显示面板制造技术

本发明专利技术公开一种显示面板，包括一第一基板、一第二基板以及一显示介质层。第一基板包括一底板、一栅极、一有源层、一源极与一漏极及一遮蔽结构。栅极设置于底板上，有源层与栅极电性绝缘且对应设置，源极与漏极电连接有源层，遮蔽结构位于有源层上，并覆盖至少部分的有源层。遮蔽结构包括一金属层及一抗反射结构，抗反射结构直接接触金属层。显示介质层设置于第一基板与第二基板之间。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种显示面板，且特别是涉及一种具有高开口率的显示面板。
技术介绍
随着显示技术的快速发展，不论面板尺寸大小，高分辨率(即相同尺寸下被要求更高像素)的显示器以逐渐成为市场主流，其能够处理数位讯号，并显示更多的画面细节。然而，当分辨率越高，往往会牺牲像素的开口率。在此，开口率是指除去每个像素的配线部、晶体管部之后，光的穿透面积与每个像素的整体面积之间的比例。开口率越高，光线通过部分的面积越大，光穿透的效率就越高。在现有技术中，薄膜晶体管(Thin Film transistor,TFT)基板/彩色滤光片(Color Filter,CF)基板进行对组时，虽然可根据对位标记进行对准，但是，基板上的诸多元件在对组过程中会出现大小变化、旋转、变形等问题，如此一来，这些元件的对组精度往往无法控制，进而影响到产品的开口率。因此，如何维持显示面板的对组精度，且兼顾高的开口率，以达到显示器省电节能的目的，实为本领域积极研究的目标。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种显示面板，通过在基板上设置一金属层与抗反射结构，可缩小遮光矩阵的面积，有效提升显示面板的开口率。根据本专利技术，提出一种显示面板，包括一第一基板、一第二基板以及一显示介质层。第一基板包括一底板、一栅极、一有源层、一源极与一漏极及一遮蔽结构。栅极设置于底板上，有源层与栅极电性绝缘且对应设置，源极与漏极电连接有源层，遮蔽结构位于有源层上，并覆盖至少部分的有源层。遮蔽结构包括一金属层及一抗反射结构，抗反射结构直接接触金属层。显示介质层设置于第一基板与第二基板之间。为了对本专利技术的上述及其他方面有更佳的了解，下文特举实施例，并配合所附的附图，作详细说明如下：附图说明图1A为本专利技术第一实施例的显示面板的部分剖视图；图1B为本专利技术第一实施例的显示面板的部分俯视图；图2A～图2C为本专利技术的遮蔽层的不同实施例的示意图；图3A为本专利技术第二实施例的显示面板的部分剖视图；图3B为本专利技术第二实施例的显示面板的部分俯视图；图4为本专利技术第三实施例的显示面板的部分剖视图；图5A为本专利技术第四实施例的显示面板的部分剖视图；图5B为本专利技术第四实施例的显示面板的部分俯视图；图6为本专利技术第五实施例的显示面板的部分剖视图；图7A～图7C为以固定厚度的铝-铜的氮化物(Al-Cu-N)/不同厚度的氧化铟锌(IZO)，对于不同波长光线的反射率的量测结果的示意图；图8为铝(Al)以及铝-钕(Al-Nd)合金，对于不同波长光线的反射率的量测结果的示意图。符号说明1、2、3、4、5：显示面板101、102、103：第一基板10：底板21：栅极21G：栅极线22：源极22D：数据线23：漏极27：贯孔30：有源层40：栅极绝缘层50：遮蔽结构500：金属层501：抗反射结构502：侧壁51：第一抗反射层52：第二抗反射层502：边缘倾斜处61：第一保护层62：第二保护层63：平坦层71：第一电极72：第二电极200、201：第二基板80：底板81：彩色滤光片82、82’：遮光矩阵82-1：第一遮光部82-2：第二遮光部82-2(T)：条状部82-2(P)：凸出部86：平坦层300：显示介质层90：间隔物L1、L2、L3：光线R1、R2、R3：反射光M1、M2：介质A-A’、B-B’、C-C’：剖线面X、Y、Z：坐标轴具体实施方式以下是参照所附的附图详细叙述本专利技术的实施例。附图中相同的标号用以标示相同或类似的部分。需注意的是，附图已简化以利清楚说明实施例的内容，附图上的尺寸比例并非按照实际产品等比例绘制，因此并非作为限缩
本专利技术保护范围之用。本专利技术实施例的显示面板可包括一第一基板、一第二基板以及一显示介质层。第二基板与第一基板相对设置，显示介质层设置于第一基板与第二基板之间。举例来说，第一基板可例如为一薄膜晶体管基板，第二基板可例如为一彩色滤光片基板，显示介质层可例如为一液晶层，但本专利技术并未限定于此。在本专利技术实施例中，第一基板可包括一底板、一栅极、一有源层、一源极与一漏极及一遮蔽结构。栅极设置于底板上，有源层与栅极电性绝缘且对应设置，源极与漏极电连接有源层，遮蔽结构位于有源层上且覆盖至少部分的有源层。遮蔽结构包括一金属层与一抗反射结构，抗反射结构直接接触金属层。以下以第一至第五实施例，详细叙述本专利技术的显示面板的不同实施方式。第一实施例图1A绘示本专利技术第一实施例的显示面板1的部分剖视图。图1B绘示本专利技术第一实施例的显示面板1的部分俯视图。在此，图1A为沿着图1B的A-A’剖面线所绘示的显示面板1的剖面示意图。如图1A、图1B所示，显示面板1可包括一第一基板101、一第二基板200以及一显示介质层300。第二基板200与第一基板101相对设置，显示介质层300设置于第一基板101与第二基板200之间。显示介质层300中的显示介质，例如可为液晶或有机发光层。此外，显示面板1也可包括间隔物90，设置于第一基板101与第二基板200之间。本专利技术第一实施例的第一基板101包括一底板10、一栅极21、一有源层30、一源极22与一漏极23、一栅极绝缘层40及一遮蔽结构50。栅极21、有源层30、源极22、漏极23与栅极绝缘层40构成一晶体管。栅极21设置于底板10上，有源层30与栅极21对应设置，源极22与漏极23电连接有源层30。有源层30与栅极21可为电性绝缘且相对设置，例如此实施例中，栅极绝缘层40设置于栅极21与有源层30之间。在本实施例中，底板10可例如为一玻璃基板或一可挠式基板(例如塑胶)。有源层30可为一非晶硅(a-Si)层、一多晶硅层或一金属氧化物层。适用于有源层的金属氧化物层，例如可为氧化铟镓锌(indium gallium zinc
oxide,IGZO)层。此外，遮蔽结构50为一两层或多层结构。图2A～图2C绘示本专利技术的遮蔽结构50的不同实施例。遮蔽结构50可包括一金属层500与一抗反射结构501，抗反射结构501可设置于金属层500上方，并直接接触金属层500。光线经由抗反射结构501产生的反射光与经由金属层500产生的反射光会进行破坏性干涉，降低遮蔽层50的整体反射率。举例来说，如图2A所示，光线L1由介质M1进入介质M2时会折射成为光线L2，同时在介质M1、M2的界面产生反射光R1，光线L2由介质M2进入抗反射结构501时会折射成为光线L3，同时在介质M2与抗反射结构501的界面产生反射光R2，光线L3经由金属层500的反射会产生反射光R3。在此，介质M1例如为空气，介质M2例如为玻璃。抗反射结构501的折射率与金属层500的折射率为不同，使得在抗反射结构501的界面所产生的反射光R2与在金属层500的界面所产生的反射光R3产生光程差，而造成非建设性干涉(或破坏性干涉)。抗反射结构501的折射率可为大于或小于金属层500的折射率。本专利技术实施例中，金属层500的材料可选自由铝(Al)、钼(Mo)、铬(Cr)、镍(Ni)、铜(Cu)、铁(Fe)、钕(Nd)、其合金、及其混合物所组成的群组。亦即，金属层500可为前述金属、前述金属的合金、或前述金属及前述合金的混合物。举例来说，当金属层500为合金时，可例如为铝合金、镍合金或铜合金。抗反射结构501的材料可选自由一金本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显示面板，包括：第一基板，包括：底板；栅极，设置于该底板上；有源层，与该栅极电性绝缘且对应设置；源极与漏极，电连接该有源层；及遮蔽结构，位于该有源层上，该遮蔽结构覆盖至少部分的该有源层，该遮蔽结构包括金属层及抗反射结构，该抗反射结构直接接触该金属层；第二基板；以及显示介质层，设置于该第一基板与该第二基板之间。

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，包括：第一基板，包括：底板；栅极，设置于该底板上；有源层，与该栅极电性绝缘且对应设置；源极与漏极，电连接该有源层；及遮蔽结构，位于该有源层上，该遮蔽结构覆盖至少部分的该有源层，该遮蔽结构包括金属层及抗反射结构，该抗反射结构直接接触该金属层；第二基板；以及显示介质层，设置于该第一基板与该第二基板之间。2.如权利要求1所述的显示面板，其中该第一基板还包括：第一保护层，位于该有源层和该遮蔽结构之间。3.如权利要求1所述的显示面板，其中该第二基板包括遮光矩阵，该遮光矩阵包括：多个第一遮光部；及多个第一开口部，由该些第一遮光部曝露出，其中该些第一遮光部间隔设置且沿一第一方向沿伸，且该有源层在该第二基板上的垂直投影，至少部分位于该第一开口部中。4.如权利要求2所述的显示面板，其中该第一基板还包括：平坦层，位于该第一保护层上。5.如权利要求4所述的显示面板，其中该第一基板还包括：贯孔，贯穿该平坦层和该第一保护层，以曝露该漏极的一表面；第一电极，该第一电极的至少部分位于该贯孔...

【专利技术属性】
技术研发人员：赖晓萍，吕昭良，颜子旻，谢朝桦，
申请(专利权)人：群创光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71