一种低熔点金属化合物的收集还原装置及方法制造方法及图纸

技术编号:13550019 阅读:137 留言:0更新日期:2016-08-18 15:59
一种低熔点金属化合物的收集还原装置及方法,属于金属还原设备和方法技术领域,用于熔点低于800℃的金属的化合物还原收集。本发明专利技术的多个托盘自上而下放置在托盘支架上,托盘支架放置在框架中,托盘上有小孔,还原气体在框架内自下而上呈S型流动,托盘中的锡泥还原后从小孔滴下,完成收集。本发明专利技术是锡泥收集还原装置和方法的首创,在一个反应装置内同时实现了锡泥的还原反应和锡液自动快捷收集的两个过程,具有自动收集产物、大规模处理物料、锡泥转化率高、金属锡的质量好、装置牢固可靠、操作稳定和易于控制的特点,便于工业化大规模还原锡泥,利用这种收集还原装置和方法得到的金属锡的纯度大于99.5%,具有显著的经济效益。

【技术实现步骤摘要】
201610368464
一种<a href="http://www.xjishu.com/zhuanli/24/CN105861835.html" title="一种低熔点金属化合物的收集还原装置及方法原文来自X技术">低熔点金属化合物的收集还原装置及方法</a>

【技术保护点】
一种低熔点金属化合物的收集还原装置,其特征在于:它由框架(1)、托盘、吊装板(2)组成,框架(1)包括两个半圆套筒(7)和多个托盘支架(3),两个半圆套筒(7)的两侧边缘相对,由螺栓(8)相连接,托盘支架(3)水平放置,托盘支架(3)的边缘与半圆套筒(7)的内壁相连接,多个托盘支架(3)沿着半圆套筒(7)的轴向平行排列,托盘放置在托盘支架(3)上,托盘由大托盘(4)、小托盘(5)和收集托盘(6)组成,大托盘(4)的外径与半圆套筒(7)的内径相匹配,大托盘(4)的中心有进气孔(11),小托盘(5)的外径与半圆套筒(7)的内壁之间有间隙,大托盘(4)和小托盘(5)在托盘支架(3)上间隔排放,收集托盘(6)放置在托盘支架(3)的最下端,大托盘(4)和小托盘(5)的盘面上均布有小孔,吊装板(2)与框架(1)的半圆套筒(7)的上板面相连接。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:李建新常金宝黄世平刘需田京雷李立业
申请(专利权)人:河北钢铁股份有限公司
类型:发明
国别省市:河北;13

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