具有提供降低闪耀外观的防眩光层的显示设备制造技术

描述显示设备和最小化眩光和闪耀外观的防眩光层。一种显示设备包括含像素阵列的像素基片和防眩光层。所述防眩光层包括具有空间频率的表面粗糙度，从而防眩光层的典型焦距要么至少为四倍的像素阵列表面和防眩光层之间的光学距离,要么至多为三分之一像素阵列表面和防眩光层之间的光学距离。在一些实施方式中,像素阵列的像素节距小于约120μm。在一些实施方式中,防眩光层可具有椭圆的功率谱密度，且功率谱密度的短轴与像素阵列的色彩方向对齐。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利说明】具有提供降低闪耀外观的防眩光层的显示设备
技术介绍
本申请根据35U.S.C. § 119要求2012年10月10日提交的美国临时申请系列第 61/712000号的优先权，本文W该申请的内容为基础并通过参考将其完整地结合于此。 领域 本专利技术总体设及具有防眩光层的显示设备，具体来说，设及具有同时最小化眩光 和外观闪耀的防眩光层的显示设备。
技术介绍
眩光的存在是显示设备中的一个大问题，特别是当在户外或光亮环境中观看显示 设备时。因此，有效显示设备利用涂覆在显示器前表面上的减反射涂层来消除来自显示器 前面的反射。但是，只使用减反射涂层可能不足，因为大量的光仍然被显示设备自身内侧 的各种层反射。因此，有些显示设备尝试通过使用在显示设备的前表面上的防眩光处理， 或同时组合防眩光和减反射处理来消除反射。 但是，随着显示设备的分辨率增加，特别是手持电子设备中所用的显示设备，像 素阵列的像素节距显著收缩。当在显示设备结构内使用防眩光处理时，防眩光层形成称为 "闪耀"的图像伪影。为了最小化闪耀的影响，可将防眩光处理或表面的粗糖度设计成具有 高空间频率。但是，较高的空间频率形成显著的雾度和降低图像对比度。 概述 本专利技术的第一方面是显示设备，其包括具有像素阵列的像素基片和相对于该像素 基片设置的防眩光层。所述防眩光层包括具有空间频率的表面粗糖度，从而防眩光层的典 型焦距要么至少为四倍（atleastfourtimeslargerthan)的像素阵列表面和防眩光层 之间的光学距离，要么至多为S分之一（atleastt虹eetimessmallerthan)像素阵列 表面和防眩光层之间的光学距离（或至少比像素阵列表面和防眩光层之间的光学距离小 =倍）。 本专利技术的第二方面是如上述方面所述的显示设备，其中所述防眩光层的典型焦 距至多为=分之一的像素阵列表面和防眩光层之间的光学距离，且该防眩光层的功率谱密 度具有环形形状。 本专利技术的第=方面是如前述方面中任一项所述的显示设备，其中从该像素阵列到 防眩光层的光学距离小于约0. 30mm。 本专利技术的第四方面是如前述方面中任一项所述的显示设备，其中通过防眩光层传 输的光的相调制的幅度是至少100皿。 本专利技术的第五是如前述方面中任一项所述的显示设备，还包括邻近所述像素基片 的滤色器基片和邻近该滤色器基片的偏振器基片，其中所述防眩光层设置在偏振器基片的 表面上。 本专利技术的第六方面如第五方面所述的显示设备，其中偏振器基片的厚度为约 0.lmm〇 本专利技术的第屯方面如第一到第四方面中任一项所述的显示设备，还包括设置在像 素阵列的表面上的滤色器基片和触敏层。 本专利技术的第八方面如第屯方面所述的显示设备，还包括盖板玻璃基片和在该盖 板玻璃基片表面上的减反射层。 本专利技术的第九方面如第屯方面所述的显示设备，还包括偏振器基片，其中触敏层 设置在滤色器基片或像素基片上，W及防眩光层设置在偏振器基片的外表面上。 本专利技术的第十方面是第九方面所述的显示设备，还包括盖板玻璃基片和设置在 该盖板玻璃基片外表面上的减反射层。 本专利技术的第十一方面是如前述方面中任一项所述的显示设备，其中防眩光层的 表面粗糖度由大于40ym的周期限定。 本专利技术的第十二方面是如前述方面中任一项所述的显示设备，其中像素阵列的 像素节距小于约120Jim。 本专利技术的第十=方面是如前述方面中任一项所述的显示设备，其中像素阵列的 像素节距是约80ym。 本专利技术的第十四方面是如前述方面中任一项所述的显示设备，其中防眩光层的 表面由提供楠圆功率谱密度（powerspectraldensity)的表面特征（feaUire)限定。 本专利技术的第十五方面如第十四方面所述的显示设备，其中楠圆功率谱密度具有 与像素阵列的色彩方向对齐的短轴。 本专利技术的第十六方面如第一到第十=方面中任一项所述的显示设备，其中防眩 光层的表面由非旋转对称表面特征限定。 本专利技术的第十屯方面如前述方面中任一项所述的显示设备，其中在防眩光玻璃 基片上提供防眩光层。 本专利技术的第十八方面是如前述方面中任一项所述的显示设备，其中像素阵列的 像素节距小于约120ym，且从像素基片到防眩光层的光学距离小于约0. 30mm。 本专利技术的第十九方面是显示设备，其包括具有像素阵列的像素基片和相对于像素 基片设置的防眩光层。所述防眩光层包括具有空间频率的表面粗糖度，从而防眩光层的典 型焦距至少为四倍像素阵列表面和防眩光层之间的光学距离，其中所述防眩光层的表面 特征是非旋转地对称的。显示设备还包括设置在像素阵列表面上的滤色器基片、触敏层和 偏振器基片。 本专利技术的第二十方面如第十九方面所述的显示设备，还包括邻近触敏层设置的 盖板玻璃基片和在盖板玻璃基片外表面上的减反射层。 本专利技术的第二十一方面如第十九或二十方面所述的显示设备，其中表面特征提 供楠圆功率谱密度，该楠圆功率谱密度具有与像素阵列的色彩方向对齐的短轴。 本专利技术的第二十二方面如第十九到二十一方面中任一项所述的显示设备，其中 像素阵列表面和防眩光层之间的光学距离小于约或等于0. 30mm。 本专利技术的第二十=方面是显示设备，其包括具有像素阵列的像素基片和相对于像 素基片设置的防眩光层，该防眩光层的表面粗糖度具有空间频率从而防眩光层的典型焦 距至少为四倍像素阵列表面和防眩光层之间的光学距离。 本专利技术的第二十四方面是显示设备，其包括具有像素阵列的像素基片和相对于像 素基片设置的防眩光层。所述防眩光层包括具有空间频率的表面粗糖度，从而防眩光层的 典型焦距至多为=分之一像素阵列表面和防眩光层之间的光学距离，W及功率谱密度防 眩光层具有环形形状。 在W下的详细描述中提出了本专利技术实施方式的其他特征和优点，其中的部分特征 和优点对本领域的技术人员而言，根据所作描述就容易看出，或者通过实施包括W下详细 描述、权利要求书W及附图在内的本文所述的本专利技术而被认识。 应理解，前面的一般性描述和W下的详细描述介绍了各种实施方式，用来提供理 解要求保护的主题的性质和特性的总体评述或框架。包括的附图提供了对各种实施方式的 进一步的理解，附图被结合在本说明书中并构成说明书的一部分。附图W图示形式说明了 本文所述的各种实施方式，并与说明书一起用来解释要求保护的主题的原理和操作。 附图简要说明 图IA示意性地显示显示设备的像素阵列； 图IB示意性地显示图IA所示的像素阵列的两个相邻像素的子像素； 图2示意性地显示非触敏显示设备的层；[003引 图3示意性地显示触敏显示设备的层； 图4是图像，显示IOXIOLCD像素中的闪耀； 图5示意性地显示单一单色点Pi来源，其撞击周期相板从而在靠近观察者的远场 产生交替的亮和暗区域； 图6图形化显示功率/像素偏差（"PPD")随粗糖度周期变化，假定无限小像素和 无限小眼睛瞳孔直径； 图7图形化显示PPD随A化/T2的变化，其中T是粗糖度周期，假定无限小像素 和无限小眼睛瞳孔直径； 图8图形化显示PPD随粗糖度周期变化，假定有限像素尺寸和无限小眼睛瞳孔直 径； 图9图形化显示PPD随粗糖度周期变化，假定有限像素尺寸和有限眼睛瞳孔直 径； 图IOA示意性地显示排布的显微透镜和像素，从而像素位于显微透镜的焦平面； 图IOB示意性地显示W-定本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显示设备，其包括：具有像素阵列的像素基片；和相对于该像素基片设置的防眩光层，所述防眩光层包括具有空间频率的表面粗糙度，从而所述防眩光层的典型焦距要么至少为四倍的像素阵列表面和防眩光层之间的光学距离,要么至少比像素阵列表面和防眩光层之间的光学距离小三倍。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：J·高里尔，JM·M·G·朱阿诺，G·A·皮尔驰，
申请(专利权)人：康宁股份有限公司，
类型：发明
国别省市：美国;US