一种可使布抛特定产品保持恒定抛光力的布抛机制造技术

一种可使布抛特定产品保持恒定抛光力的布抛机，包括一连接有底座的机体，该机体上设有布抛轮和带动布抛轮转动的驱动电机，该布抛机还包括一支撑于所述底座的支撑座，底座的底面及支撑座的上端面分别设有一个相互配合的倾斜面，底座的侧面设有一用于平衡上述机体及底座在倾斜面分力的气缸，该支撑座上还设有一驱动机体沿支撑座倾斜面上下移动的动力机构。该布抛机在进行一些特定产品（如椭圆形大工件）布抛时，通过使底座倾斜向上移动保证径向力与倾斜方向运动分力一致，从而保证抛光力恒定，使抛光产品抛光均匀，便于标准化生产。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及抛光领域，具体涉及一种可使布抛特定产品保持恒定抛光力的布抛机。
技术介绍
抛光是指利用机械、化学或电化学的作用，使工件表面粗糙度降低，以获得光亮、平整表面的加工方法。公开号为102145473A的中国专利技术专利是本申请人递交的申请，具体公开了一种可保持抛光力恒定的布抛机，包括连接有底座的机体、设于机体上的布抛轮、与布抛轮连接带动布抛轮转动的驱动电机、设于底座上与机体连接且带动机体沿布抛轮径向水平前后移动的伺服电机；所述驱动电机连接一控制该驱动电机的变频器，所述伺服电机连接一控制该伺服电机的驱动器，所述变频器及驱动器均与一 PLC控制系统连接。该结构的布抛机，通过控制驱动器，使伺服电机带动机体沿布抛轮径向水平前后移动，改变了以往布抛机随着使用时间越来越长而使得布抛轮半径减小导致抛光效果差的缺点，在抛光位置固定的情况下，通过自动调整布抛轮与抛光产品的相对位置使抛光力恒定，将抛光产品抛光均匀。但是，上述布抛机只能从径向上(即抛光点在正面)实现对小工件的抛光补偿，而对于一些椭圆形工件、扁圆形工件或者其他不规整曲面工件，其抛光点不在正面，而是偏上。以上布抛机就无法使这些工件保持恒定抛光力，为此，我们提供一种可使一些特殊产品保持恒定抛光力的布抛机。
技术实现思路
本技术提供一种可使布抛特定产品保持恒定抛光力的布抛机，以解决现有布抛机无法使一些抛光点不在正面的工件保持恒定抛光力等缺点。本技术所采用的技术方案是:一种可使布抛特定产品保持恒定抛光力的布抛机，包括一连接有底座的机体，该机体上设有布抛轮和带动布抛轮转动的驱动电机，该布抛机还包括一支撑于所述底座的支撑座，所述底座的底面及支撑座的上端面分别设有一个相互配合的倾斜面，所述底座的侧面设有一用于平衡上述机体及底座在所述倾斜面分力的气缸，该支撑座上还设有一驱动机体沿支撑座倾斜面上下移动的动力机构。具体地，上述布抛轮包括一抛磨端，上述支撑座的倾斜面由底部朝布抛轮的抛磨端所在侧面倾斜向上延伸设置。进一步地，上述动力机构包括一设于支撑座内的伺服电机，该伺服电机连接一控制该伺服电机的驱动器，上述驱动电机连接一控制该驱动电机的变频器，该驱动器及变频器均与一 PLC控制系统连接。更进一步地，上述伺服电机还连接一减速器，该减速器通过一丝杆与上述底座底部连接。再进一步地，上述底座与支撑座之间通过线性导轨连接。具体地，支撑座上端的倾斜面设有两条平行轨道，而底座底面则设有与平行轨道相适配的滑部。由上述对本技术结构的描述可知，和现有技术相比，本技术具有如下优点:该技术的布抛机，在机体底座下方设置一个支撑座，底座与支撑座均设有一个相互配合的斜面，底座通过一动力机构可沿着支撑座斜面上下移动，当该布抛机在进行一些特定产品(如椭圆形工件、扁圆形工件或者其他不规整曲面的大工件)时，随着布抛轮使用时间的增加，布抛轮半径因磨损减小，由于其抛光点在正面偏上位置，此时，需要使底座倾斜向上移动，自动调整布抛轮与抛光产品相对位置使抛光力恒定，使抛光产品抛光均匀，便于标准化生产。【附图说明】图1为本技术布抛机的结构示意图。图2为本技术布抛机底座与支撑座连接的结构示意图。图3为本技术布抛机的结构框图。【具体实施方式】下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。一种可使布抛特定产品保持恒定抛光力的布抛机，参照图1和图2，包括一连接有底座20的机体10，该机体10上设有布抛轮11和带动布抛轮11转动的驱动电机12。上述底座20的下方设有一支撑座30，底座20支撑于该支撑座30上，底座20的底面及支撑座30的上端面分别设有一个相互配合的倾斜面，该底座20倾斜朝下一端的侧面还设有一用于平衡机体10及底座20在倾斜面分力的气缸40，以使机体10及底座20可平稳地支撑于支撑座30上。参照图1和图2，上述布抛轮11包括一抛磨端111，支撑座30的倾斜面由底部朝布抛轮11的抛磨端111所在侧面倾斜向上延伸设置。支撑座30上还设有一驱动底座20沿支撑座30倾斜面上下移动的伺服电机31，该伺服电机31连接一控制该伺服电机31的驱动器32，上述驱动电机12连接一控制该驱动电机12的变频器13，该驱动器32及变频器13均与一 PLC控制系统50连接。参照图2和图3，上述伺服电机31还连接一减速器33，该减速器33通过一丝杆34与上述底座20底部连接。上述底座20与支撑座30之间通过线性导轨连接，具体地，支撑座30上端的倾斜面设有两条平行轨道301，而底座20底面则设有与平行轨道301相适配的滑部201。该布抛机在进行一些特定产品(如椭圆形工件、扁圆形工件或者其他不规整曲面的大工件)时，使底座20沿着支撑座30倾斜向上移动，自动调整布抛轮11与抛光产品相对位置使抛光力恒定。上述仅为本技术的【具体实施方式】，但本技术的设计构思并不局限于此，凡利用此构思对本技术进行非实质性的改动，均应属于侵犯本技术保护范围的行为。【主权项】1.一种可使布抛特定产品保持恒定抛光力的布抛机，包括一连接有底座的机体，该机体上设有布抛轮和带动布抛轮转动的驱动电机，其特征在于:该布抛机还包括一支撑于所述底座的支撑座，所述底座的底面及支撑座的上端面分别设有一个相互配合的倾斜面，所述底座的侧面设有一用于平衡所述机体及底座在所述倾斜面分力的气缸，该支撑座上还设有一驱动机体沿支撑座倾斜面上下移动的动力机构。2.如权利要求1所述的一种可使布抛特定产品保持恒定抛光力的布抛机，其特征在于:所述布抛轮包括一抛磨端，所述支撑座的倾斜面由底部朝布抛轮的抛磨端所在侧面倾斜向上延伸设置。3.如权利要求1所述的一种可使布抛特定产品保持恒定抛光力的布抛机，其特征在于:所述动力机构包括一设于所述支撑座内的伺服电机，该伺服电机连接一控制该伺服电机的驱动器，所述驱动电机连接一控制该驱动电机的变频器，所述驱动器及变频器均与一PLC控制系统连接。4.如权利要求3所述的一种可使布抛特定产品保持恒定抛光力的布抛机，其特征在于:所述伺服电机还连接一减速器，该减速器通过一丝杆与所述底座底部连接。5.如权利要求3所述的一种可使布抛特定产品保持恒定抛光力的布抛机，其特征在于:所述底座与支撑座之间通过线性导轨连接。6.如权利要求5所述的一种可使布抛特定产品保持恒定抛光力的布抛机，其特征在于:所述支撑座上端的倾斜面设有两条平行轨道，所述底座底面则设有与所述平行轨道相适配的滑部。【专利摘要】一种可使布抛特定产品保持恒定抛光力的布抛机，包括一连接有底座的机体，该机体上设有布抛轮和带动布抛轮转动的驱动电机，该布抛机还包括一支撑于所述底座的支撑座，底座的底面及支撑座的上端面分别设有一个相互配合的倾斜面，底座的侧面设有一用于平衡上述机体及底座在倾斜面分力的气缸，该支撑座上还设有一驱动机体沿支撑座倾斜面上下移动的动力机构。该布抛机在进行一些特定产品（如椭圆形大工件）布抛时，通过使底座倾斜向上移动保证径向力与倾斜方向运动本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种可使布抛特定产品保持恒定抛光力的布抛机，包括一连接有底座的机体，该机体上设有布抛轮和带动布抛轮转动的驱动电机，其特征在于：该布抛机还包括一支撑于所述底座的支撑座，所述底座的底面及支撑座的上端面分别设有一个相互配合的倾斜面，所述底座的侧面设有一用于平衡所述机体及底座在所述倾斜面分力的气缸，该支撑座上还设有一驱动机体沿支撑座倾斜面上下移动的动力机构。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈建团，黄建全，傅高升，
申请(专利权)人：福建长江工业有限公司，
类型：新型
国别省市：福建;35