包含烷基3‑羟基丁酸酯的水性清洁组合物制造技术

技术编号:13111790 阅读:84 留言:0更新日期:2016-03-31 17:34
本发明专利技术涉及一种清洁组合物及其制备和使用方法。本发明专利技术的清洁组合物可以包括至少一种烷基3‑羟基丁酸酯和水,任选的包括至少一种表面活性剂和一种或多种额外的添加剂。本发明专利技术的清洁组合物是无毒性并与环境相容的,可用于从应用于多种家庭,工业和/或公共机构的一系列不同的基底上去除多种类型的污渍。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于清洁各种基底的清洁组合物。本专利技术还涉及制备和使用该组 合物的方法。
技术介绍
水性清洁组合物用于去除包括硬表面如地板、墙壁、台面和家具在内的各种表面 上的污垢和其他污渍。许多市售的水性清洁剂包括与水结合的有机溶剂和任选组分,如表 面活性剂、着色剂、香料等等。无论是用于日常的、工业的或公共机构的清洁组合物,其制造 商都面临着通过选择呈现优良清洁性能但对使用者和环境的不利影响最小的溶剂以优化 清洁配方的任务。迄今为止,该问题还未得到成功解决,因为大多数高性能的清洁组合物不 具有良性的毒性特征和/或包含高挥发性有机化合物(V0C)溶剂,然而鉴于最近制定了更严 格的环境法规,许多"绿色"清洁剂都呈现出难以令人满意的清洁性能。 因此,需要一种安全、环保并能够高效率去除基底上污渍的清洁组合物。优选地, 该清洁组合物将能有效地从广泛的基底上去除各种不良物质。此外,该清洁组合物应能以 合算的方式和工业规模来制造。
技术实现思路
-方面,本专利技术涉及一种水性清洁组合物,其包含水和至少0.1重量%的由下式定 义的至少一种烷基3-羟基丁酸酯:其中R1是具有至少三个且不多于五个碳原子的烷基基团。 另一方面,本专利技术涉及一种清洁基底的方法,其包括用含水和由下式定义的至少 一种烷基3-羟基丁酸酯的清洁组合物接触基底:其中R1是具有至少三个且不多于五个碳原子的烷基基团。再一方面,本专利技术涉及一种制备清洁组合物的方法,该方法包括:将烷基3-羟基丁 酸酯与水和任选的表面活性剂混合从而提供一种清洁混合物,其中烷基3-羟基丁酸酯的烷 基基团具有至少三个且不多于五个碳原子。【附图说明】以下参照附图对本专利技术的各个方面进行了详细说明,其中: 图1描述了应用实施例4中所述的方法使用多种对照和本专利技术清洁组合物去除铝 面板上烘焙油脂的烘焙油脂擦洗测试的结果; 图2描述了应用实施例4中所述的方法使用多种对照和本专利技术清洁组合物去除铝 面板上焦油的焦油-铝擦洗测试的结果; 图3a描述了应用实施例4中所述的方法使用一种对照和一种本专利技术清洁组合物去 除油漆墙板上皂垢的皂垢擦洗测试的结果; 图3b描述了应用实施例4中所述的方法使用多种对照清洁组合物去除油漆墙板上 皂垢的皂垢擦洗测试的结果; 图3c描述了应用实施例4中所述的方法使用多种其他的对照清洁组合物去除油漆 墙板上皂垢的皂垢擦洗测试的结果; 图4描述了应用实施例4中所述的方法使用多种对照和本专利技术清洁组合物去除乙 烯树脂面板上焦油的焦油-乙烯树脂擦洗测试的结果;和 图5描述了实施例5中所述的在涂有黑色着色蜡的乙烯地砖上使用多种不同溶剂 以示范每种溶剂与蜡涂层相互作用的蜡擦洗测试的结果。【具体实施方式】 本专利技术涉及适用于从基底上去除一种或多种污渍的水性清洁组合物。如本文所 用,"污渍"一词指的是存在于特定基底上不期望的任何成分或材料。污渍的实例可以包括, 但不限于,污垢、焦油、油脂、油、皂垢、蛋白质、有机物、酶以及它们的组合。本专利技术的清洁组 合物可表现出针对各种污渍和基底的高清洁效率,同时表现出良性的毒性并与环境相容。 本专利技术的清洁组合物可以是水性清洁组合物,其包括水和至少一种有机的、基于 酯类的溶剂。基于酯类的溶剂可包括由式(I)定义的至少一种烷基3_羟基丁酸酯,如下:其中R1是具有至少三个且不多于五个碳原子的烷基基团。如本文所用,"烷基"一 词是指支链化的或直链的单价烷基。由上式(I)中R1代表的烷基可以包括3或4个碳原子,或 者可以包括4个碳原子。R1基团可以选自由下列各基团组成的组:异丙基,正丙基,异丁基, 正丁基,2-丁基(仲丁基),2,2_二甲基乙基(叔丁基),3,3_二甲基戊基(异戊基),1_戊基(正 戊基),1 _甲基丁基(2-戊基),2-甲基丁基,2-乙基丙基(3-戊基),1,1-二甲基丙基,1,2-二 甲基丙基,2,2_二甲基丙基(新戊基),以及环戊基;或者可以选自由下列各基团组成的组: 异丙基,正丙基,异丁基,正丁基和2-丁基。在某些情况下,该烷基R1可以选自由异丙基、异 丁基、正丁基和2-丁基组成的组或由异丁基、正丁基和2-丁基组成的组。另外,R1基团可以 是正丁基。烷基3-羟基丁酸酯可以以单一的对映体,富含一种对映体的混合对映体,单一的 非对映异构体,富含一种非对映异构体的混合物呈现,或者以外消旋混合物呈现。烷基3-羟 基丁酸酯可以是非卤化的。 烷基3-羟基丁酸酯在20°C下通过ASTM D-1160标准测得的蒸气压可以为不超过约 0.20托,不超过约0.18托,不超过约0.16托,或不超过约0.12托。在某些情况下,烷基3-羟基 丁酸酯在20°C下的蒸气压为至少约0.05托,至少约0.055托,至少约0.06托,和/或不超过约 0.10托,不超过约0.09托,不超过约0.08托,不超过约0.075托。烷基3-羟基丁酸酯在20°C下 测得的蒸气压的范围可以为:约〇. 05至约0.10托,约0.05至约0.09托,约0.05至约0.08托, 约0.05至约0.075托,约0.055至约0.10托,约0.055至约0.09托,约0.055至约0.08托,约 0.055至约0.075托,约0.06至约0.10托,约0.06至约0.09托,约0.06至约0.08托,约0.06至 约0.075托。 烷基3-羟基丁酸酯在大气压下使用配有光电检测的Mettler FP81 HT MBC单元测 得的沸点可以为至少约150°C,至少约200°C,至少约210°C,至少约215°C,至少约216°C,或 至少约217°C,和/或不超过约230°C,不超过约225°C,或不超过约220°C。烷基3-羟基丁酸酯 的沸点的范围可以为:约150至约230°C,约150至约225°C,约150至约220°C,约200至约230 °C,约200至约225°C,约200至约220°C,约210至约230°C,约210至约225°C,约210至约220 °C,约215至约230°C,约215至约225°C,约215至约220°C,约216至约230°C,约216至约225 °C,约216至约220°C,约217至约230°(3,约217至约225°(3,约217至约220°(3。 烷基3-羟基丁酸酯以ASTM D7236-07标准通过具有Setaflash闭杯仪器测得的闪 点可以为至少约80°C,至少约85°C,至少约90°C,至少约95°C和/或不超过约115°C,不超过 约110°C,不超过约105°C和/或根据ASTM E659-78(2005)标准测得其自燃温度为至少约290 °C,至少约295°C,至少约300°C和/或不超过约345°C,不超过约335°C,或不超过约330°C。该 清洁组合物的烷基3-羟基丁酸酯的闪点的范围可以为:约80至约115°C,约80至约110°C,约 80至约105°C,约85至约115°C,约85至约110°C,约85至约105°C,约90至约115°C,约90至约 110°C,约90至约105°C,从约95至约115°C,约95至约110°C,或约95至约105°C和/或其自燃 温度在以下范围内:约290至约345°C,约290至约33本文档来自技高网...
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【技术保护点】
水性清洁组合物包括:水和至少0.1重量%的由下式定义的至少一种烷基3‑羟基丁酸酯。其中R1是具有至少三个且不多于五个碳原子的烷基基团。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:乔斯·西蒙·德维特马克·斯坦利·帕夫林
申请(专利权)人:伊士曼化工公司
类型:发明
国别省市:美国;US

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