一种提高天然降雨入渗、储存和利用的垄沟覆盖栽培方法技术

本发明专利技术公开了一种提高天然降雨入渗、储存和利用的垄沟覆盖栽培方法，以解决现有全膜覆盖技术存在的膜内土壤二氧化碳分压过高，使得深层根系和微生物呼吸困难，土壤养分周转率低的问题。它包括如下步骤：采取边起垄边覆膜的方法，垄上覆膜，两垄相接处间隔设置明沟和暗沟,暗沟为集雨沟；明沟用作物秸秆覆盖。本发明专利技术弥补了全膜双垄沟播过度消耗深层水分和膜上水分易蒸发的缺陷，对恢复土壤水分和实现土壤水的可持续性发展具有重大意义。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种提高天然降雨入渗、储存和利用的垄沟覆盖栽培方法，其特征在于它包括如下步骤：采取边起垄边覆膜的方法，垄上覆膜，两垄相接处间隔设置明沟和暗沟, 暗沟为集雨沟；明沟用作物秸秆覆盖。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：熊友才，邓浩亮，卢盼盼，张健，任爱天，张晓峰，罗崇亮，
申请(专利权)人：熊友才，
类型：发明
国别省市：甘肃;62