一种水性自洁釉面涂料制造技术

本发明专利技术公开一种水性自洁釉面涂料，按照计量百分比计的物料组成：乳液50～60%，含羟基硅氧烷乳液20～30%，纳米耐沾污剂1～3%，纳米疏水剂2～8%，微晶蜡粉2～5%，成膜助剂2～10%，消泡剂0.1～2%，表面增滑剂0.1～2%，增稠剂0.2～3%，防霉剂0.1～0.2%，酸碱调节剂0.1～1%，去离子水3～10%，本发明专利技术具有的有益效果是采用添加硅氧烷乳液、纳米耐沾污剂，使墙体耐候性、耐擦洗、耐玷污性能大大提高；添加了纳米疏水剂和微晶蜡粉，使墙体涂层具有防水和疏水的功能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种水性涂料，尤其涉及一种水性自洁釉面涂料。
技术介绍
目前普通的外墙涂料的耐水性、耐候性、耐沾污性效果不明显，特别是受雨水、污水的影响较大。由于不同地区环境条件差异较大，对于一些重工业、旷野发达的城市，由于大气中灰尘及其他悬浮物质较多，会使易沾污涂层失去原有的装饰效果，从而影响建筑物的外貌。为此，特设计一种水性自洁釉面涂料。
技术实现思路
为克服上述不足，本专利技术提供了一种水性自洁釉面涂料本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是：一种水性自洁釉面涂料，其特征在于：按照计量百分比计的物料组成：乳液50～60%，含羟基硅氧烷乳液20～30%，纳米耐沾污剂1～3%，纳米疏水剂2～8%，微晶蜡粉2～5%，成膜助剂2～10%，消泡剂0.1～2%，表面增滑剂0.1～2%，增稠剂0.2～3%，防霉剂0.1～0.2%，酸碱调节剂0.1～1%，去离子水3～10%，其中所述的耐沾污剂为NZW-I，所述的消泡剂为TEGO902W，所述的表面增滑剂为BYK333，所述的增稠剂为PUR40，防霉剂为THORMV。所述的乳液及含羟基硅氧烷乳液为JL-13、ACRONAL LRO80、JONCRYL8300、NEOCRYL XK-110中的一种或两种。所述的纳米疏水剂为SS-I型或SS-II型。所述的微晶蜡粉为DEUREX MAF7520D、BESTOWAX X4118中的一种。所述的成膜助剂为Texanol、DPNB、丙二醇、二丙二醇单醚中的一种到三种。所述的酸碱调节剂为AMP－95或磷酸二氢钠、磷酸二氢铵、碳酸氢钠中的一种以上物料。本专利技术根据特殊工艺添加了纳米耐沾污剂，在涂膜成膜过程中，纳米粒子起到铰链点作用，把线型的有机高分子铰链成网状结构，提高涂膜表面强度，通过降低涂膜的孔隙尺寸，提高涂膜平整度。通过降低涂膜电荷，减少大气灰尘的吸附，以及综合效果使涂膜具备良好的自洁性，提高涂料的耐沾污性能。而添加了纳米疏水剂及微晶蜡粉，使涂膜具有疏水和防水的微观结构，类似釉面效果，宏观则表现为类似荷叶般的疏水效果，有效保护漆膜，减少自然因素对涂层的破坏。具体实施方式：本专利技术提供一种水性自洁釉面涂料，按照计量百分比计的物料组成：乳液50～60%，含羟基硅氧烷乳液20～30%，纳米耐沾污剂1～3%，纳米疏水剂2～8%，微晶蜡粉2～5%，成膜助剂2～10%，消泡剂0.1～2%，表面增滑剂0.1～2%，增稠剂0.2～3%，防霉剂0.1～0.2%，酸碱调节剂0.1～1%，去离子水3～10%，其中耐沾污剂为NZW-I，消泡剂为TEGO902W，表面增滑剂为BYK333，增稠剂为PUR40，防霉剂为THOR MV，乳液及含羟基硅氧烷乳液为JL-13、ACRONAL LRO80、JONCRYL8300、NEOCRYL XK-110中的一种或两种，纳米疏水剂为SS-I型或SS-II型，微晶蜡粉为DEUREX MAF7520D、BESTOWAX X4118中的一种，成膜助剂为Texanol、DPNB、丙二醇、二丙二醇单醚中的一种到三种，酸碱调节剂为AMP－95或磷酸二氢钠、磷酸二氢铵、碳酸氢钠中的一种以上物料。下面通过实施例来进一步阐述本专利技术，其目的只在更好的理解本专利技术而并非对专利技术做进一步的限定，凡与专利技术的技术方案相同或等同的内容均落入本发明之保护范围。实施例1，按照以下计量百分比计的物料：乳液：50%含羟基硅氧烷乳液：30%纳米耐沾污剂：3%纳米疏水剂：3%微晶蜡粉：3%成膜助剂：5%消泡剂：0.5%表面增滑剂：0.5%增稠剂：0.3%防霉剂：0.1%酸碱调节剂：0.2%去离子水：4.4%其中乳液及含羟基硅氧烷乳液为JL-13、ACRONAL LRO80、JONCRYL8300、NEOCRYL XK-110中的一种或两种；耐沾污剂为NZW-I；纳米疏水剂为SS-I型或SS-II型；微晶蜡粉为DEUREX MAF7520D、BESTOWAX X4118中的一种；成膜助剂为Texanol、DPNB、丙二醇、二丙二醇单醚中的一种到三种；酸碱调节剂为AMP－95或磷酸二氢钠、磷酸二氢铵、碳酸氢钠中的一种以上物料；消泡剂为TEGO902W、表面增滑剂为BYK333、增稠剂为PUR40、防霉剂为THOR MV。按照顺序加入乳液、含羟基硅氧烷乳液、成膜助剂，再加入纳米耐沾污剂、纳米疏水剂、酸碱调节剂、微晶蜡粉、消泡剂、表面增滑剂、防霉剂、增稠剂及去离子水于容器里搅拌，后过滤包装。实施例2，按照以下计量百分比计的物料：乳液：55%含羟基硅氧烷乳液：25%纳米耐沾污剂：3%纳米疏水剂：4%微晶蜡粉：3%成膜助剂：4%消泡剂：0.5%表面增滑剂：0.5%增稠剂：0.3%防霉剂：0.1%酸碱调节剂：0.2%去离子水：4.4%其中乳液及含羟基硅氧烷乳液为JL-13、ACRONAL LRO80、JONCRYL8300、NEOCRYL XK-110中的一种或两种；耐沾污剂为NZW-I；纳米疏水剂为SS-I型或SS-II型；微晶蜡粉为DEUREX MAF7520D、BESTOWAX X4118中的一种；成膜助剂为Texanol、DPNB、丙二醇、二丙二醇单醚中的一种到三种；酸碱调节剂为AMP－95或磷酸二氢钠、磷酸二氢铵、碳酸氢钠中的一种以上物料；消泡剂为TEGO902W、表面增滑剂为BYK333、增稠剂为PUR40、防霉剂为THOR MV。按照顺序加入乳液、含羟基硅氧烷乳液、成膜助剂，再加入纳米耐沾污剂、纳米疏水剂、酸碱调节剂、微晶蜡粉、消泡剂、表面增滑剂、防霉剂、增稠剂及去离子水于容器里搅拌，后过滤包装。实施例3，按照以下计量百分比计的物料：乳液：60%含羟基硅氧烷乳液：20%纳米耐沾污剂：3%纳米疏水剂：2%微晶蜡粉：2%成膜助剂：6%消泡剂：0.5%表面增滑剂：0.5%增稠剂：0.3%防霉剂：0.1%酸碱调节剂：0.2%去离子水：5.4%乳液及含羟基硅氧烷乳液为JL-13、ACRONAL LRO80、JONCRYL8300、NEOCRYL XK-110中的一种或两种；耐沾污剂为NZW-I；纳米疏水剂为SS-I型或SS-II型；微晶蜡粉为DEUREX MAF7520D、B ESTOWAX X4118中的一种；成膜助剂为T本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种水性自洁釉面涂料，其特征在于：按照计量百分比计的物料组成：乳液50～60%，含羟基硅氧烷乳液20～30%，纳米耐沾污剂1～3%，纳米疏水剂2～8%，微晶蜡粉2～5%，成膜助剂2～10%，消泡剂0.1～2%，表面增滑剂0.1～2%，增稠剂0.2～3%，防霉剂0.1～0.2%，酸碱调节剂0.1～1%，去离子水3～10%，其中所述的耐沾污剂为NZW‑I，所述的消泡剂为TEGO902W，所述的表面增滑剂为BYK333，所述的增稠剂为PUR40，防霉剂为THOR MV。

【技术特征摘要】
1.一种水性自洁釉面涂料，其特征在于：按照计量百分比计的物料组
成：乳液50～60%，含羟基硅氧烷乳液20～30%，纳米耐沾污剂1～3%，
纳米疏水剂2～8%，微晶蜡粉2～5%，成膜助剂2～10%，消泡剂0.1～2%，
表面增滑剂0.1～2%，增稠剂0.2～3%，防霉剂0.1～0.2%，酸碱调节剂
0.1～1%，去离子水3～10%，其中所述的耐沾污剂为NZW-I，所述的消泡
剂为TEGO902W，所述的表面增滑剂为BYK333，所述的增稠剂为PUR40，
防霉剂为THOR MV。
2.根据权利要求1所述的一种水性自洁釉面涂料，其特征在于：所述
的乳液及含羟基硅氧烷乳液为JL-13、ACRONAL LRO80、JONCR...

【专利技术属性】
技术研发人员：王志坚，
申请(专利权)人：漳州水之采环保科技有限公司，
类型：发明
国别省市：福建;35