用于受控环境空气采样的控制中心制造技术

根据本发明专利技术的一方面，提供了一种用于在受控环境中多位置处进行空气采样的系统。该系统包括一个或更多个空气采样装置，其被设置用于监控及检测受控环境中一定体积的空气。控制中心包括可编程逻辑控制器(PLC)并被设置用于监控及控制一个或更多个空气采样装置。一个或更多个触摸式面板显示器与控制中心连接，在该控制中心与用户之间提供人机界面。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于监控空气污染物的装置及方法。尤其地，本专利技术涉及用于在受控环境中控制空气采样的基于可编程逻辑控制器的控制中心以及相应的人机界面。
技术介绍
生产制造、研究及其它设施中的洁净室，基于相对于大气压的室内空气静压和/或基于与洁净室相邻空间的气压，通常分为两大类。正气压室保持其绝对气压大于大气压，或大于与洁净室相邻空间的气压，或大于两者。这种洁净室的正气压是通过向室内栗入经过滤和/或经调节的空气以及控制流向室外的气流来提供的。相邻空间，可以是生产制造设施或办公室，通常是通过暖气、通风及空气调节(HVAC)系统，或者通过提供通往环境的开口以使相邻空间与大气压达到平衡而保持在大气压或接近大气压。这样，从正压洁净室流出的空气将流向气压较低的相邻空间或者流向大气。当正气压洁净室被破坏，只要洁净室中的空气污染物不会对相邻空间里的人造成潜在的健康危害，流向相邻空间或者大气的气体一般不会存在问题。通常，用于生产电子产品、航空航天装备、光学系统、军事装备或者进行国防相关研究的洁净室，其中的空气可能不会含有到达一定浓度的气体、蒸汽及微粒物质而对人体健康或者环境存在安全或健康威胁。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于在受控环境中多位置处进行空气采样的系统，包括：一个或更多个空气采样装置，其被设置用于在受控环境中监控及检测一定体积的空气；控制中心，包括可编程逻辑控制器(PLC)，并且被设置为监控及控制所述一个或更多个空气采样装置；以及连接至所述控制中心的一个或更多个触摸式面板显示器，用于在所述控制中心与用户之间提供人机界面。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：杰弗里·丘吉瓦拉，马克·菲利普斯，
申请(专利权)人：威尔泰克联合股份有限公司，
类型：发明
国别省市：美国;US