一种多环境质量测量系统技术方案

本公开涉及计量领域，具体地，涉及一种多环境质量测量系统。该多环境质量测量系统可包括：下壳体(11)；上壳体(12)，置于所述下壳体(11)上方，所述上壳体(12)与所述下壳体(11)围成的腔体(13)内的环境能在真空环境和气体环境间切换；质量测量装置(14)，位于所述腔体(13)内，用于测量待测对象的质量。应用本公开，可通过切换待测对象所处环境的状态，来方便地测量待测对象在不同环境中的质量。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及计量领域，更具体地，涉及一种多环境质量测量系统。
技术介绍
在精确测量中，常需要测量待测对象在真空环境中的质量，特别地，在一些情况下，既需要获得待测对象在真空环境中的质量，还需要获得待测对象在特定气体环境中的质量。但是，将待测对象在真空环境和气体环境(例如，根据需要所设置的气体环境)中进行搬移的操作较为麻烦，并且难以确保除环境状态(即真空环境或气体环境)外的其他各项测量条件均能保持相同，从而可能影响最终测量结果的精确度。
技术实现思路
本公开提出了一种能方便地测量待测对象在真空环境和气体环境中的质量的系统。根据本公开的一方面，提出了一种多环境质量测量系统，该多环境质量测量系统可包括:下壳体(11);上壳体(12)，置于所述下壳体(11)上方，所述上壳体(12)与所述下壳体(11)围成的腔体(13)内的环境能在真空环境和气体环境间切换；质量测量装置(14)，位于所述腔体(13)内，用于测量待测对象的质量。该多环境质量测量系统还可包括壳体提升装置，所述壳体提升装置可包括导轨(15)ο所述导轨(15)可设置在所述上壳体(12)的周围，以用于限制所述上壳体(12)的移动路径。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种多环境质量测量系统，其特征在于，该多环境质量测量系统包括：下壳体(11)；上壳体(12)，置于所述下壳体(11)上方，所述上壳体(12)与所述下壳体(11)围成的腔体(13)内的环境能在真空环境和气体环境间切换；质量测量装置(14)，位于所述腔体(13)内，用于测量待测对象的质量。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：任孝平，王健，蔡常青，钟瑞麟，胡满红，
申请(专利权)人：中国计量科学研究院，
类型：新型
国别省市：北京;11