中的结构示意图。具体实施方式下面对本技术的较佳实施例进行详细阐述，以使本...
【技术保护点】
一种半导体化学品容器清洗及干燥一体化装置，其特征在于：包括控制装置以及依次顺序连接的容器输入缓冲区、超声波预清洗装置、纯水清洗装置、在线干燥装置、冷却装置、封盖装置、容器输出缓冲区以及输送装置，所述封盖装置还对应组合设置有洗盖和理盖装置，所述容器输入缓冲区、超声波预清洗装置、纯水清洗装置、在线干燥装置、冷却装置、洗盖和理盖装置、封盖装置以及容器输出缓冲区分别与输送装置对应设置。
【技术特征摘要】
1.一种半导体化学品容器清洗及干燥一体化装置，其特征在于：包括控制装置以及依次顺序连接的容器输入缓冲区、超声波预清洗装置、纯水清洗装置、在线干燥装置、冷却装置、封盖装置、容器输出缓冲区以及输送装置，所述封盖装置还对应组合设置有洗盖和理盖装置，所述容器输入缓冲区、超声波预清洗装置、纯水清洗装置、在线干燥装置、冷却装置、洗盖和理盖装置、封盖装置以及容器输出缓冲区分别与输送装置对应设置。2...
【专利技术属性】
技术研发人员：江磊，许良锐，金旭，
申请(专利权)人：富士胶片电子材料苏州有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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