高折射率表面处理剂以及使用其进行了表面处理的细小构件和光学材料制造技术

本发明专利技术公开了一种包含有机硅化合物的表面处理剂，所述有机硅化合物具有：直接地或经由化合价为(n+1)(n是等于1或更大的数)的官能团键合至硅原子的选自高度极性官能团、含羟基基团的基团、含硅原子的可水解基团或它们的金属盐衍生物的官能团，并具有处于分子中的至少一种结构，在所述至少一种结构中，所述硅原子键合至由R13SiO1/2、R12SiO2/2、R1SiO3/2和SiO4/2表示的任何硅氧烷单元，其中在25℃下的折射率为至少1.45。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种包含有机硅化合物的表面处理剂，所述有机硅化合物具有：直接地或经由化合价为(n+1)(其中n为等于1或更大的数)的官能团键合至硅原子的选自高度极性官能团、含羟基基团的基团、含硅原子的可水解基团或它们的金属盐衍生物的官能团；以及处于分子中的至少一种结构，在所述至少一种结构中，硅原子键合至由R13SiO1/2、R12SiO2/2、R1SiO3/2和SiO4/2表示的任何硅氧烷单元(其中R1为取代或未取代的单价烃基、氢原子、卤素原子、羟基基团、烷氧基基团，或者经由化合价为(n+1)的官能团键合至硅原子的选自高度极性官能团、含羟基基团的基团、含硅原子的可水解基团或它们的金属盐衍生物的官能团)；其中在25℃下的折射率为至少1.45。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：大川直，儿岛和彦，饭村智浩，古川晴彦，
申请(专利权)人：道康宁东丽株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP