当前位置: 首页 > 专利查询>边朝晖专利>正文

一种多个单体浮雕造型组合并隐藏接缝的浮雕制造技术

技术编号:13307898 阅读:132 留言:0更新日期:2016-07-10 03:33
本实用新型专利技术一种多个单体浮雕造型组合并隐藏拼缝的浮雕,由多块单体浮雕造型为拼接单元的多边体造型组合而成,每块造型分三层:雕刻层位于最表层;第二层为隐缝结构层;最内层为榫卯结构层,该层设有凹凸配合部,使相邻的造型可通过该凹凸部榫卯连接,且该连接拼缝可被隐缝结构层遮挡。本实用新型专利技术浮雕尺寸不受造型大小限制;多造型间榫卯结构咬合制成,且拼接缝被隐藏在内,整体美观、大方。

【技术实现步骤摘要】

】本技术是一种多个单体浮雕造型组合并隐藏接缝的浮雕,尤其指浮雕无缝组合浮雕,可以同时利用多个单体浮雕造型组合而成的浮雕,属于艺术品加工

技术介绍
】浮雕、壁画是重要的装饰物之一,其适用广泛、空间效果强烈,既具有造型艺术的特点,由具有建筑艺术的某些特征,它们不仅丰富着人们的生活、工作、商业、公共设施等空间,还承载着文化、历史的宣传和展示,是不可等闲忽视的。目前习知的浮雕、壁画大体有两类,其中一类有如下缺陷:(I)浮雕造型内部没有任何结构,(2)由于材料尺寸限制,拼接是按长方体或正方体材料为拼接单元,在每个长方体或正方体拼接单元材料上雕刻,常常造成破坏造型的现象;且在单一材质表面进行半立体的雕刻,只是在浮雕造型的背面为安装连接设有孔槽,这样就使得习知的浮雕表面色彩单一,浮雕内容及大小受造型所限,并且会在主要造型部分产生破坏性拼缝;另一类习知是使用镶嵌或粘合技术的壁画,具体是将两种造型直接拼接而成,此种方式使壁画表面效果拼缝简单暴露明显,日久容易开胶、脱落,并且表面平板。上述习知使现有的浮雕、壁画由于内部结构简单导致表面色彩单一、材质单一、小型化或者拼接缝暴露,并且会本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种多个单体浮雕造型组合并隐藏接缝的浮雕,其特征在于:该浮雕是由多块单体浮雕造型为拼接单元的多边体造型组合而成,每个多边体造型又分三层,具体为:雕刻层位于最表层,用于艺术家的雕刻创作;第二层为隐缝结构层,每块造型的隐缝结构层与相邻造型隐缝结构层的接触面为互补斜面,且可被相邻造型斜出的雕刻层掩盖达到隐藏拼缝的效果;最内层为榫卯结构层,该层设有凹凸配合部,使得相邻的造型可以通过该凹凸配合部榫卯连接并固定,且连接拼缝可被上述隐缝结构层遮挡。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:边朝晖
申请(专利权)人:边朝晖
类型:新型
国别省市:北京;11

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1