一种PVD设备的反应气体通入结构制造技术
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及PVD设备
，尤其涉及一种PVD设备的反应气体通入结构。
技术介绍
真空涂层设备中，传统的通入反应气体的方式是，在真空室的内壁，均匀地分布4根或8根通气管，在通气管上打孔，但这种方式，由于通气管的孔大小很难选择合适，会造成真空室上下通气量不均匀，涂层成分不均匀，另外离化率不够，造成涂层的品质不高。
技术实现思路
本技术提供了一种PVD设备的反应气体通入结构。在真空涂层设备中，反应气体直接通在蒸发源周围，可以有效地提高气体的离化率，同时提高涂层的均匀性，从而提高涂层的质量及稳定性。为了达到上述目的，本技术提供了一种PVD设备的反应气体通入结构，在蒸发源法兰上打孔，并在蒸发源法兰外侧焊接接气扣，在真空室内侧围绕靶材焊接铜管，铜管上均匀打出气孔，铜管的一端穿于孔内，另一端通过接气扣连通外部气源。优选的，出气孔的孔径为1mm。优选的，所述铜管的直径为8mm。优选的，所述铜管距离靶材的边缘为5mm。有益效果：由于直接通在每个蒸发源周围，涂层的均匀性极大地提高；气体会蒸发源周围形成屏障，阻止大颗粒飞行到工件表面，从而极大地改善了涂层的致密性和涂层表面的粗糙度。附图说明图1为本技术实施例提供的一种PVD设备的反应气体通入结构图。具体实施方式为使本技术解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚，下面结合附图和实施例对本技术作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本技术，而非对本技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本技术相关的部分而非全部内容。请参照图1，本实施例的一种PVD设备的反应气体通入结构，...
【技术保护点】
一种PVD设备的反应气体通入结构，其特征在于，在蒸发源法兰(1)上打孔，并在蒸发源法兰(1)外侧焊接接气扣，在真空室内侧围绕靶材(2)焊接铜管(3)，铜管(3)上均匀打出气孔，铜管(3)的一端穿于孔内，另一端通过接气扣连通外部气源。
【技术特征摘要】
1.一种PVD设备的反应气体通入结构，其特征在于，在蒸发源法兰(1)上打孔，并在蒸发源法兰(1)外侧焊接接气扣，在真空室内侧围绕靶材(2)焊接铜管(3)，铜管(3)上均匀打出气孔，铜管(3)的一端穿于孔内，另一端通过接气扣连通外部气源。2.根据权利要求1所述的一种PVD设备...
【专利技术属性】
技术研发人员：卢国英，石昌仑，石武昌，兰睿，
申请(专利权)人：常州夸克涂层科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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