【技术实现步骤摘要】
本技术涉及光学精密器材
，具体涉及一种抛光盘。
技术介绍
目前的传统抛光盘，如图1所示，在对玻璃基板等材料进行抛光时，需要在特定的时候才能把抛光液散在抛光盘和零件中间，使工件在抛光液的浸润下对其进行抛光。添液位置4 一般位于沥青层2与待磨物3表面，容易造成抛光液泄漏，当抛光盘被腐蚀到无法使用、需要更换时，将会给企业增加成本，并且抛光盘的更换过程复杂，严重影响蒋公过程。控制抛光液泄漏必须需要员工严格把控，这不利于人的把控以及一人多台设备的控制，特别是在用氧化铈作为抛光液的时候，传统抛光时对于添加抛光液对于的人要求较高，影响加工效率，增加加工难度，降低加工效率。
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有技术的不足，提供一种有效减少抛光液泄漏、提高加工效率的抛光盘。为达到上述专利技术目的，提供用于传统抛光的改进型抛光盘，由抛光盘和沥青层黏连组成，所述的抛光盘上有添液孔以及与添液孔相连的导向槽，所述的沥青层上有连通孔，所述连通孔位于添液孔下方，所述连通孔直径小于添液孔直径。优选的，抛光盘上有多个绕中心均布的添液孔，所述添液孔间由导向槽连通，每个添液孔下方有对应的连通孔。优选的，抛光盘有三个添液孔和连接添液孔的三个导向槽。优选的，所述抛光盘由铸铁制成。本技术的用于传统抛光的改进型抛光盘，在现有抛光盘基础上增加了添液孔，在沥青层上设有与添液孔位置相对的连通孔，连通孔直径小于添液孔直径，整体略成漏斗形，有助于导通抛光液进行疏导，使抛光液不易溢出浪费，又能够良好渗液到抛光面，导向槽缓存和导向。多个添液孔的布局有利于抛光面渗液的均匀，利于抛光。本技术的有益效果是是...
【技术保护点】
一种用于传统抛光的改进型抛光盘，由抛光盘和沥青层黏连组成，其特征在于，所述的抛光盘上有添液孔以及与添液孔相连的导向槽，所述的沥青层上有连通孔，所述连通孔位于添液孔下方，所述连通孔直径小于添液孔直径。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：蒋泉权，
申请(专利权)人：上海现代先进超精密制造中心有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31
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