微光学成像薄膜及成像装置制造方法及图纸

技术编号:13306653 阅读:56 留言:0更新日期:2016-07-10 01:55
本申请涉及光学薄膜技术领域,其公开了一种微光学成像薄膜及成像装置。该微光学成像薄膜包括本体,所述本体上形成有相适配的聚焦结构和图文结构,所述图文结构通过所述聚焦结构成像;所述聚焦结构的外表面上包覆有包覆结构,所述包覆结构的折射率与所述聚焦结构的折射率不同。通过本申请实施例所公开的技术方案,可以提高成像薄膜抗外界环境污染的能力。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及光学薄膜
,尤其涉及一种微光学成像薄膜及成像装置
技术介绍
莫尔技术是一类引人注目的新型视觉安全技术。它利用微透镜阵列的聚焦作用将微图案高效率地放大,实现具有一定景深并呈现奇特动态效果的图案。专利文件200480040733.2公开了一种应用于钞票等有价证券开窗安全线的微透镜阵列安全元件。它的基本结构为:在透明基层的上表面设置周期性微透镜阵列,在透明基层的下表面设置对应的周期型微图案阵列,微图案阵列位于微透镜阵列的焦平面或其附近,微图案阵列与微透镜阵列排列大致相同,通过微透镜阵列对微图案阵列的莫尔放大作用。该专利公开了两种制作微图案的方法:由选自喷墨、激光、凸版印刷、胶版印刷、照相凹版印刷、及凹版印刷法所组成的群组的印刷方法,在透明基层下表面设置凸出的微图案油墨;或者在透明基层下表面形成有图案的凹陷,并在凹陷中填充油墨进而形成微图案。后者具有几乎无限空间解析度的优点。因此分别在透明基层上下表面设置微透镜和凹陷型微图案具有最优的图形复杂度和解析度有利于最大化提高该本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种微光学成像薄膜,其特征在于,包括:本体;所述本体上形成有相适配的聚焦结构和图文结构,所述图文结构通过所述聚焦结构成像;所述聚焦结构的外表面上包覆有包覆结构,所述包覆结构的折射率与所述聚焦结构的折射率不同。

【技术特征摘要】
1.一种微光学成像薄膜,其特征在于,包括:本体;
所述本体上形成有相适配的聚焦结构和图文结构,所述图文结构通过所述聚焦结构成像;
所述聚焦结构的外表面上包覆有包覆结构,所述包覆结构的折射率与所述聚焦结构的折射率不同。
2.根据权利要求1所述的成像薄膜,其特征在于,所述聚焦结构和所述图文结构为一体结构。
3.根据权利要求2所述的成像薄膜,其特征在于,用于形成所述聚焦结构的第一聚合物和用于形成所述图文结构的第二聚合物之间形成有第一融合部分。
4.根据权利要求1所述的成像薄膜,其特征在于,所述本体上还形成有间隔结构,所述聚焦结构和所述图文结构分别位于所述间隔结构的两侧。
5.根据权利要求4所述的成像薄膜,其特征在于,所述聚焦结构和所述间隔结构为一体结构。
6.根据权利要求5所述的成像薄膜,其特征在于,用于形成所述聚焦结构的第一聚合物和用于形成所述间隔结构的第三聚合物之间形成有第二融合部分。
7.根据权利要求4所述的成像薄膜,其特征在于,所述图文结构和所述间隔结构为一体结构。
8.根据权利要求7所述的成像薄膜,其特征在于,用于形成所述图文结构的第二聚合物和用于形成所述间隔结构的第三聚合物之间形成有第三融合部分。
9.根据权利要求1-8任一项所述的成像薄膜,其特征在于,所述聚焦结构形成于所述本体的第一表面,所述图文结构形成于所述本体的第二表面,所述第一表面与所述第二表面相背对。
10.根据权利要求1-8任一项所述的成像薄膜,其特征在于,所述聚焦结构形成于所述本体的第一表面,所述图文结构形成于所述本...

【专利技术属性】
技术研发人员:张健
申请(专利权)人:昇印光电昆山股份有限公司
类型:新型
国别省市:江苏;32

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