【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种清洁面膜,属于化妆品
技术介绍
随着生活水平的提高,越来越多的人会习惯化妆,但是面部化妆后,如果不清除彻底,残留的化妆品会引起面部皮肤的毛孔阻塞,导致皮肤油脂水油分泌失调,从而引起痤疮、粉刺和黑头等令人困扰的肌肤问题。同时,现在环境污染又极其严重,灰尘及化妆品的残留对肌肤的伤害很大,如果不能及时清理干净,会随着毛孔的呼吸,进入毛囊中,形成囊肿的问题,长期存在于皮肤表层中便很难再清理出去,所以,皮肤的清洁环节十分重要。现有技术中的洁面面膜存在如下问题:卸妆步骤较多,不易使用,涂抹不均匀,清洁效果较差。
技术实现思路
为解决现有面膜清洁效果差等问题,本专利技术提供一种清洁面膜,以通过简单便捷的方法清洁皮肤。本专利技术通过下列技术方案实现:一种清洁面膜,由下列质量份的组分组成: 地榆20?50份、金银花20?50份、 连翘10?30份、野菊花10?30份、 冰片I?3份。所述清洁面膜通过下列方法制得: (1)按下列质量份的组分备料: 地榆20?50份、金银花20?50份、 连翘10?30份、野菊花10?30份、 冰片I ...
【技术保护点】
一种清洁面膜,其特征在于由下列质量份的组分组成:地榆20~50份、 金银花20~50份、连翘10~30份、 野菊花10~30份、冰片1~3份。
【技术特征摘要】
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