一种投影装置及投影方法制造方法及图纸

技术编号:12424833 阅读:83 留言:0更新日期:2015-12-03 10:31
本发明专利技术公开了一种投影装置及投影方法,通过使用一个凸面镜扩大投影源投射出的光线所形成的光影效果。避免了复杂的光学系统结构,并且在反射过程中只经历了一次光线反射,从而使得光线畸变率降低。因此具有减少投影图像或投影后的光影效果的畸变,降低投影装置的光学系统复杂程度的技术效果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及电子
,特别是涉及。
技术介绍
目前,现有的光学系统微型投影设备为了增大投影面积,通常会采用如下两种技术手段:—种是使用具有放大功能的透镜装置,通过光线折射增大投影面积。然而该种技术往往会造成投影图像的畸变增大,投影图像和原始图像差别较大。并且由于光线折射的原因还会造成投影图像的清晰度降低。另一种是使用多个凸面镜装置,由于需要保证投影源的入射光宽度以及投影装置的宽度规格,因此现有技术中通常会采用多个凸面镜扩大光线反射角度从而增大投影面积。该技术在实施过程中所需要依赖的光学系统复杂,难于加工,并且由于多凸面镜造成了多次扩大光线反射角,从而使得投影图像的畸变增大,并且投影图像的清晰度和投影面积难以调节。可见,现有技术中的光学系统微型投影设备存在着投影图像畸变大,部件较多制作复杂的技术问题。
技术实现思路
本申请提供,用以解决现有技术中的光学系统微型投影设备存在着投影图像畸变大,部件较多制作复杂的技术问题。本申请一方面提供了一种投影装置,包括:投影源,用以投射成像光线,所述成像光线可投影形成一原始成像;凸面镜,用以反射所述成像光线形成第一反射光线,所述第一反射光线可投影形成第一放大成像,所述第一放大成像的成像面积大于所述原始成像的成像面积。可选地,所述装置还包括凹面镜,所述凹面镜设置于所述凸面镜的相对面,用以聚敛所述成像光线形成收敛光线;所述凸面镜,用以反射所述收敛光线形成所述第一反射光线。可选地,所述装置还包括:平面镜,设置于所述凸面镜的相对面,用以反射所述第一反射光线形成第二反射光线,所述第二反射光线可投影形成第二放大成像,所述第二放大成像的成像面积大于所述原始成像的成像面积。可选地,所述装置还包括处理器,所述处理器,用以控制所述凸面镜在所述成像光线和所述第一反射光线所在平面的方向上转动,以使所述第二放大成像的清晰度大于等于预定清晰阈值,和/或以使所述第二放大成像的成像面积大于等于预定成像面积。可选地,所述处理器,还用以控制所述平面镜在所述第一反射光线和所述第二反射光线所在平面的方向上转动,以使所述第二放大成像的清晰度大于等于预定清晰阈值,和/或以使所述第二放大成像的成像面积大于等于预定成像面积。另一方面,本申请实施例还提供了一种投影方法,包括:通过投影装置的投影源投射成像光线,所述成像光线可投影形成一原始成像;通过所述投影装置的凸面镜反射所述成像光线形成第一反射光线,其中,所述第一反射光线可投影形成第一放大成像,且所述第一放大成像的成像面积大于所述原始成像的成像面积。 可选地,所述方法还包括:通过所述投影装置中设置于所述凸面镜的相对面的凹面镜聚敛所述成像光线,形成收敛光线;通过所述凸面镜反射所述收敛光线形成所述第一反射光线。可选地,所述方法还包括:通过设置于所述凸面镜的相对面的平面镜反射所述第一反射光线形成第二反射光线;其中,所述第二反射光线可投影形成第二放大成像,所述第二放大成像的成像面积大于所述原始成像的成像面积。可选地,所述方法还包括:通过所述投影装置的处理器控制所述凸面镜在所述成像光线和所述第一反射光线所在平面的方向上转动,以使所述第二放大成像的清晰度大于等于预定清晰阈值,和/或以使所述第二放大成像的成像面积大于等于预定成像面积。可选地,所述方法还包括:通过所述处理器控制所述平面镜在所述第一反射光线和所述第二反射光线所在平面的方向上转动,以使所述第二放大成像的清晰度大于等于预定清晰阈值,和/或以使所述第二放大成像的成像面积大于等于预定成像面积。本申请实施例中提供的一个或多个技术方案,至少具有如下技术效果或优点:本申请实施例中的技术方案可以仅使用一个凸面镜扩大投影源投射出的光线所形成的光影效果。避免了复杂的光学系统结构,并且在反射过程中只经历了一次光线反射,从而使得光线畸变率降低。因此具有减少投影图像或投影后的光影效果的畸变,降低投影装置的光学系统复杂程度的技术效果。本申请实施例至少还具有如下技术效果或优点:进一步地,本申请实施例中的技术方案还可以通过在凸面镜的相对面设置凹面镜,从而先将光束较大的成像光线聚敛,再经规格较小的凸面镜进行放大,从而得到放大投影面积的投影成像或光影效果。因此,本申请实施例中的技术方案还具有提高适用性的技术效果。进一步地,本申请实施例中的技术方案还可以通过设置平面镜而实现对投影面积的微调式放大,因此具有进一步提高放大投影面积的技术效果。进一步地,本申请实施例中的技术方案还可以通过采用处理器控制凸面镜转动,从而改变成像光线在所述凸面镜上的入射角度。以此实现大幅度调整投影画面的投影面积和/或清晰度。并且,还可以通过采用处理器控制平面镜转动,从而改变成像光线在所述平面镜上的入射角度。以此实现小幅度调整投影画面的投影面积和/或清晰度。因此,本申请实施例中的技术方案还具有提高投影操作效率和进一步扩大适用性的技术效果。【附图说明】图1为本专利技术实施例提供的一种投影装置的结构图;图2为本专利技术实施例提供的一种投影方法的流程图。【具体实施方式】本申请提供,用以解决现有技术中的光学系统微型投影设备存在着投影图像畸变大,部件较多制作复杂的技术问题。本申请实施例中的技术方案为解决上述技术问题,总体思路如下:本申请实施例中的技术方案可以仅使用一个凸面镜扩大投影源投射出的光线所形成的光影效果。避免了复杂的光学系统结构,并且在反射过程中只经历了一次光线反射,从而使得光线畸变率降低。因此具有减少投影图像或投影后的光影效果的畸变,降低投影装置的光学系统复杂程度的技术效果。下面通过附图以及具体实施例对本申请技术方案做详细的说明,应当理解本申请实施例以及实施例中的具体特征是对本申请技术方案的详细的说明,而不是对本申请技术方案的限定,在不冲突的情况下,本申请实施例以及实施例中的技术特征可以相互组合。本文中术语“和/或”,仅仅是一种描述关联对象的关联关系,表示可以存在三种关系,例如,A和/或B,可以表示:单独存在A,同时存在A和B,单独存在B这三种情况。另夕卜,本文中字符“/”,一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。实施例一请参考图1,本申请实施例一提供一种投影装置,包括:投影源,用以投射成像光线,所述成像光线可投影形成一原始成像;凸面镜,用以反射所述成像光线形成第一反射光线,所述第一反射光线可投影形成第一放大成像,所述第一放大成像的成像面积大于所述原始成像的成像面积。所述投影源可以为一投影仪中的投影器,也可以为一电子设备的显示屏幕,还可以为采用激光、红外光或微波技术形成的可用以显示图像的光源。可见,所述投影源可以为多种形式的光影投放设备,只要是可以用以提供光源形成一图像或任何用户需要的光影效果的元件,则都可以作为所述投影源。所述凸面镜是指利用其相对于来源光为凸出形状的镜面,当来源光入射到该凸面镜上时,可以通过该凸面镜反射扩大来源光的反当前第1页1 2 3 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种投影装置,包括:投影源,用以投射成像光线,所述成像光线可投影形成一原始成像;凸面镜,用以反射所述成像光线形成第一反射光线,所述第一反射光线可投影形成第一放大成像,所述第一放大成像的成像面积大于所述原始成像的成像面积。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:程凯
申请(专利权)人:联想北京有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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