本专利申请公开了一种水解釜均匀供料装置，包括机架、水解釜、供料管、检测单元和实施部，检测单元为液位传感器，液位传感器安装在水解釜上，且液位传感器的探头贯穿到水解釜内，探头和水解釜的连接处通过密封圈进行密封；供料管的横截面为方形，供料管的一侧壁上设有通槽，实施部包括用于关闭供料管的阻料块、中部铰接在机架上的铁质摆动臂和安装在机架上的电磁阀，阻料块滑动连接在通槽内，且阻料块与机架之间通过拉簧连接，摆动臂的一端对应于阻料块，摆动臂的另一端对应于电磁阀，所述电磁阀与液位传感器电连接。通过实施本方案，解决了现有技术中通过人工观察供料液面高低所存在的误差，导致有的水解釜中的反应物水解不充分的问题。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及化工设备领域，具体涉及一种水解釜均匀供料装置。
技术介绍
在化工产品生产过程中，需要将原料进行反应，再将反应物通过供料管供给到水解釜中，由于在实际生产中，通常是大批量进行生产，如果设置一个水解釜对反应物进行水解，就需要体积庞大的水解釜进行工作，但占地空间大，一般不会被接受。所以水解釜一般设置多个，由于在供料的过程中，需要对水解釜进行逐一进行供料，通过人工观察一个水解釜中原料达到一定量时，再将供料管换到另一水解釜中进行供料，这种方式所存在的问题是，由于人工观察存在着较大误差，使各水解釜中反应物重量不同，而每个水解釜中水的重量是一致的，如此会导致有的水解釜中的反应物水解不充分的问题。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种水解釜均匀供料装置，以解决现有技术中通过人工观察供料液面高低所存在的误差，导致有的水解釜中的反应物水解不充分的问题。为达到上述目的，本技术的技术方案如下：水解釜均匀供料装置，包括机架、水解釜和用于对水解釜供料的供料管，还包括控制装置，所述控制装置包括检测单元和实施部，所述检测单元为液位传感器，所述液位传感器安装在水解釜上，且液位传感器的探头贯穿到水解釜内，所述探头和水解釜的连接处通过密封圈进行密封；所述供料管的横截面为方形，供料管的一侧壁上设有通槽，所述实施部包括用于关闭供料管的阻料块、中部铰接在机架上的铁质摆动臂和安装在机架上的电磁阀，所述阻料块滑动连接在通槽内，且阻料块与机架之间通过拉簧连接，所述摆动臂的一端对应于阻料块，摆动臂的另一端对应于电磁阀，所述电磁阀与液位传感器电连接。本方案的原理：将液位传感器安装在水解釜上，并根据需求预设液位值，当液位传感器的探头检测到水解釜中的液位达到预设值时，液位传感器将控制电磁阀通电导通，电磁阀便将铁质的摆动臂的一端吸附住，摆动臂的另一端便沿其中部铰接点推动阻料块运动并关闭供料管通道。本方案的优点是：1.通过将液位传感器安装在水解釜上可时刻监控到水解釜中反应物的液位，只要达到指定高度，液位传感器便及时控制电磁阀动作并使阻料块关闭供料管通道，如此保证了每个水解釜中的反应物一致，从而保证了反应物能得到充分水解。2.将供料管的横截面设计为方形，如此便于阻料块在供料管中插入与退出，并保证阻料块能很好的将供料管通道进行关闭，如果采用传统圆形管，由于圆形管中间大两端小，为了保证对供料管进行密封关闭，就必须将阻料块设计成圆形，如此就需要将通槽的宽度设计成供料管的直径，当圆形阻料块退出通槽时，液体便沿通槽向外溢出。优选方案一：作为基础方案的优选方案，阻料块的大小与供料管内部横截面大小相匹配，以保证阻料块与供料管的密闭性，由于硅胶化学性质稳定，不易与其他物质发生反应，且硅胶具有一定延展性，所以在阻料块的边缘安装硅胶，当阻料块关闭供料管时，可通过硅胶的延展性加强两者的密闭性。优选方案二：作为基础方案或优选方案一的优选方案，所述阻料块设有凸起，所述供料管对应于通槽的另一侧壁上设有用于容纳凸起的容纳槽，通过在阻料块上设置凸起，在关闭供料管通道时，凸起插入到通槽内，如此阻料块便可通过两个支点固定在供料管上，增强了阻料块的稳固性。优选方案三：作为优选方案二的优选方案，所述阻料块的形状和尺寸与通槽一致，以减小阻料块与通槽之间的间隙，当阻料块打开供料管通道时，阻料块阻挡住通槽出口，避免原料从通槽渗出。附图说明图1是本技术水解釜均匀供料装置的结构示意图；图2是本技术实施部的结构示意图。具体实施方式下面通过具体实施方式对本技术作进一步详细的说明：说明书附图中的附图标记包括：水解釜1、反应釜2、供料管3、实施部4、液位传感器5、阻料块6、通槽7、电磁阀8、摆动臂9、容纳槽10、凸起11。实施例基本如附图1、图2所示：水解釜均匀供料装置，包括机架、安装在机架上的水解釜1和用于对水解釜1供料的供料管3，供料管3的两端分别安装在反应釜2底部和水解釜1上部。还包括控制装置，控制装置包括检测单元和实施部4，检测单元为液位传感器5，液位传感器5安装在水解釜1上，且液位传感器5的探头贯穿到水解釜1内，探头和水解釜1的连接处通过密封圈进行密封；为了便于阻料块6在供料管3中插入与退出，并保证阻料块6能很好的将供料管3通道进行关闭，将供料管3的横截面设计为方形，如果采用传统圆形管，由于圆形管中间大两端小，为了保证对供料管3进行密封关闭，就必须将阻料块6设计成圆形，如此就需要将通槽7的宽度设计成供料管3的直径，当圆形阻料块6退出通槽7时，液体便沿通槽7向外溢出。运动供料管3的一侧壁上设有通槽7。阻料块6的形状和尺寸与通槽7一致。此外，阻料块6的大小与供料管3内部横截面大小相匹配，以保证阻料块6与供料管3的密闭性，由于硅胶化学性质稳定，不易与其他物质发生反应，且硅胶具有一定延展性，所以在阻料块6的边缘安装硅胶，当阻料块6关闭供料管3时，可通过硅胶的延展性加强两者的密闭性。阻料块6的左端设有凸起11，供料管3对应于通槽7的另一侧壁上设有用于容纳凸起11的容纳槽10，通过在阻料块6上设置凸起11，在关闭供料管3通道时，凸起11插入到通槽7内，如此增强了阻料块6的稳固性。实施部4包括铁质摆动臂9、电磁阀8和用于关闭供料管3的阻料块6，阻料块6滑动连接在通槽7内，阻料块6的右端通过拉簧水平连接在机架上，在反应物流动状态下，使阻料块6在拉簧的作用下打开供料管3通道。铁质摆动臂9中部铰接在机架上，其上端对应于阻料块6的右端部，其下端对应于电磁阀88的左端部。电磁阀8水平安装在机架上。所述电磁阀8与液位传感器5电连接。本实施例中，操作时，将液位传感器5安装在水解釜1上，并根据需求预设液位值，当液位传感器5的探头检测到水解釜1中的液位达到预设值时，液位传感器5将控制电磁阀88通电导通，电磁阀8便将铁质的摆动臂9下端向右吸附住，摆动臂9的上端便沿其中部铰接点向左推动阻料块6向左运动并关闭供料管3通道。以上所述的仅是本技术的实施例，方案中公知的具体结构及特性等常识在此未作过多描述。应当指出，对于本领域的技术人员来说，在不脱离本技术构思的前提下，还可以作出若干变形和改进，这些也应该视为本技术的保护范围，这些都不会影响本技术实施的效果和专利的实用性。本申请要求的保护范围应当以其权利要求的内容为准，说明书中的具体实施方式等记载可以用于解释权利要求的内容。本文档来自技高网...
【技术保护点】
水解釜均匀供料装置，包括机架、水解釜和用于对水解釜供料的供料管，其特征在于，还包括控制装置，所述控制装置包括检测单元和实施部，所述检测单元为液位传感器，所述液位传感器安装在水解釜上，且液位传感器的探头贯穿到水解釜内，所述探头和水解釜的连接处通过密封圈进行密封；所述供料管的横截面为方形，供料管的一侧壁上设有通槽，所述实施部包括用于关闭供料管的阻料块、中部铰接在机架上的铁质摆动臂和安装在机架上的电磁阀，所述阻料块滑动连接在通槽内，且阻料块与机架之间通过拉簧连接，所述摆动臂的一端对应于阻料块，摆动臂的另一端对应于电磁阀，所述电磁阀与液位传感器电连接。
【技术特征摘要】
1.水解釜均匀供料装置，包括机架、水解釜和用于对水解釜供料的供料管，其特征在于，还包括控制装置，所述控制装置包括检测单元和实施部，所述检测单元为液位传感器，所述液位传感器安装在水解釜上，且液位传感器的探头贯穿到水解釜内，所述探头和水解釜的连接处通过密封圈进行密封；所述供料管的横截面为方形，供料管的一侧壁上设有通槽，所述实施部包括用于关闭供料管的阻料块、中部铰接在机架上的铁质摆动臂和安装在机架上的电磁阀，所述阻料块滑动连接在通槽内，且阻料块与机架之间通过拉簧连接，所述摆动...
【专利技术属性】
技术研发人员：李定山，杜祥伦，余超忠，周天鹅，
申请(专利权)人：重庆长风化学工业有限公司，
类型：新型
国别省市：重庆;85
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