整发剂组合物制造技术

本发明专利技术提供一种在进行整发时可抑制剥落的发生和发粘、并且可以提高初期整发力和整发保持力的整发剂组合物。本发明专利技术的整发剂组合物包含选自由二氧化硅、碳酸钙、碳酸镁、羟基磷灰石、二氧化钛、氧化锌、硅酸钙、硅酸镁、硅酸铝以及氢氧化镁组成的组中的颗粒(成分(A))和泛醇(成分(B))，在本发明专利技术的整发剂组合物中，上述成分(A)的含量为0.1质量％以上10质量％以下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及整发剂组合物，其适合用于对毛发进行整理的整发剂。
技术介绍
为了整理毛发，使用液状、凝胶状、膏状和固体状等各种性状的整发剂组合物。以 往，为了对整发剂组合物赋予作为主要功能的整发力，多使用覆膜形成聚合物。在使用了覆 膜形成聚合物的整发剂组合物中，在整发后，源自覆膜形成聚合物而在毛发的表面形成覆 膜。因此，若混配覆膜形成聚合物作为主要整发成分，则刚整发后的初期整发力提高，但另 一方面难以以自然的状态对毛发进行整理，或者整发后用手或梳等对毛发进行刺激时，会 产生覆膜从毛发表面剥离的所谓剥落，具有外观变差等问题。 因此，对与使用覆膜形成聚合物的方法不同的方法进行了研究，具体地说，研究了 使用粉体来向整发剂组合物赋予整发力。例如，已知一种毛发化妆品（整发剂组合物），其 包含〇. 1质量％~10质量％的比表面积为50m2/g以上的微粒粉末（参见专利文献1)。在 专利文献1中记载了下述内容：通过以特定的上述含量使用特定的上述微粒粉末，可得到 良好的触感，可得到优异的整发力，并且可以使良好的触感长时间持续，并且可得到优异的 再整发性。 现有技术文献 专利文献 专利文献1 :日本特开2003-342130号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题 但是，如专利文献1中记载的那样，在使用包含微粒粉末的整发剂组合物进行整 发时，有时也会发生剥落。此外，存在要求更优异的初期整发力和整发保持力的现状。 本专利技术的目的在于提供一种在进行整发时可抑制剥落的发生和发粘、并且可以提 高初期整发力和整发保持力的整发剂组合物。 用于解决课题的方案 本专利技术的整发剂组合物为下述整发剂组合物，其包含下述成分（A)和下述成分 (B)，上述成分（A)的含量为0. 1质量％以上10质量％以下。 成分（A):选自由二氧化硅、碳酸钙、碳酸镁、羟基磷灰石、二氧化钛、氧化锌、硅酸 钙、硅酸镁、硅酸铝以及氢氧化镁组成的组中的颗粒 成分⑶：泛醇 上述成分⑶的含量优选为0. 1质量％以上20质量％以下。 本专利技术的整发剂组合物优选进一步包含下述成分（C)。 成分（C):选自由聚氧化烯烷基葡糖苷和聚氧化烯甘油脂肪酸酯组成的组中的化 合物 本专利技术的整发剂组合物优选进一步包含下述成分（D)。 成分⑶：粘土矿物 本专利技术的整发剂组合物优选进一步包含下述成分（E)。 成分（E):多糖系化合物 上述成分⑶的含量与上述成分（E)的含量的质量比优选为2 :1~10 :1。 成分（E):多糖系化合物 上述成分（D)与上述成分（E)的合计的含量优选为0.3质量％以上5质量％以下。 本专利技术的整发剂组合物优选进一步包含下述成分（F)。成分（F):聚乙二醇 专利技术的效果本专利技术的整发剂组合物包含特定的成分（A)和特定的成分（B)，进而成分（A)的含 量在特定的范围内，因此在整发时可以抑制剥落的发生和发粘，并且可以提高初期整发力 和整发保持力。【具体实施方式】 本专利技术的整发剂组合物至少包含选自由二氧化硅、碳酸钙、碳酸镁、羟基磷灰石、 二氧化钛、氧化锌、硅酸钙、硅酸镁、硅酸铝以及氢氧化镁组成的组中的颗粒和泛醇。本说明 书中，有时将上述"选自由二氧化硅、碳酸钙、碳酸镁、羟基磷灰石、二氧化钛、氧化锌、硅酸 钙、硅酸镁、硅酸铝以及氢氧化镁组成的组中的颗粒"称为"成分（A)"。另外，有时将上述 "泛醇"称为"成分（B)"。 本专利技术的整发剂组合物优选进一步包含选自由聚氧化烯烷基葡糖苷和聚氧化烯 甘油脂肪酸酯组成的组中的化合物。本说明书中，有时将上述"选自由聚氧化烯烷基葡糖苷 和聚氧化烯甘油脂肪酸酯组成的组中的化合物"称为"成分（C) "。另外，有时将上述"聚氧化 烯烷基葡糖苷"称为"成分（C1) "，有时将上述"聚氧化烯甘油脂肪酸酯"称为"成分（C2) "。 本专利技术的整发剂组合物优选进一步包含粘土矿物。本说明书中，有时将上述"粘土 矿物"称为"成分（D)"。 本专利技术的整发剂组合物优选进一步包含多糖系化合物。本说明书中，有时将上述 "多糖系化合物"称为"成分（E)"。 本专利技术的整发剂组合物优选进一步包含聚乙二醇。本说明书中，有时将上述"聚乙 二醇"称为"成分（F) "。 即，本专利技术的整发剂组合物至少包含成分（A)和成分（B)。本专利技术的整发剂组合物 优选进一步包含选自由成分（C)、成分（D)、成分（E)和成分（F)组成的组中的成分（至少 一种成分）。特别优选合用成分（D)和成分（E)。其中，本专利技术的整发剂组合物优选包含所 有成分（A)、成分（B)、成分（C)、成分（D)、成分（E)和成分（F)。本专利技术的整发剂组合物可 以进一步包含其他成分。上述成分、例如成分（A)、成分（B)、成分（C)、成分（D)、成分（E)、 成分（F)或其他成分分别可以仅使用1种，也可以使用2种以上。 需要说明的是，上述成分（C)为选自由成分（C1)和成分（C2)组成的组中的化合 物（至少一种化合物）。上述成分（C1)、成分（C2)分别可以仅使用1种，也可以使用2种 以上。 以下，对本专利技术的整发剂组合物中使用的各成分的详细情况进行说明。(成分（A)) 上述成分（A)为选自由二氧化硅、碳酸钙、碳酸镁、羟基磷灰石、二氧化钛、氧化 锌、硅酸钙、硅酸镁、硅酸铝以及氢氧化镁组成的组中的至少一种颗粒。上述成分（A)主要 具有抑制发粘、提高初期整发力和整发保持力的作用。另外，通过使用上述成分（A)，与使用 覆膜形成聚合物的情况相比，容易在一度整发后再次进行整发，可以提高再整发性。 作为上述成分（A)，其中优选二氧化硅、碳酸镁、羟基磷灰石、硅酸钙、硅酸镁、硅酸 铝、氢氧化镁，从整发性能的方面出发，更优选二氧化硅、硅酸镁、氢氧化镁。上述成分（A) 可以仅使用1种，也可以使用2种以上。〈二氧化硅〉 作为上述二氧化硅，可以使用公知惯用的二氧化硅（硅酸酐）。上述二氧化硅可以 为未经疏水化处理的硅酸酐（亲水性的二氧化硅），也可以为疏水化硅酸酐。另外，上述二 氧化硅也可以为用氨基酸、酯、卵磷脂等进行了表面处理的二氧化硅。另外，上述二氧化硅 也可以为所谓易崩解性二氧化硅颗粒。上述二氧化硅可以仅使用1种，也可以使用2种以 上。 上述疏水化硅酸酐为对硅酸酐（例如未处理的硅酸酐）进行了疏水化处理的物 质。作为疏水化处理中所用的处理剂，可以举出有机甲硅烷基化合物和硅酮化合物等。作为 上述有机甲硅烷基化合物，可以举出甲基三氯硅烷、二甲基二氯硅烷、三甲基氯硅烷、六甲 基^娃氣烧、甲基二烷氧基硅烷、^甲基^烷氧基硅烷、二甲基烷氧基硅烷、乙基二氣硅烷、 丙基三氯硅烷、己基三氯硅烷、长链烷基三氯硅烷、乙基三烷氧基硅烷、丙基三烷氧基硅烷、 己基二烷氧基硅烷、长链烷基二烷氧基硅烷、甲基丙稀酸硅烷、氣代烷基硅烷和全氣烷基娃 烷等。作为上述硅酮化合物，可以举出二甲基聚硅氧烷（硅油）、甲基苯基聚硅氧烷、甲基氢 聚硅氧烷和氨基改性硅酮等。作为上述疏水化处理的方法，没有特别限定，可以使用公知的 方法。作为上述疏水化处理的方法，例如可以举出液相法、气相法和高压釜法等。 作为上述疏水化硅酸酐的优选例，可以举出二甲基甲硅烷氧基化硅酸酐、三甲基 甲硅烷氧基化硅酸酐、辛基甲硅烷氧基化硅酸酐、硅油处理硅酸酐和甲基丙烯酸甲硅烷氧 基化硅酸酐等。 上述易崩解性二氧化硅颗粒是多个二氧本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种整发剂组合物，其包含下述成分(A)和下述成分(B)，所述成分(A)的含量为0.1质量％以上10质量％以下，成分(A)：选自由二氧化硅、碳酸钙、碳酸镁、羟基磷灰石、二氧化钛、氧化锌、硅酸钙、硅酸镁、硅酸铝以及氢氧化镁组成的组中的颗粒；成分(B)：泛醇。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：藤井范子，大野健刚，津村亚纱子，冈本将典，乃田一树，
申请(专利权)人：株式会社漫丹，
类型：发明
国别省市：日本;JP