冷等离子体的美容用途制造技术

本发明专利技术涉及冷常压等离子体用于预防和/或处理健康头皮的审美障碍的美容用途。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术旨在提出一种用于预防和/或处理头皮的障碍、尤其头皮的审美障碍的新 型处理。特别地，本专利技术涉及头皮的头皮肩障碍。
技术介绍
与皮肤组织的其他组织一样，头皮是进行不断更新的表皮，且其富含皮脂腺。 正常情况下，头皮通过去除皮肤的表面细胞来进行更新，且该更新不会被感觉到 或看到。然而，出于各种原因，头皮的角质层的细胞的过度更新，可导致肉眼可见的大块的、 厚的细胞片的形成，该细胞片称作"头皮肩"。 促进头皮肩出现的因素，例如可提及压力、冬季、缺乏滋润、或者皮肤或毛囊被酵 母菌（马拉色氏霉菌属，Malassezia sp)定殖。马拉色氏霉菌属由通常在人类以及某些温 血动物的皮肤上存在的嗜脂性酵母菌构成。它们的分布取决于年龄、皮脂腺活性以及某些 病理状况。在不具有头皮肩的个体中，马拉色氏霉菌属占头皮表面处的正常的共生菌群的 大约45%，但在头皮肩情况下可占正常的共生菌群的75%，且在相关的脂溢性皮炎情况下 占正常的共生菌群的高达85%。在头皮表面处通常存在的其他微生物为微球菌和丙酸杆菌 (Propionobacterium)〇 头皮肩症状通常响应于各种局部的或系统的抗真菌处理。因此，已经提出了组合 抗真菌剂和抗脂溢剂的各种制剂以处理严重的头皮肩症状。基于抗真菌的处理表明对头皮 肩症状的一定功效。 能抑制头皮表面处的马拉色氏霉菌属类型的酵母菌的化学抗真菌剂并入到香波 中的使用是相对有效的，但在停止抗头皮肩香波的使用后，头皮肩非常快速地重新出现。 另外，大量的专利申请公布涉及等离子体在医疗领域和化妆品领域的用途。 国际申请WO 2012/104332公开通过将美容组合物与等离子体组合的除臭处理方 法。 WO 2012/103877描述了一种使用介电等离子体来处理头发的方法。 WO 2004/105810涉及一种利用常压等离子体处理生物材料的方法。 KR2006025825描述使用常压冷等离子体染发的装置。 DE10238931描述一种用于制造指甲来容纳指甲油的装置。 CN101259036描述了用于处理皮肤和去除黑头的铅笔形式的等离子体发生器。 DE102009060627公开了一种用于皮肤表面的介质阻挡等离子体处理的电极装置。 WO 2011/058301描述了使用冷等离子体的用于化妆品领域和牙科领域的处理装 置。 KR20090400156公开了一种抗皱等离子体处理装置。 WO 2011/144344A2公开了一种用于使用冷等离子体对污染表面进行至少部分杀 菌的装置；描述了用于产生等离子体的各种电极装置且提及了大量的应用，例如除臭。 仍需要能够对头皮症状产生有益效果的新型解决方案，尤其是去除或减少头皮肩 的出现。
技术实现思路
本专利技术通过冷常压等离子体用于预防和/或处理健康头皮的审美障碍、尤其是健 康头皮的头皮肩症状的美容用途，而满足了该目的。 本专利技术提供了一种从处理开始就有效的解决方案，其相对长久、快速且易于实施。 本专利技术的另一优势在于不会要求任何杀生化合物以例如洗液或香波的形式被施 用的可能性。 出于本专利技术的目的，术语"预防"指减少所考虑的现象的呈现的风险。 根据本专利技术的另一方面，本专利技术主题为一种用于处理和/或预防个体中健康头皮 的审美障碍的美容方法，包括将头皮暴露于冷常压等离子体。 在头皮具有头皮肩症状的个体中实施根据本专利技术的方法是特别有利的。 根据本专利技术的另一方面，本专利技术的主题还为一种处理头皮的装置，包括： -用于产生冷常压等离子体的构件，其可以使头皮暴露于等离子体， -引导件，其配置成抵着头皮支撑且允许所述构件相对于头皮在距头皮预定的距 离处移动，所述距离尤其在0. 5mm和15mm之间、优选在2mm和6mm之间。 等离子体 等离子体是一种也能够产生活性物质的电离气体，该活性物质通过产生等离子体 的放电而生成。冷常压等离子体是不使暴露于等离子体的基材产生任何过热的等离子体。 三种类型的冷常压等离子体是可用的，即直接等离子体、间接等离子体和混合等 呙子体。 在直接等离子体中，基材扮作产生等离子体所需的对电极；因此，在电极和基材之 间产生等离子体。一个主要的直接等离子体技术是被称作DBD(介质阻挡放电）的等离子 体。 在间接等离子体中，在两个电极之间产生等离子体，等离子体然后使用气体流导 向基材。一个主要的技术被称作"等离子体焰炬"。 混合等离子体，称作电晕等离子体，使直接等离子体的产生模式和间接等离子体 的特性相结合。 在直接等离子体或混合等离子体的情况下，头皮扮作对电极且处理位于电极下方 的区域。 冷常压等离子体可以使用多种气体（空气、氦气、氧气等）。本专利技术在气体方面是 不受限制的。在直接等离子体中，优选的气体是空气。 在单独使用等离子体的情况下，直接等离子体、甚至更优选的DBD类型的等离子 体，在本专利技术中是优选的。 处理方法 根据本专利技术的方法包括将头皮暴露于冷常压等离子体。 处理区域优选地延伸至整个头皮。 于是，为了实施该处理，相对于头皮移动构件是必要的，该构件提供等离子体的局 部产生。 处理时间根据所需的结果而调整。 根据暴露时间，可延伸抑制区域，从而可以处理比电极的表面积或者等离子体源 的表面积更大的表面积。 处理时间优选地在Γ和10'之间，更优选地在Γ和5'之间。该处理时间完全与 等离子体发生器用于处理头皮肩症状的美容用途相兼容。 10〃的暴露已经可以获得完全令人满意的对马拉色氏霉菌属（Malassezia)酵母 菌的抑制。 电极或等离子体生成的源在头皮的表面处进行移动时，维持电极或等离子体生成 的源在受控的距离处的同时，可产生等离子体。 该移动可手动地或以自动的方式实施。在手动移动的情况下，自动方式可是辅助 的，在合适的情况下，通过围绕人的头部设置的导向结构来辅助。 在移动期间，头发例如通过梳子可局部分开以促进到达头皮。 等离子体产生可随着时间自动间断，例如，在预定的操作期后或者当检测到整个 头皮已经处理的时候停止等离子体发生器。 处理可周期性地反复进行，例如每隔2天至1个月。 当处理方法包括局部施用美容组合物时，在暴露于等离子体之前、期间或之后，可 促进用于处理头皮的活性剂的渗透，尤其由于等离子体可降低脂质屏障的功能的事实。还 可使头皮的表面更亲水。所施用的组合物可尤其包括一种或多种抗头皮肩活性剂。 活件剂 抗头皮屑活件剂 术语"抗头皮肩活性剂"用于指能够预防头皮肩出现、减少头皮肩薄片的数量和/ 或使所述头皮肩完全消失的化合物。 适合用于本专利技术的抗头皮肩活性剂可尤其选自： -1-羟基-2-吡啶酮衍生物，例如1-羟基-4-甲基-2-吡啶酮、1-羟基-6-甲基吡 啶酮、1-羟基-4, 6-二甲基-2-吡啶酮、1-羟基-4-甲基-6-(2, 4, 4-三甲基戊基）-2-吡 啶酮、1-羟基-4-甲基-6-环己基-2-吡啶酮、1-羟基-4-甲基-6-(甲基环己基）2-吡啶 酮、1-羟基-4-甲基-6-(2-二环庚基）-2-吡啶酮、1-羟基-4-甲基-6 (4-甲基苯 基）-2_吡啶酮、1-羟基-4-甲基-6 丁基]-2-吡啶酮、1-羟基-4-甲 基-6- (4-氰基苯氧基甲基-2-吡啶酮）、1-羟基-4-甲基-6-(苯基当前第1页1 2 本文档来自技高网...

【技术保护点】
冷常压等离子体用于预防和/或处理健康头皮的审美障碍的美容用途。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：弗雷德里克·伍德兰，法布里斯·奥索林，让伊夫·勒让德，迦本·维克，
申请(专利权)人：欧莱雅，
类型：发明
国别省市：法国;FR