The invention discloses an improved intensive wet process equipment, including the main equipment and medicine adding groove, the main equipment including equipment main body and the support mechanism, support mechanism and the ground between the set height, the support mechanism has certain internal communication capacity, to accommodate the adds trough, water pipes and drainage pipeline. The main equipment above the liquid adding device comprises a metering cup and add pump, wherein one side wall of measuring cup is arranged on the medicine feeding port, and is connected with the feed pump; the measuring cup is arranged at the bottom of the medicine outlet, and connected with the main chemical, metering cup is also provided with an overflow pipe, its length along the vertical direction under the regulation, the lower end of the water tank is communicated with the add. The invention of leaving the accommodation space in the main equipment below, avoid removing cumbersome transportation trouble, to avoid missing or damaged parts, improving the assembly efficiency; and by adjusting the length of the overflow pipe to accurately adjust the dosage, ensure the amount of accuracy.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种湿制程设备,特别涉及一种药液添加装置结构改良的、同时组装效率提高,运输简便的集约型湿制程设备,属于湿制程设备工艺
技术介绍
湿制程(Wet Process)作为制作电路板过程中的制作工序,是将处理液,如各种化学药液或水喷洒于电路基板表面,以实现除胶渣、化学铜、镀通孔、蚀刻、显影、剥膜、镀有机保护膜、表面改性或清洗等工艺流程。目前,湿制程广泛地应用于印刷电路板 PCB行业的生产制造中,湿制程主要包括化学前处理、电镀、显影、蚀刻、退膜的化学药水处理的生产工艺,其中,蚀刻为使用化学药液参与反应而将材料移除的制作过程;而参与反应的化学药液即蚀刻液,蚀刻液又可分为酸性蚀刻液和碱性蚀刻液,其中,退膜为使用化学药液参与反应而将工件表面抗蚀层的膜移除的制作过程。但是,目前的湿制程设备结构复杂,以镀通孔制程为例,药水添加槽单元与主设备单元是相互分离的,且设定一定距离,如图1及图2所示,这样就使得占地宽度加大,对场地空间要求较高。另外,如图2中所示,现有的湿制程设备包括药水添加槽单元及主设备单元,药水添加槽单元包括复数个并排设置的药水添加槽1′,所述药水添加槽1′包括添加槽机架11′及底部的调整机脚12′,药水添加槽1′内部设置有加药口2′。药水添加槽单元及主设备单元3′之间设置有电缆线槽4′,所述电缆线槽为架高式,即设置于药水添加槽1′的上方,靠主设备单元3′上方设置的电缆线槽支撑板5′支撑固定。所述主设备单元3′包括主设备机架31′及设备主体,主设备机架31′的底部设置排水管路6′及进水管路7′。主设备机架的外侧地面上设置移动式工作踏台8′。 ...
【技术保护点】
一种集约型湿制程设备,包括主设备单元与药水添加槽单元,所述主设备单元包括复数个并排设置的主设备,所述药水添加槽单元包括复数个并排设置的药水添加槽,其特征在于,所述主设备包括:一设备主体;一支架机构,至少用以支撑设备主体,所述支架机构包括分别上下设置的泵浦支撑管、管道支撑管及添加槽支撑管;所述支架机构与地面之间设置为设定高度,用以使支架机构内部具有一定连通的容纳空间,以容置药水添加槽、进水管路及排水管路。
【技术特征摘要】
2015.08.06 CN 2015104755448;2016.01.25 CN 201620071.一种集约型湿制程设备,包括主设备单元与药水添加槽单元,所述主设备单元包括复数个并排设置的主设备,所述药水添加槽单元包括复数个并排设置的药水添加槽,其特征在于,所述主设备包括:一设备主体;一支架机构,至少用以支撑设备主体,所述支架机构包括分别上下设置的泵浦支撑管、管道支撑管及添加槽支撑管;所述支架机构与地面之间设置为设定高度,用以使支架机构内部具有一定连通的容纳空间,以容置药水添加槽、进水管路及排水管路。2.根据权利要求1所述的集约型湿制程设备,其特征在于,所述设备主体包括化学主槽,所述化学主槽的上方设置有药液添加装置,该药液添加装置包括一计量杯及一添加泵,所述计量杯设置于化学主槽的上方,所述添加泵设置于药水添加槽的一侧部,所述计量杯的一侧壁上设置有进药口,所述进药口与添加泵的出药口连接;所述计量杯的底部设置出药口,并与化学主槽连通,将药液添加至化学主槽中;所述计量杯内还设置有一从底部伸入的溢流管,所述溢流管的上端面与计量杯上设置的液位刻度平齐,且所述溢流管的长度沿竖直方向上下调节,所述溢流管的下端面与药水添加槽连通。3.一种改良的集约型湿制程设备,包括主设备单元与药水添加槽单元,所述主设备单元包括复数个并排设置的主设备,所述药水添加槽单元包括复数个并排设置的药水添加槽,其特征在于,所述主设备包括:一设备主体;一支架机构,至少用以支撑设备主体,所述支架机构包括分别上下设置的泵浦支撑管、管道支撑管及添加槽支撑管;所述设备主体包括化学主槽,所述化学主槽的上方设置有药液添加装置,该药液添加装置包括一计量杯及一添加泵,所述计量杯设置于化学主槽的上方,所述添加泵设置于药水添加槽的一侧部,所述计量杯的一侧壁上设置有进药口,所述进药口与添加泵的出药口连接;所述计量杯的底部设置出药口,并与化学主槽连通,将药液添加至化学主槽中;所述计量杯内还设置有一从底部伸入的溢流管,所述溢流管的上端...
【专利技术属性】
技术研发人员:朱科星,王珂,张长树,贺延峰,
申请(专利权)人:苏州创峰光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏;32
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