【技术实现步骤摘要】
一种腔室清洁装置及其控制方法
本专利技术涉及显示
,尤其涉及一种腔室清洁装置及其控制方法。
技术介绍
TFT-LCD(ThinFilmTransistorLiquidCrystalDisplay,薄膜晶体管-液晶显示器)作为一种平板显示装置,因其具有体积小、功耗低、无辐射以及制作成本相对较低等特点,而越来越多地被应用于高性能显示领域当中。TFT-LCD由阵列基板和彩膜基板构成。现有TFT-LCD的制造工艺主要包括四个阶段,分别为彩色滤光片制备、Array(阵列基板制造)工艺、Cell(液晶盒制备)工艺以及Module(模块组装)工艺。作为TFT-LCD生产的一个重要环节,Array工艺通常是在一张玻璃基板上形成独立的TFT阵列电路,每个阵列电路分别对应一个显示像素。具体的,可以先在上述玻璃基板上形成一层薄膜层,并在薄膜层的表面涂覆一层光刻胶,然后通过掩膜曝光、显影以及刻蚀工艺对上述薄膜层进行图案化处理。其中,掩膜曝光工艺是将形成有薄膜层和光刻胶的基板置于曝光机中,将掩模板置于上述基板靠近光源的一侧,光源通过掩模板对光刻胶进行区域化曝光。然而在实际生产过程中,会因为曝光机内部清洁度不够,而导致掩模板污染。由于掩模板的图案是按照1:1的比例转写到基板上,掩模板上的缺陷在曝光转写后很容易引起薄膜图案的缺陷,从而影响产品的可靠性或者导致产品的优良率下降。现有技术中,一般采用人工对曝光机腔室内部进行清洁维护。这样一来,工作人员进入曝光机腔室内部的同时,其自身会将一些微粒带入曝光机中,从而降低了清洁效果。并且人工清洁维护的效率低,降低了产品的稼动率。此外,还可以 ...
【技术保护点】
一种腔室清洁装置,用于对腔室进行清洁,其特征在于,包括用于提供控制信号的控制器、供给设备,以及设置于所述腔室内部的清洁轨道;所述供给设备通过输送入口与所述清洁轨道的起始端相连接,并通过输送出口与所述清洁轨道的末端相连接;所述供给设备设置有第一工位和第二工位,所述第一工位与所述输送入口相对应,所述第二工位与所述输送出口相对应;所述供给设备包括至少两个卷轴,以及部分位于所述清洁轨道上的清洁布,位于所述第一工位的卷轴与所述清洁布的一端相连接,用于将所述清洁布从所述输送入口传送至所述清洁轨道上,位于所述第二工位的卷轴与所述清洁布的另一端相连接,用于将穿过所述输送出口的清洁布进行收集。
【技术特征摘要】
1.一种腔室清洁装置,用于对腔室进行清洁,其特征在于,包括用于提供控制信号的控制器、供给设备,以及设置于所述腔室内部的清洁轨道;所述供给设备通过输送入口与所述清洁轨道的起始端相连接,并通过输送出口与所述清洁轨道的末端相连接;所述供给设备设置有第一工位和第二工位,所述第一工位与所述输送入口相对应,所述第二工位与所述输送出口相对应;所述供给设备包括至少两个卷轴,以及部分位于所述清洁轨道上的清洁布,位于所述第一工位的卷轴与所述清洁布的一端相连接,用于将所述清洁布从所述输送入口传送至所述清洁轨道上,位于所述第二工位的卷轴与所述清洁布的另一端相连接,用于将穿过所述输送出口的清洁布进行收集;所述供给设备还包括环形的供给导轨;所述第一工位和所述第二工位设置于所述供给导轨上;所述卷轴安装于所述供给导轨上,并在所述控制器的控制下,沿所述供给导轨进行移动。2.根据权利要求1所述的腔室清洁装置,其特征在于,还包括还原设备;所述还原设备内设置有还原导轨,所述还原导轨通过还原入口和还原出口与所述供给导轨相连接;所述还原设备用于对位于所述还原导轨上的清洁布进行还原处理。3.根据权利要求2所述的腔室清洁装置,其特征在于,所述供给设备还包括卷轴驱动部件,用于接收所述控制器的控制信号,并驱动所述卷轴沿所述供给导轨和所述还原导轨移动。4.根据权利要求1所述的腔室清洁装置,其特征在于,所述供给设备还包括第一更换单元和第二更换单元;所述第一更换单元设置于所述输送入口与所述第一工位之间,用于将相邻两卷所述清洁布的末端和起始端相连接;所述第二更换单元设置于所述输送出口与所述第二工位之间,用于将相连接的两卷所述清洁布的末端与起始端分开;或用于将所述输送出口处的清洁布的起始端与位于所述第二工位的未安装清洁布的卷轴相连接。5.根据权利要求1所述的腔室清洁装置,其特征在于,所述清洁轨道包括至少一个位置调节器,所述位置调节器沿预设轨迹分布于所述腔室内部;所述位置调节器包括沿竖直方向设置的竖直调节部件、沿水平方向设置的水平调节部件以及沿竖直方向设置的,用于支撑所述清洁布的导向部件;所述竖直调节部件与所述水平调节部件通过与沿竖直方向设置的第一转轴相连接,所述第一转轴用于带动所述水平调节部件以所述竖直调节部件为中心进行旋转;所述竖直调节部件在竖直方向上的长度可调,所述水平调节部件在水平方向上的长度可调;所述导向部件通过沿竖直方向设置的第二转轴与所述水平调节部件相连接,在所述第二转轴的带动下进行旋转。6.根据权利要求5所述的腔室清洁装置,其特征在于,所述竖直调节部件或所述水平调节部件的长度调节范围为0.1m~3m。7.根据权利要求1所述的腔室清洁装置,其特征在于,还包括至少一个检测器,用于对所述清洁轨道上的清洁布的吸附饱和量进行检测,当所述吸附饱和量达到所述检测器的设定阈值时,向所述控制器发送预警信号。8.一种腔室清洁装置的控制方法,用于控制如权利要求1-7任一项所述的腔室清洁装置的方法,其特征在于,所述方法包括:将第一卷轴位于第一工位,第二卷轴位于第二工位;将所述第一卷轴上的第一清洁布的起始端与所述第二卷轴相连接;其中,所述第一清洁布的末端与所述第一卷轴相连接;所述第一卷轴进行旋...
【专利技术属性】
技术研发人员:胡瑾,孟祥明,节昌凯,
申请(专利权)人:合肥京东方光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司,
类型:发明
国别省市:安徽;34
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