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一种清洁面膜制造技术

技术编号:12065232 阅读:123 留言:0更新日期:2015-09-18 00:15
本发明专利技术公开一种清洁面膜,由下列质量份的组分组成:地榆20~50份、金银花20~50份、连翘10~30份、野菊花10~30份、冰片1~3份。各组分混合后进行磨粉即得到清洁面膜。本发明专利技术提供的清洁面膜具有控油、清洁毛孔、控痘等功效,适宜于喜食辛辣者、肥甘厚腻之品者以及肺胃蕴热、心火亢盛者。本发明专利技术的配方中使用敛疮消痈药消肿止痛以治标,使用清热解毒药清泻脏腑火热以治本。同时,通过清洁面膜控油和清洁毛孔的功效以达到预防和控制痤疮再生的效果。该清洁面膜具有见效快、效果明显、安全性高,制备方法简便等优点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种清洁面膜,属于化妆品

技术介绍
随着生活水平的提高,越来越多的人会习惯化妆,但是面部化妆后,如果不清除彻底,残留的化妆品会引起面部皮肤的毛孔阻塞,导致皮肤油脂水油分泌失调,从而引起痤疮、粉刺和黑头等令人困扰的肌肤问题。同时,现在环境污染又极其严重,灰尘及化妆品的残留对肌肤的伤害很大,如果不能及时清理干净,会随着毛孔的呼吸,进入毛囊中,形成囊肿的问题,长期存在于皮肤表层中便很难再清理出去,所以,皮肤的清洁环节十分重要。现有技术中的洁面面膜存在如下问题:卸妆步骤较多,不易使用,涂抹不均匀,清洁效果较差。
技术实现思路
为解决现有面膜清洁效果差等问题,本专利技术提供一种清洁面膜,以通过简单便捷的方法清洁皮肤。本专利技术通过下列技术方案实现:一种清洁面膜,由下列质量份的组分组成: 地榆20?50份、金银花20?50份、 连翘10?30份、野菊花10?30份、 冰片I?3份。所述清洁面膜通过下列方法制得: (1)按下列质量份的组分备料: 地榆20?50份、金银花20?50份、 连翘10?30份、野菊花10?30份、 冰片I?3份;(2)将步骤本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种清洁面膜,其特征在于由下列质量份的组分组成:地榆20~50份、       金银花20~50份、连翘10~30份、        野菊花10~30份、冰片1~3份。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:蔡锦瑜
申请(专利权)人:蔡锦瑜
类型:发明
国别省市:云南;53

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