摄像设备和控制摄像设备的方法技术

提供摄像设备和控制摄像设备的方法。摄像设备包括：摄像单元；计算单元，用于计算来自被摄体的光的光量变化特性；测光值确定单元，用于基于所述计算单元所计算出的光量变化特性，确定用于确定曝光条件所使用的测光值；以及曝光条件确定单元，用于基于通过所述测光值确定单元所确定的测光值，确定在基于通过所述计算单元所计算出的光量变化特性所设置的定时进行所述摄像单元的曝光时的曝光条件。

【技术实现步骤摘要】
摄像设备和控制摄像设备的方法
本专利技术涉及一种以数字照相机为代表的摄像设备，尤其涉及用于对拍摄时发生的、由荧光灯等所引起的外部光变化(一般称为闪烁)所导致的曝光不均匀进行校正的技术。
技术介绍
当在闪烁光源下使用摄像设备进行拍摄时，在快门释放之前所要进行的测光操作出现下面的问题：由于测光传感器受到闪烁的影响，因而测光结果不稳定。为了解决这一问题，将测光传感器的积累时间控制成闪烁的发射周期的整数倍，或者以预定时间间隔间歇地进行积累。这使得即使在闪烁环境下，也能够进行平均亮度的稳定测光。另一方面，随着近年来数字照相机的灵敏度的提高，即使在导致闪烁的人造光源下，照相机也能够进行高速快门的拍摄。在室内运动拍摄等时，高快门速度拍摄具有能够拍摄无模糊的照片的优点。另一方面，在闪烁光源下的高快门速度拍摄时，由于闪烁的影响，每帧的图像有时发生亮度和色温的变化。为了解决这一问题，日本特开平6-209427和日本特开2006-222935公开了这样一种技术：通过检测闪烁、以及在亮度变化最少的闪烁的峰值位置进行曝光，来降低闪烁的影响。然而，日本特开平6-209427和日本特开2006-222935所公开的技术是基于进行运动图像拍摄这一前提。在拍摄静止图像的情况下，在相同的峰值位置进行曝光时，释放时滞根据闪烁的定时而增大。在允许用户选择是否进行峰值位置拍摄的情况下，拍摄的最佳曝光条件根据是否进行闪烁峰值位置拍摄而变化。图18示出在使用商业电源(50Hz)时所导致的闪烁环境下的一般测光输出。在闪烁的峰值处所获得的测光值AE_peak和平均测光值AE_ave之间存在测光差异。为此，在上述基于AE_ave计算的曝光条件下进行峰值位置拍摄时，产生的照片被过曝光了Δ。
技术实现思路
考虑到上述问题做出本专利技术，并且本专利技术提供一种不管是否存在闪烁光源、都能够以适当曝光进行拍摄的摄像设备。根据本专利技术的第一方面，提供一种摄像设备，其包括：摄像单元；计算单元，用于计算来自被摄体的光的光量变化特性；测光值确定单元，用于基于所述计算单元所计算出的光量变化特性，确定用于确定曝光条件所使用的测光值；以及曝光条件确定单元，用于基于所述测光值确定单元所确定的测光值，确定在基于所述计算单元计算出的光量变化特性所设置的定时进行所述摄像单元的曝光的情况下的曝光条件。根据本专利技术的第二方面，提供一种摄像设备，其包括：摄像单元；设置单元，用于设置所述摄像单元的曝光时间；计算单元，用于计算来自被摄体的光的光量变化特性；测光值确定单元，用于基于所述设置单元所设置的曝光时间，确定用于确定曝光条件所使用的测光值；以及曝光条件确定单元，用于基于所述测光值确定单元所确定的测光值，确定在基于所述计算单元计算出的光量变化特性所设置的定时进行所述摄像单元的曝光的情况下的曝光条件。根据本专利技术的第三方面，提供一种摄像设备，其包括：摄像单元；计算单元，用于计算来自被摄体的光的光量变化特性；以及确定单元，用于确定曝光条件，其中，所述确定单元确定第一曝光条件和第二曝光条件，以使得所述第一曝光条件导致相比所述第二曝光条件较大的曝光不足，其中，所述第一曝光条件在基于所述计算单元所计算出的光量变化特性所设置的定时开始曝光的第一模式下使用，所述第二曝光条件在与所述第一模式相比、从曝光指示操作到开始曝光的等待时间较短的第二模式下使用。根据本专利技术的第四方面，提供一种用于控制包括摄像单元的摄像设备的方法，所述方法包括以下步骤：计算步骤，用于计算来自被摄体的光的光量变化特性；测光值确定步骤，用于基于在所述计算步骤中所计算出的光量变化特性，确定用于确定曝光条件所使用的测光值；以及曝光条件确定步骤，用于基于在所述测光值确定步骤中所确定的测光值，确定在基于在所述计算步骤中所计算出的光量变化特性所设置的定时进行所述摄像单元的曝光的情况下的曝光条件。根据本专利技术的第五方面，提供一种用于控制包括摄像单元的摄像设备的方法，所述方法包括以下步骤：设置步骤，用于设置所述摄像单元的曝光时间；计算步骤，用于计算来自被摄体的光的光量变化特性；测光值确定步骤，用于基于在所述设置步骤中所设置的曝光时间，确定用于确定曝光条件所使用的测光值；以及曝光条件确定步骤，用于基于在所述测光值确定步骤中所确定的测光值，确定在基于在所述计算步骤中所计算出的光量变化特性所设置的定时进行所述摄像单元的曝光的情况下的曝光条件。根据本专利技术的第六方面，提供一种用于控制包括摄像单元的摄像设备的方法，所述方法包括以下步骤：计算步骤，用于计算来自被摄体的光的光量变化特性；以及确定步骤，用于确定曝光条件，其中，在所述确定步骤中，确定第一曝光条件和第二曝光条件，以使得所述第一曝光条件导致相比所述第二曝光条件较大的曝光不足，其中，所述第一曝光条件在基于在所述计算步骤中计算出的光量变化特性所设置的定时开始曝光的第一模式下使用，所述第二曝光条件在与所述第一模式相比、从曝光指示操作到开始曝光的等待时间较短的第二模式下使用。通过(参考附图)对典型实施例的以下说明，本专利技术的其它特征将变得明显。附图说明图1A和1B分别是示出根据本专利技术实施例的数字单镜头反光照相机的剖视图和顶视图；图2是示出根据实施例的照相机的操作的流程图；图3是根据实施例的程序图；图4A和4B是表示闪烁检测操作时的测光输出的图；图5A和5B是用于说明闪烁的峰值测光值和计算相应定时的方法的图；图6是示出根据本专利技术实施例的摄像设备的结构的示意图；图7是示出利用根据第一实施例的摄像设备进行降低闪烁的影响的拍摄时的测光值确定处理的流程图；图8A和8B是示出用于闪烁检测的电荷的积累定时和图像信号的读出定时的图；图9是示出垂直像素相加计数和读出时间之间的关系的图；图10是示出计算闪烁光源的光量的峰值的定时的方法的例子的示意图；图11是示出根据第一实施例的快门速度和通过测光校正值校正后的测光值之间的关系的图；图12是示出根据第二实施例计算测光校正值的方法的流程图；图13A～13E是各自示出根据第二实施例、通过利用近似进行的闪烁光源的波形预测来计算测光校正值的方法的例子的示意图；图14是示出根据第二实施例的快门速度和通过测光校正值校正后的测光值之间的关系的图；图15是根据第三实施例计算测光校正值的方法的流程图；图16A～16E是示出根据第三实施例、通过利用近似进行的闪烁光源的波形预测来计算测光校正值的方法的例子的示意图；图17是用于说明荧光灯和一些LED的光量的波形的图；以及图18是表示在闪烁环境下所获得的测光值的图。具体实施方式下面参考附图，详细说明将本专利技术应用于数字单镜头反光照相机的实施例。第一实施例图1A是根据本专利技术第一实施例的单镜头反光照相机的剖视图。参考图1A，拍摄镜头102安装在照相机机体101的正面。拍摄镜头102是可更换的。照相机机体101经由安装接点组112与拍摄镜头102电连接。在拍摄镜头102中配置光圈113以调整进入照相机的光量。调焦透镜116在光轴上移动以进行焦点调节。主镜103是半透半反镜。在取景器观察状态下，主镜103被倾斜设置在拍摄光路上，以将来自拍摄镜头102的拍摄光束向取景器光学系统反射。同时，透过主镜103的光经由副镜104进入AF单元105。在拍摄状态下，主镜103缩回到拍摄光路外。AF单元本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种摄像设备，其特征在于包括：摄像单元；计算单元，用于计算来自被摄体的光的光量变化特性；测光值确定单元，用于基于所述计算单元所计算出的光量变化特性，确定用于确定曝光条件所使用的测光值；以及曝光条件确定单元，用于基于所述测光值确定单元所确定的测光值，确定在基于所述计算单元计算出的光量变化特性所设置的定时进行所述摄像单元的曝光的情况下的曝光条件。

【技术特征摘要】
2013.11.20 JP 2013-240252;2014.05.20 JP 2014-104491.一种摄像设备，包括：摄像单元；检测单元，用于检测第一测光值；设置单元，用于基于所述第一测光值，设置所述摄像单元的第一曝光时间；以及计算单元，用于计算来自被摄体的光的周期性的光量变化特性，其特征在于，还包括：校正单元，用于基于所述设置单元所设置的第一曝光时间和所述计算单元计算出的周期性的光量变化特性之间的关系，校正所述第一测光值，以生成第二测光值；以及曝光条件确定单元，用于基于所述校正单元所生成的所述第二测光值，确定在所述计算单元计算出的周期性的光量变化特性的预定定时进行所述摄像单元的曝光的情况下的曝光条件。2.根据权利要求1所述的摄像设备，其中，随着所述设置单元所设置的所述第一曝光时间的缩短，所述校正单元校正所述第一测光值以增大所述第二测光值。3.根据权利要求1所述的摄像设备，其中，所述计算单元通过周期性地获得多个测光值，计算所述周期性的光量变化特性。4.根据权利要求1所述的摄像设备，其中，所述检测单元基于利用与所述周期性的光量变化特性的一个周期基本相对应的电荷累积周期所获得的图像信号，检测所述第一测光值。5.根据权利要求3所述的摄像设备，其中，所述计算单元通过周期性地获得分别与1.66毫秒的累积周期相对应的多个测光值，计算所述周期性的光...

【专利技术属性】
技术研发人员：菅原淳史，中川原尚幸，永井敬大，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP