微透镜阵列的成像方法与成像装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种微透镜阵列的成像方法，其用于对微透镜阵列所成的像进行处理，所述微透镜阵列的成像方法包括：通过微透镜阵列对光源成像，以获取底图；通过微透镜阵列在所述光源条件下对实际场景成像，以获取像图；对所述底图与所述像图进行亮度配准；为所述像图中的第一象素建立背景概率模型；以及根据所述第一象素的背景概率模型，对所述像图中的第一象素进行亮度均一化处理。本发明专利技术进一步包括一种微透镜阵列的成像装置。所述微透镜阵列的成像方法与成像装置可以有效地消除微透镜阵列成像的亮度分布不均的现象，并且进一步地将微透镜阵列成像的亮度归一化到同一水平。

【技术实现步骤摘要】
201410710155

【技术保护点】
一种微透镜阵列的成像方法，其特征在于，包括：通过微透镜阵列对光源成像，以获取底图；通过微透镜阵列在所述光源条件下对实际场景成像，以获取像图；对所述底图与所述像图进行亮度配准；为所述像图中的第一象素建立背景概率模型，根据所述底图中与所述第一象素坐标相同的第二象素的亮度差异，判断所述像图中的第一象素作为背景的概率；以及根据所述第一象素的背景概率模型，对所述像图中的第一象素进行亮度均一化处理。

【技术特征摘要】
1.一种微透镜阵列的成像方法，其特征在于，包括：
通过微透镜阵列对光源成像，以获取底图；
通过微透镜阵列在所述光源条件下对实际场景成像，以获取像图；
对所述底图与所述像图进行亮度配准；
为所述像图中的第一象素建立背景概率模型，根据所述底图中与所述第一象素坐标相同的第二象素的亮度差异，判断所述像图中的第一象素作为背景的概率；以及
根据所述第一象素的背景概率模型，对所述像图中的第一象素进行亮度均一化处理。
2.根据权利要求1所述的微透镜阵列的成像方法，其特征在于，在所述“对所述底图与所述像图进行亮度配准”之前，进一步包括对所述底图与所述像图去除噪声。
3.根据权利要求1所述的微透镜阵列的成像方法，其特征在于，所述“对所述底图与所述像图进行亮度配准”包括计算所述像图和所述底图的亮度差异并指定一个阈值来定义出所述像图中的背景。
4.根据权利要求3所述的微透镜阵列的成像方法，其特征在于，所述像图中每个微透镜所成的像，将其亮度做线性变换，使得变换后像图的背景与相应底图的区域具有相同的亮度均值和方差。
5.根据权利要求1所述的微透镜阵列的成像方法，其特征在于，所述像图中的第一象素作为背景的概率正比于所述第一象素与所述第二象素的亮度差异。
6.根据权利要求5所述的微透镜阵列的成像方法，其特征在于，进一步根据所述底图的亮度变化对所述底图与所述像图的亮度差异作规整化处理。
7.根据权利要求6所述的微透镜阵列的成像方法，其特征在于，所述像图中的第一象素p1作为背景的概率B(p1)为：
其中，p0表示所述底图中与所述第一象素坐标相同的第二象素，δ是一个可以调整的参数。
8.根据权利要求7所述的微透镜阵列的成像方法，其特征在于，所述“根据所述第一象素的背景概率模型，对所述像图中的第一象素进行亮度均一化处理”进一步包括：通过设定一个期望的均一亮度值S，以及所述底图中的亮度...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔春晖，麦华福，叶茂，
申请(专利权)人：深圳超多维光电子有限公司，深圳市墨克瑞光电子研究院，
类型：发明
国别省市：广东;44