一种溅射靶材自循环冷却装置制造方法及图纸
【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于磁控溅射领域，针对靶材散热技术，特别涉及一种溅射靶材自循环冷却装置。
技术介绍
物理气相沉积技术作为一种全新的表面处理技术，这种技术科技含量高，零污染，并且能大大提高工具使用性能和使用寿命，得到了人们的广泛重视。电弧离子镀技术作为当今最成功的一种物理气相沉积技术，被广泛应用与刀具、模具及汽车零部件等表面的处理，也得到不断地提升和改进。电弧离子镀技术根据阴极电弧形状的不同有分为圆形弧、矩形弧及柱状弧等形式，其中应用最广泛的是圆弧靶技术，因为其体积小、重量轻、易操作，并且可根据真空设备腔体的大小，选择靶材数量，这就大大提高了其实际应用的可操作性。在电弧离子镀技术中，靶材温度高，不利于稳定的输出等离子体，现有的阴极靶降温装置多采用水冷降温，其方法是在靶材背面通循环水，使得靶材保持较低温度。在生产过程中，随着靶材的消耗，需要经常更换靶材，防止冷却进入真空腔体，因此，这种方式更换靶材十分不方便，真空腔体极其容易进水，稍有不慎冷却水进入真空腔体，严重影响真空，大大降低镀膜质量，同时这也给更换靶材带来了极大的麻烦，再加上真空腔体上小圆弧靶数量少则几个多则几十个，这就更进一步增加了工作的繁琐程度，影响了生产效率的提高。
技术实现思路
本技术为了提高靶材散热效率，降低靶材更换的难度，设计一种溅射靶材自循环冷却装置，此装置能够有效地消除上述不足。本技术的技术方案是：一种溅射靶材自循环冷却装置，包括靶材和散热结构，靶材采用合成射流方法降温，靶材对接密封在金属阴极上端，合成射流发生器固定在合成射流腔体内部，产生间歇射流气体，射流气体由合成射流腔体储存，沿喷嘴喷出，喷出的射...
【技术保护点】
一种溅射靶材自循环冷却装置，包括靶材(1)和散热结构，其特征在于：靶材(1)采用合成射流方法降温，靶材(1)对接密封在金属阴极(7)上端，合成射流发生器(5)固定在合成射流腔体(4)内部，产生间歇射流气体，射流气体由合成射流腔体(4)储存，沿喷嘴(3)喷出，喷出的射流气体冲击靶材(1)内侧肋片(2)达到降温作用，升温后的气体进入散热通道(6)，经降温的气体重新回到合成射流腔体(4)循环使用。
【技术特征摘要】
1.一种溅射靶材自循环冷却装置，包括靶材(1)和散热结构，其特征在于：靶材(1)采用合成射流方法降温，靶材(1)对接密封在金属阴极(7)上端，合成射流发生器(5)固定在合成射流腔体(4)内部，产生间歇射流气体，射流气体由合成射流腔体(4)储存，沿喷嘴(3)喷出，喷出的射流气体冲击靶材(1)内侧肋片(2)达到降温作用，升温后的气体进入散热通道(6)，经降温的气体重新回到合成射流腔体(4)循环使用。2.根据权利要求1所述一种溅射靶材自循环冷却装置，其特征在于：靶材(1)呈水杯状金属结构，内侧包含肋片(2)，并且能够对接...
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