【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种半导体化学品容器清洗及干燥一体化装置。
技术介绍
随着半导体制程精度的提升，对化学品纯度的要求也越来越高，容器内的微量杂质可能导致目标产品发生污染。用超纯水清洗容器是最常见的容器清洗方法，但清洗后残留水份必须彻底去除，否则也会影响目标产品纯度。为保证产品质量和提高清洗效率，需要开发容器清洗-干燥一体化装置。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种具有自动清洗干燥，具有洁净度可控，生产效率高的特点的半导体化学品容器清洗及干燥一体化装置。本技术的技术方案是，一种半导体化学品容器清洗及干燥一体化装置，包括控制装置以及依次顺序连接的容器输入缓冲区、超声波预清洗装置、纯水清洗装置、在线干燥装置、冷却装置、封盖装置、容器输出缓冲区以及输送装置，所述封盖装置还对应组合设置有洗盖和理盖装置，所述容器输入缓冲区、超声波预清洗装置、纯水清洗装置、在线干燥装置、冷却装置、洗盖和理盖装置、封盖装置以及容器输出缓冲区分别与输送装置对应设置。在本技术一个较佳实施例中，所述控制装置分别与容器输入缓冲区、超声波预清洗装置、纯水清洗装置、在线干燥装置、冷却装置、洗盖和理盖装置、封盖装置、容...
【技术保护点】
一种半导体化学品容器清洗及干燥一体化装置，其特征在于：包括控制装置以及依次顺序连接的容器输入缓冲区、超声波预清洗装置、纯水清洗装置、在线干燥装置、冷却装置、封盖装置、容器输出缓冲区以及输送装置，所述封盖装置还对应组合设置有洗盖和理盖装置，所述容器输入缓冲区、超声波预清洗装置、纯水清洗装置、在线干燥装置、冷却装置、洗盖和理盖装置、封盖装置以及容器输出缓冲区分别与输送装置对应设置。
【技术特征摘要】
1.一种半导体化学品容器清洗及干燥一体化装置，其特征在于：包括控制装置以及依次顺序连接的容器输入缓冲区、超声波预清洗装置、纯水清洗装置、在线干燥装置、冷却装置、封盖装置、容器输出缓冲区以及输送装置，所述封盖装置还对应组合设置有洗盖和理盖装置，所述容器输入缓冲区、超声波预清洗装置、纯水清洗装置、在线干燥装置、冷却装置、洗盖和理盖装置、封盖装置以及容器输出缓冲区分别与输送装置对应设置。2...
【专利技术属性】
技术研发人员：江磊，许良锐，金旭，
申请(专利权)人：富士胶片电子材料苏州有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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