一种有机黄瓜种植方法技术

技术编号:11952407 阅读:95 留言:0更新日期:2015-08-26 20:47
本发明专利技术公开一种有机黄瓜种植方法,包括下述顺序的步骤:选择酸碱度在7.0-7.5之间,富含有机质、灌溉方便、保水保肥的偏粘性土壤,土壤施有机肥;土壤开沟陇,按横向株距1m、纵向株距0.8m密度栽种黄瓜幼苗,保持大棚温度在15-30℃;间隔10-15天给黄瓜藤修头,并将藤条头部吊起,定期放风。本发明专利技术提供酸碱度、有机肥、株距、温度的控制,以保证大棚温度稳定,促进黄瓜藤生长速度,同时将藤条头部吊起,使黄瓜能更好的透气,吊起后垂直生长,可以避免躺在土里生长造成一边黄一边青的情形,同时黄瓜不会变弯,使黄瓜整体品相好。

【技术实现步骤摘要】
【专利说明】
本专利技术属于农业种植领域,涉及一种有机黄瓜的种植方法。
技术介绍
黄瓜根主要集中0-30厘米,主根深可达I米。好气性强,抗寒、吸肥能力弱,栽培要浅,适于肥沃、疏松的土壤。根系形成层浅,易老化,苗期发生快,育苗时间不宜过长,定植要保护根系。黄瓜的茎粗细、颜色深浅和茎上的刺的硬度是植株长势强弱和产量高低的重要标志,一般茎粗0.6-1.2厘米,节间5-9厘米为宜。黄瓜幼苗期从第I真叶展开至第4-5片真叶展开,一般需要30天左右。此阶段开始花芽分化,但生长中心仍为根、茎、叶等营养器官;初花期从第4-5片真叶展开至第一个雌瓜坐瓜,大约需要20天左右,此时营养生长与生殖生长同时进行,生长中心逐步由营养生长转换为生殖生长,应该促控结合,促坐瓜控徒长;结瓜期从第一个雌坐瓜至拉秧,,持续时间因栽培方式不同而不同。此阶段植株生长速度减缓,以果实及花芽发育为中心。应供给充足的水肥,促进结瓜、防止早衰。大棚由于连年大量施入化肥,加上棚内高温促进地表水分大量蒸发,造成土壤矿质营养随水分上升累积于土壤表层,加上棚膜周年覆盖,室内土壤不受雨水冲淋,造成土壤次生盐渍化,长期积累地表的盐形成一层本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种有机黄瓜种植方法,其特征在于,包括下述顺序的步骤:(1)大棚土壤整理:选择酸碱度在7.0‑7.5之间,富含有机质、灌溉方便、保水保肥的偏粘性土壤,土壤施有机肥;  (2)栽种幼苗:土壤开沟陇,按横向株距1m、纵向株距0.8m密度栽种黄瓜幼苗,保持大棚温度在15‑30℃;(3)定植:苗龄30‑35天,株高12‑15cm,三至四叶一心时定植,定植后间隔5‑7天浇缓苗水;(4)田间管理:间隔10‑15天给黄瓜藤修头,并将藤条头部吊起,定期放风。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:许通
申请(专利权)人:六安市裕南春蔬果种植专业合作社
类型:发明
国别省市:安徽;34

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