多端口射频元件的量测方法技术

一种多端口射频元件的量测方法，应用于多端口射频元件量测系统中多端口开关盒的校正，主要利用网络分析仪的量测端口间内部很高的隔离度，及多端口开关盒的两量测端口间内部很高的隔离度，使得EXF及EXR两个参数可以被忽略，并重复使用多端口开关盒各端口校正参数，以大幅减少多端口开关盒的双端口校正次数。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是有关一种，特别是针对多端口射频元件量测系统中的多端口开关盒校正方法予以改进，提供一种可以降低多端口开关盒的双端口校正次数方法。
技术介绍
射频元件(如:基地台天线)在出厂前，必须进行性能的量测(如:反射系数Sll及穿透系数S21等参数的量测)，能在使用时发挥性能，以达到最佳的使用效能。如图1所示，为一多端口射频元件10的量测系统，该量测系统至少包含有一网络分析仪20及多端口开关盒30 ;其中，多端口射频元件10的端口数为n，多端口开关盒30的端口数为m。如图2所示，为一完整的多端口射频元件10的双端口校正参数图；在量测多端口射频元件10的反射系数Sll及穿透系数S21等参数前,必须先对多端口开关盒30进行双端口校正，以得到 EDF、ESF、ERF、EDR、ESR、ERR、ELF、ELR、ETF、ETR、EXF、EXR 等 12 个校正参数；其中，图2所示参数图的S11A、S22A、S21A、S12A为多端口射频元件10的量测值，其是经由网络分析仪 20 内部量测值 S11M、S22M、S21M、S12M 与 EDF、ESF、ERF、EDR、ESR、ERR、ELF、ELR、ETF, ETR、EXF, EXR等12个校正参数进行运算所得到。但，在进行上述量测过程中，为求正确的量测及准确的量测出多端口射频元件10参数值，必须事先对多端口开关盒30的任意两端口进行双端口校正，因此当多端口开关盒30的端口数为m时，必须进行/ 2次数的双端口校正，例如当多端口开关盒30的端口数m=12时，则必须进行12* (12-1) / 2=66次数的双端口校正；由是，目前多端口开关盒30的双端口校正相当繁复费时。
技术实现思路
为改善上述目前，针对多端口开关盒的双端口校正方法予以改进，而提供一种，其可以降低多端口开关盒的双端口校正次数。本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是:一种，主要是利用网络分析仪的量测端口间内部很高的隔离度，及多端口开关盒的量测端口间内部很高的隔离度，使得EXF及EXR两个参数可以被忽略，并重复使用多端口开关盒的各端口校正参数，以大幅减少多端口开关盒的双端口校正次数。本专利技术的有益效果是，其可以降低多端口开关盒的双端口校正次数。【附图说明】下面结合附图和实施例对本专利技术进一步说明。图1是用以量测多端口射频元件的系统示意图。图2是多端口射频元件的完整双端口校正参数图。图3是本专利技术简化后的双端口校正参数图。图4是本专利技术简化后的各端口校正参数图。图中标号说明:10多端口射频元件20网络分析仪30多端口开关盒【具体实施方式】为能更清楚的了解本专利技术为达到目的所运用的技术手段及其方法，兹谨再配合图3所示简化后多端口开关盒的双端口校正参数图及射频量测流程图，及图4所示简化后多端口开关盒的两量测端口校正参数图，详细说明如下:如图3所示，本专利技术，是针对多端口开关盒30的双端口校正方法予以改进，提供一种可以降低多端口开关盒30的双端口校正次数方法，其方法主要是利用网络分析仪20的量测端口间内部很高的隔离度，及多端口开关盒30的两量测端口间内部很高的隔离度，使得EXF及EXR两个参数可以被忽略，并重复使用多端口开关盒30各端口校正参数，以大幅减少多端口开关盒30的双端口校正次数。如图4所示，为本专利技术简化后多端口开关盒30的量测端口校正参数图，当共同属于Port J与Port K量测端口的EXF及EXR两个参数被拿掉后，进一步将剩下的EDJ、ERJ、ESJ、EU、ETJ、EDK、ERK、ESK、ELK、ETK等校正参数各自归属于多端口开关盒30的两量测端口 Port J、Port K。其中，EDJ、ERJ、ESJ、ELJ、ETJ等校正参数归属于多端口开关盒30的量测端口 PortJ，EDK、ERK、ESK、ELK、ETK等参数归属于多端口开关盒30的量测端口 Port K ;当属于PortJ的EDJ、ERJ、ESJ、ELJ、ETJ等参数与Port K以外的其它端口组成双端口时，若多端口开关盒30的量测端口 Port J内部硬件路径相同时，便可直接用于校正运算，不需做双端口校正，而可节省双端口校正的次数，当属于Port K的EDK、ERK、ESK、ELK、ETK等参数与Port K内部硬件路径相同时，同样的可直接用于与其它端口校正运算。经由上述的方法，例如原本端口数n=12的射频元件10必须进行66次多端口开关盒30的双端口校正，可大幅降低至只须做11次多端口开关盒30的双端口校正，其中有5次是因同一端口会因多端口开关盒30内部硬件路径不同，需额外做双端口校正。举例来说，当多端口开关盒30的双端口(X，y)进行量测校正时，该端口(X)经由多端口开关盒30内部硬件电路连到网络分析仪20的量测端口 Portl，该端口(y)经由多端口开关盒30内部硬件电路连到网络分析仪20的量测端口 Port2 ;因此，若多端口开关盒30的端口数为12时，其以双端口(1，2)、(3,4), (5,6), (7,8), (9,10), (11，12)的方式与网络分析仪20连结共作6次多端口开关盒30的双端口校正；而由于多端口开关盒30内部硬件路径的不同，该第2、4、6、8、10端口并未与网络分析仪20的Portl连结作校正，第3、5、7、9、11端口并未与网络分析仪20的Port2连结作校正，所以必须再以双端口 (2,3), (4,5), (6,7), (8,9), (10，ID的方式与网络分析仪20连结额外作5次多端口开关盒30的双端口校正，始可完成足够的校正；同时，借由上述量测方法可作多端口开关盒30任意两端口间的校正运算，如第(2，7)、(1,5), (10，12)等任意两端口的校正运算，而不仅限于相邻两端口间的校正运算，因此可满足多端口开关盒30任意两端口间的运算所需。由是，如上述的量测方法，该端口数为12的多端口开关盒30，本专利技术仅需作11次的双端口校正，相较于现有量测方法须作66次的双端口校正，大幅减少量测校正次数。由是，本专利技术确可大幅减少多端口开关盒的双端口校正次数；因此，本专利技术在结构设计、使用实用性及成本效益上，完全符合产业发展所需，且所揭示的结构亦是具有前所未有的创新构造，具有新颖性、创造性、实用性，符合有关专利技术专利要件的规定，故依法提起申请。以上所述，仅是本专利技术的较佳实施例而已，并非对本专利技术作任何形式上的限制，凡是依据本专利技术的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本专利技术技术方案的范围内。【主权项】1.一种，其特征在于，应用于多端口射频元件量测系统中多端口开关盒的校正，主要利用网络分析仪的量测端口间内部很高的隔离度，及多端口开关盒的两量测端口间内部很高的隔离度，使得EXF及EXR两个参数可以被忽略，并重复使用多端口开关盒各端口校正参数，以大幅减少多端口开关盒的双端口校正次数。【专利摘要】一种，应用于多端口射频元件量测系统中多端口开关盒的校正，主要利用网络分析仪的量测端口间内部很高的隔离度，及多端口开关盒的两量测端口间内部很高的隔离度，使得EXF及EXR两个参数可以被忽略，并重复使用多端口开关盒各端口校正参数，以大幅减少多端口开关盒的双端口校正次数。【IPC分类】H04B17-15,本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种多端口射频元件的量测方法，其特征在于，应用于多端口射频元件量测系统中多端口开关盒的校正，主要利用网络分析仪的量测端口间内部很高的隔离度，及多端口开关盒的两量测端口间内部很高的隔离度，使得EXF及EXR两个参数可以被忽略，并重复使用多端口开关盒各端口校正参数，以大幅减少多端口开关盒的双端口校正次数。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李道根，
申请(专利权)人：梅尔根电子有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71